🔍 Поиск готовых работ

🔍 Поиск работ

ФИЗИКО-МЕХАНИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА И СТРУКТУРА ПЛЕНОК ДИОКСИДА И ОКСИНИТРИДА ТИТАНА, ОСАЖДЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ

Работа №201617

Тип работы

Диссертации (РГБ)

Предмет

физика

Объем работы113
Год сдачи2016
Стоимость4355 руб.
ПУБЛИКУЕТСЯ ВПЕРВЫЕ
Просмотрено
21
Не подходит работа?

Узнай цену на написание


Оглавление 2
СПИСОК ОБОЗНАЧЕНИЙ И СОКРАЩЕНИЙ 4
ВВЕДЕНИЕ 5
ГЛАВА 1. ПРИМЕНЕНИЕ, СВОЙСТВА И ТЕХНОЛОГИЯ ОСАЖДЕНИЯ ПЛЕНОК ДИОКСИДА И ОКСИНИТРИДА ТИТАНА 11
1.1. Область применения пленок диоксида титана TiO2 11
1.2. Область применения пленок оксинитрида титана TiO2(1.X)Nx 12
1.3. Способы нанесения тонких пленок диоксида и оксинитрида титана 13
1.4. Реактивное ионно-плазменное распыление 14
1.5. Адсорбция реактивного газа на поверхности твердых тел 18
1.6. Отравление катода магнетрона 18
при реактивном магнетронном распылении 18
1.7. Особенности метода импульсного РМР 21
1.8. Ионная бомбардировка растущих пленок при импульсном распылении 27
1.9. Процесс формирования наноструктурных покрытий, изготовленных
реактивным магнетронным напылением при подаче отрицательного напряжения смещения на подложку 28
1.10. Исследования физико-механических характеристик нанокристаллических
покрытий 30
1.11. Методы исследования состава и кристаллической структуры пленок
диоксида титана TiO2и оксинитрида титана ТЮ2(1-х^х 33
Выводы к главе 1 37
ГЛАВА 2. МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ, ИСПОЛЬЗОВАННЫЕ В НАСТОЯЩЕЙ ДИССЕРТАЦИИ 39
2.1. Приготовление образцов 39
2.2. Метод спектроскопии комбинационного рассеяния 42
2.3. Вторично-ионная масс-спектрометрия (ВИМС) 48
2.4. Метод ренгенофазового анализа 52
2.5. Оже-электронная спектроскопия 52
2.6. Растровый электронный микроскоп 55
2.7. Методы исследования механических характеристик 55
2.7.1. Высокотемпературный трибометр (PC-Operated High Temperature
Tribometer THT-S-AX0000) 55
2.7.2. Нанотвердомер (Nano Hardness Tester NHT-S-AX-000X) 56
2.7.3. Трехмерный бесконтактный профилометр (Micro Measure 3D Station) .. 57
Выводы к главе 2 58
ГЛАВА 3. ИССЛЕДОВАНИЕ МЕХАНИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ПЛЕНОК TiO2 И Ti-O-N 59
3.1. Приготовление образцов 59
3.2. Определение микротвёрдости TiO2 и Ti-O-N покрытий 61
3.3. Триботехнические характеристики оксинитридных покрытий 66
Выводы к главе 3 71
ГЛАВА 4. ИССЛЕДОВАНИЕ СТРУКТУРЫ И ЭЛЕМЕНТНОГО СОСТАВА
ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ TIO2 И TI-O-N, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ
РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ 73
4.1. Результаты исследования элементного состава покрытий диоксида титана,
полученных реактивным магнетронным распылением 74
4.2. Результаты исследования элементного состава покрытий Ti-O-N,
полученных методом реактивного магнетронного распыления 77
4.3. Результаты исследования структурного состава покрытий TiO2, полученных методом реактивного магнетронного распыления 80
4.4. Исследование фазового состава оксинитридных покрытий Ti-O-N,
полученных методом реактивного магнетронное распыления 90
Выводы к главе 4 94
ЗАКЛЮЧЕНИЕ 95
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ 97


