Исследование кинетики формирования тонких пленок висмута на стекле,

Содержание

АННОТАЦИЯ 2
ВВЕДЕНИЕ 3
1. ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ 4
1.1 Кинетика формирования 4
1.1.1 Электронно-микроскопическое исследование начальной стадии образования тонких пленок 4
1.1.2 Анализ поверхностной плотности частиц и их распределения на
подложке 8
1.2. Количественное описание кинетики формирования конденсата 9
1.2.1 Коалесценция 12
1.3. Критическая толщина 14
1.4. Структура тонких пленок 19
1.4.1. Формирование структуры пленок 20
1.4.2. Эпитаксия 22
2. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ 24
2.1 Оборудование 24
2.1.1 Напылительная установка «Torr» 24
2.1.2. Контроллер 26
2.1.3 Металлографический микроскоп Axio Odserver 27
2.1.4. Фотометр фотоэлектрический КФК-3 28
2.2. Описание эксперимента 29
2.3 Статистические данные 32
2.4. Выводы 33
3. ЗАКЛЮЧЕНИЕ 34
БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК 35

Введение

Для того чтобы управлять свойствами тонкопленочных структур, которые широко применяются в современной электронике и наноэлектронике, необходимо знать законы и механизмы формирования микроструктур пленочных образцов. При этом важную роль играет коалесценция в результате которой образуются капли (кристаллики) вещества, в то время как остальная часть подложки остаётся не покрытой. Таким образом, получение тонких сплошных, островковых или сетчатых структур требуют знания кинетических закономерностей конденсации вещества на подложке. В данной работе мы получили пленки при помощи метода электронно-лучевого испарения на стеклянных подложках, пленки формировались в едином технологическом цикле при различном времени открытии заслонок.

Возникли сложности?

Нужна помощь преподавателя?

Помощь в написании работ!

ДИПЛОМНЫЕ МАГИСТЕРСКИЕ ДИССЕРТАЦИИ

КУРСОВЫЕ СТАТЬИ ВКР

Заключение

В ходе работы над проектом были решены все поставленные задачи, а именно:
- Получили серию образцов висмута
- С помощью микроскопа пронаблюдали за формированием микроструктуры тонкопленочных образцов.
- Измерить толщину пленок на установке КФК-3
- Произвести анализ полученных результатов и вывод

Литература

1. Ф. Ф. Комник. Физика металлических пленок. Кинетика образования тонких пленок. // М.: Атомиздат, 1979. - 33с.
2. L. Maissel, R. Glang. Handbook of Thin Film Technology. McGraw Hill Hook Company, 1970. V. 2. 768 p.
3. Нано- и микросистемная техника №5 «Исследование формирование островковых наноструктур в вакууме» 2011. -9с.
4. А.Иванов, Б.Смирнов. Электронно-лучевое напыление: технология и оборудование. // Наноиндустрия, #6, 36, 2012.
5. Иванов Г. А. Физические свойства полуметаллов типа висмута Г.
A. Иванов, В. М. Грабов // Физика и техника полупроводников— 1995. — Т. 29, №. 5. — С. 1040.
6. Hofmann P. The surfaces of bismuth: Structural and electronic properties / P. Hofmann // Prog. Surf. Sci [Текст]. —2006. — Vol. 81, № 5. P. 191- 245
7. Структура и свойства углеродных пленок, получаемых электронно-лучевым распылением в вакууме. Троицкий А.А., Березин
B. М., Лукашев В.С. // Вестник ЮУрГУ, № 34, серия «Математика. Механика. Физика», выпуск 7, 2012. - С. 130-137
8. Эдельман В. С. Свойства электронов в висмуте / В. С. Эдельман
//Успехи физических наук. — 1997. — Т. 123, №. 2.— С. 257-287.
9. В. А. Комаров, М. М. Климантов, М. М. Логунцова, С. Н. Пылина, Е. В. Демидов Кинетические явления и структура пленок висмута// Лист 11.04.04.2018.244 ПЗ Изм Лист № докум. Подпись Дата 39 Известия РГПУ им. А.И. Герцена / Санкт-Петербург: Изд-во РГПУим. А. И. Герцена, 2006.т.6, № 15
10. Гусев А.И. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. // М.: Физматлит, 2007. — 416 с.
11. Грабов В. М., Демидов Е. В., Комаров В. А. Атомно-силовая микроскопия пленок висмута // ФТТ. Т. 50, 2008.
12. Грабов В. М., Демидов Е. В., Комаров В. А., Климантов М. М. Атомно-силовая микроскопия декорированных оксидированием дефектов пленок висмута // ФТТ. Т. 51. 2009. С. 800-802.