Общая характеристика работы: Диссертационная работа посвящена исследованию структурно-фазового состояния и физико-механическим свойствам покрытий диоксида и оксинитрида титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления.
Актуальность работы:
Спектр применения технологий осаждения пленок диоксида и оксинитрида титана очень широк: от медицины до различных областей техники, в том числе в антиотражающих покрытиях и диффузионных барьерах. Диоксид титана из-за его высокой фотокаталитической активности используют для очищения от вредных органически сложных соединений. Покрытия TiO2обладают разными фотокаталитическими свойствами. Однако до сих пор не было достоверных корреляций, связывающих активность с каким-либо свойством поверхности.
Экспериментально установлено, что только пленки диоксида титана со структурой анатаз обладают фотоактивностью. Для их изготовления используют в основном химические методы, в частности золь-гель метод, но у них имеются недостатки. Нагрев температуры подложки выше 600° С вредит экологии, так как происходит выброс вредных веществ в окружающую среду. Они имеют ограничения по форме и площади изготовления изделий. Однако таких недостатков лишен метод реактивного магнетронного распыления, к тому же ему присуща высокая скорость напыления, что является одним из его преимуществ.
Известно, что функциональные возможности наночастиц диоксида титана определяются их свойствами. Переход к наноразмерной форме диоксида титана расширяет возможности его использования в различных областях промышленности. Управлять размерами кристаллитов при напылении возможно:
а) подачей отрицательного напряжения смещения на подложку;
б) управляя соотношением смеси рабочего и реактивного газа.
Метод напыления с подачей отрицательного смещения на подложку позволяет получать пленки более высокой чистоты и варьировать параметрами кристаллической структуры. Кроме того, в настоящее время интенсивно развивается способ увеличения эксплуатационных свойств рабочих слоев изделий путем создания износостойких нанопокрытий на основе оксинитридов и диоксидов титана, обеспечивающих снижение коэффициента трения. Как известно, для повышения износостойкости материала следует увеличить его твердость. В настоящее время проблема улучшения износостойкости материалов остается открытой. Для этих целей широко исследуются оксинитридные покрытия с различными способами их нанесения в связи с тем, что они обладают высокой твердостью, антикоррозионными свойствами, биологической индифферентностью, совместимостью с тканями человека.
При подаче на подложку отрицательного потенциала смещения одновременно с процессом осаждения покрытия происходит направленное движение к ней положительно заряженных ионов с высокой энергией, как ионов рабочего газа, так и ионов распыляемой мишени. Увеличивается количество адсорбированных атомов на поверхности подложки, а вследствие этого возрастает их энергия и время миграции. Это приводит к распылению растущего покрытия, интенсивному перемешиванию атомов поверхности и напыляемых на ней частиц, способствуя утолщению переходного слоя пленка - подложка. Используя подачу отрицательного напряжения смещения на подложку, можно управлять процессом роста покрытия при напылении. Выбор параметров и режимов напыления влияет на формирование покрытий оксинитрида и диоксида титана с определенными свойствами. В связи с этим необходимо проведение экспериментальных исследований для решения вопросов, связанных с влиянием тех или иных параметров напыления на структуру, фазовый и элементный состав, физико-механические свойства покрытий.
Степень разработанности: В литературе встречается ряд работ [1-7], посвященных обсуждению значений подаваемого напряжения отрицательного смещения на подложку при напылении и приводятся результаты этих исследований. Соответственно, опираясь на имеющиеся в настоящее время данные, были выбраны оптимальные режимы реактивного магнетронного напыления покрытий диоксида и оксинитрида титана. Актуальной задачей для спектроскопии комбинационного рассеяния является получение новых методов для идентификации спектров наноматериалов различных модификаций. В настоящее время определены спектры комбинационного рассеяния диоксида и оксинитрида титана, выполненные в виде крупнозернистых порошков и массивных кристаллитов, изготовленных химическими методами [8]. На сегодняшний день в библиотеке данных рамановской спектроскопии отсутствует информация по идентификации спектров наноструктурированных покрытий диоксида и оксинитрида титана.
Цель диссертационной работы: разработка наноструктурированных покрытий диоксида и оксинитрида титана с повышенными эксплуатационными характеристиками методом реактивного магнетронного распыления.
В соответствии с этой целью были поставлены следующие задачи:
1. Исследование влияния отношения смеси газов O2/Ar и отрицательного электрического напряжения смещения (исм= - 60; -100 В) на элементный и структурный состав пленок TiO2.
2. Исследование твердости, модуля упругости, коэффициента трения и модуля упругого восстановления покрытий TiO2и TiON, осажденных методом реактивного магнетронного распыления как в режиме заземленной подложки, так и при подаче отрицательного напряжения смещения на неё.
3. Исследование закономерностей влияния структурно-фазового состояния покрытий TiON на их физико-механические свойства (твердость, модуль упругости, коэффициент трения).
Положения, выносимые на защиту:
1. В зависимости от отношения содержания газов O2/Ar при напылении изменяется стехиометрия покрытия (при изменении отношения O2/Ar от 3.5:0.05 до 1:1 уменьшается содержание кислорода в покрытии в три раза) и размер наночастиц TiO2(от 13.6 нм до 8.2 нм).
2. Покрытия оксинитрида титана, полученные методом реактивного магнетронного распыления в режиме отрицательного напряжения смещения на подложке (исм= - 60 В), обладают более высоким значением микротвердости (увеличивается в два раза), низким значением коэффициента трения (уменьшается в три раза) и высоким значением упругого восстановления (увеличивается в 1.5 раза) по сравнению с покрытиями оксинитрида титана, осажденными в режиме отрицательного смещения на подложке (исм= -100 В).
3. При подаче отрицательного напряжения смещения на подложку (исм= - 60 В) при напылении покрытий оксинитрида титана вместо структуры анатаза (как в большинстве химических методах и в методе реактивного магнетронного распыления в режимах без смещения (исм= 0) и со смещением (-100 В)) формируется пленка со структурой рутила.
Научная новизна:
1. Впервые показано, что использование метода реактивного магнетронного распыления со смещением (исм= - 60 В) при напылении покрытий оксинитрида титана приводит к значительному изменению физико-механических свойств (твердости, коэффициента упругости, коэффициента трения) по сравнению с покрытиями TiON, изготовленными со смещением (исм = -100 В) и без смещения на подложке. Твердость для таких покрытий увеличилась примерно в 2 раза и составила 29.3 ГПа, коэффициент трения уменьшился в три раза, равен 0.16, а коэффициент упругого восстановления увеличился примерно в 1.5 раза и достиг значения 85%.
2. Установлена зависимость влияния размера частиц на частоту (v) колебаний оптических фононов линии Eg1в спектре рамановского смещения наноразмерного анатаза, полученного методом реактивного магнетронного распыления в режиме отрицательного напряжения смещения (- 60 В) на подложке. В зависимости от отношения содержания газов O2/Ar при напылении изменяется как стехиометрия покрытия (при уменьшении этого отношения уменьшается содержание кислорода в покрытии), так и размер наночастиц TiO2.
3. Впервые установлено, что характер спектра комбинационного рассеяния света в покрытиях диоксида титана, изготовленных реактивным магнетронным распылением, определяется двумя причинами:
а) отклонением от стехиометрии основных компонентов покрытия TiO2(при уменьшении содержания кислородсодержащих компонентов в покрытии TiO2 наблюдается уширение линий рамановского спектра);
б) дисперсией размеров частиц (при уменьшении размеров частиц TiO2в нанометровой области наблюдается уменьшение интенсивности, размытие и смещение линий спектра).
4. Впервые с помощью рамановской спектроскопии были определены режимы осаждения анатазной и рутильной формы покрытий оксинитрида титана, изготовленных методом реактивного магнетронного напыления .
Объектом исследования являлись наноструктурированные покрытия диоксида и оксинитрида титана, осажденные методом реактивного магнетронного напыления.
Предмет исследования: закономерность формирования фазового состояния наноструктурированных покрытий диоксида и оксинитрида титана от режимов осаждения реактивного магнетронного напыления.
Методология и методы исследования: экспериментальное исследование структуры и свойств покрытий диоксида и оксинитрида титана.
Методами исследования структурного, элементного и фазового состава покрытий являлись: спектроскопия комбинационного рассеяния, рентгеноструктурный фазовый анализ, атомно-силовой микроскоп, растровый электронный микроскоп, оже-электронная спектроскопия, вторично-ионная масс- спектрометрия. Были проведены исследования механических характеристик (микротвердость, коэффициент трения, модуль упругости, модуль упругого восстановления).
Теоретическая значимость работы: Полученные результаты позволили установить закономерности изменения физико-механических свойств и параметров кристаллической структуры покрытий TiON и TiO2в зависимости от режимов реактивного магнетронного распыления.
Практическая значимость работы: заключается в возможности использования полученных результатов при разработке технологий изготовления наноструктурированных покрытий на основе оксинитрида и диоксида титана с повышенными эксплуатационными характеристиками в качестве фотокатализаторов и самоочищающихся покрытий.
Степень достоверности и апробации работы подтверждается тем, что все исследования проводились с использованием современного и сертифицированного оборудования и сопоставлением полученных результатов с экспериментальными данными, имеющимися в настоящее время по данной тематике в литературе.
Материалы диссертации были представлены и обсуждены на международных и всероссийских конференциях: ХХ11 Международная конференция «Взаимодействие ионов с поверхностью», Москва, 2015; XXI Международная конференция «Взаимодействие ионов с поверхностью», Ярославль, 2013; Международная конференция студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук», Томск, 2005; XVII Международная конференция «Взаимодействие ионов с поверхностью», Звенигород, 2005. И выполнением исследований по следующим темам:
1. Госзадания “Наука” в рамках научного проекта № 1524.
2. Мегагрант по направлению «Технологии водородной энергетики». Договор № 11.G 34.31.0003 от «01» декабря 2010 г. между Минобрнауки РФ и НИ ТПУ и ведущим ученым.

Возникли сложности?

Нужна помощь преподавателя?

Помощь в написании работ!
ДИПЛОМНЫЕ МАГИСТЕРСКИЕ ДИССЕРТАЦИИ
КУРСОВЫЕ СТАТЬИ ВКР

Основные научные выводы диссертационной работы состоят в следующем:
1. Разработана методика определения спектров комбинационного рассеяния наноструктурированных покрытий диоксида и оксинитрида титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления.
2. Установлена зависимость влияния размера частиц на частоту (v) колебаний
оптических фононов линии Eg1 в спектре рамановского смещения наноразмерного анатаза, полученного методом реактивного магнетронного распыления в режиме отрицательного напряжения смещения (исм= - 60 В) на подложке. В зависимости от отношения содержания газов O2/Ar при напылении изменяется стехиометрия покрытия (при уменьшении этого отношения уменьшается содержание кислорода в покрытии) и размер наночастиц TiO2.
3. Установлено, что формирование спектра комбинационного рассеяния покрытий диоксида титана, изготовленных реактивным магнетронным распылением, определяется как отклонением от стехиометрии основных компонент покрытия TiO2, так и квантово-механическим эффектом.
4. Покрытия Ti-O-N, изготовленные методом реактивного магнетронного распыления в режиме отрицательного напряжения смещения на подложке (-60; -100 В), обладают:
высокой твердостью: H = 15-29 Гпа, низким коэффициентом трения: ц = 0.14-0.3.
5. Используя режим напыления с отрицательным напряжением смещения (UCM=
- 60 В) при напылении покрытий оксинитрида титана, можно увеличить их твердость в два раза, коэффициент трения уменьшить в три раза, а коэффициент упругого восстановления увеличить в 1.5 раза.
6. Исследования фазового состава с помощью спектроскопии комбинационного рассеяния покрытий оксинитрида титана, изготовленных реактивным магнетронным распылением, позволили определить режимы осаждения анатазной и рутильной формы покрытий оксинитрида титана.



1. Технология тонких пленок. Справочник / Под ред. Л. Майсела, В. Глэнга. Пер.
с анг. - М.: Сов. Радио, 1977. - T.1. - 662 с.
2. Наумов, В.В. Получение пленок фианита на кремниевой подложке / В. В. Бочкарев, В. Ф. Бочкарев, О. С. Трушин О.С. // Неорганические материалы, 1998.- Т.34. - №.1.- С.51-61.
3. Li, L. Epitaxy Development in thin Superconducting YBa2Cu3O7 Films / L. Li, W.
B. Nowak // J. Vac. Sci. Technol. A. - 1994. - V. 12(4). - P.1584-1594.
4. Misra, A. Structure and mechanical properties of Cu-X (X= Nb, Cr, Ni) nanolayered
composites / A. Misra, M. Nastasi // Appl. Phys. Lett., 1999. -V.75. - №. 20. - P. 3123-3125.
5. Chiu, K.-F. Microstructure modification of silver films deposited by ionized
magnetron sputter deposition / K.-F. Chiu, M.G. Blanire, Z. H. Barber // J.Vac. Sci. Technol. A. - 1999. - V. 17(5). - P. 2891-2895.
6. Оптические, структурные и фотокаталитические свойства наноразмерных пленок диоксида титана, осажденных в плазме магнетронного разряда / А. А., А. А. Гончаров, А.Н. Добровольский и др. // Журнал технической физики. - 2014.- Т. 84.- Вып. 6. - С. 98-106.
7. Трушин, О. С. Контроль стехиометрии тонких пленок методом рентгено-флуоресцентного спектрального анализа / О. С. Трушин, В. В. Наумов, В. Ф. Бочкарев // Заводская лаборатория. -1995, - № 8, - С. 20-22.
8. Киселева, Е.С. Исследование состава, оптических свойств покрытий на основе
диоксида титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления / Е. С. Киселева, Н. Н. Никитенков, В. Ф. Пичугин и др. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2014. - №.12, - С. 21-25.
9. Xuemei, S. Characterization of titanium oxynitride films deposited by low pressure
chemical vapor deposition using amide Ti precursor / S. Xuemei, G. Deepthi, G. T. Christos // Thin Solid Films. - 2008. - P. 6330-6335.
10. Trenczek-Zajac, A. Structural and electrical properties of magnetron sputtered Ti (ON) thin films: The case of TiN doped in situ with oxygen /A. Trenczek-Zajac, M. Radecka, K. Zakrzewskab // Journal of Power Source. - 2009. - P. 93-103.
11. Chandra, M. Anatase and rutile TiO2 films deposited by arc-free deep oscillation
magnetron sputtering / M. Chandra, P. Sekhara, V. Kondaiaha et al. // Applied
Surface Science. - 2011. - V. 258. - P. 1789-1792.
12. Шульга, Ю. М. Исследование методом комбинационного рассеяния фазовых превращений наноструктурированного анатаза TiO2в результате ударного сжатия / Ю. М. Шульга, Д. В. Матюшенко, А. А. Голышев и др. // Письма в ЖТФ, 2010. - Т. 36, - № 18. - С. 27-30.
13. Lintymer, Jan. Metallic oxynitride thin films by reactive sputtering and related deposition methods: process, properties and applications / Jan. Lintymer, Jean- Marie Chappe' a, Nicolas Martin a // Applied Surface Science. - 2007. - P. 5312¬5326.
14. Шаповалов, В. И. Пленки оксида тантала в задачах экологии: технология, состав, структура, свойства // Вакуумная техника и технология, 2007. - Т. 17, - № 3. - С. 233-256.
15. Кудрявцева, Е. Н. Исследование покрытий на основе оксидов и оксинитридов титана комплексом методов / Е. Н. Кудрявцева, В. Ф. Пичугин, Н. Н. Никитенков // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные. - 2012. - №.8. - C. 1-5.
16. Wang, Z. Optical Properties of Anatase TiO2 Thin Films Prepared by Aqueous Sol - Gel Process at Low Temperature // Thin Solid Films, 2002. -Vol. 405. - P. 50-54.
17. Fujishima, A. TiO2 photoelectrochemistry and photocatalysis / A. Fujishima, K. Honda // Nature.- 1972. - V. 37. - P. 238.
18. Fujishima, A. Preparation of unique TiO2 nano-particle photocatalysts by a multi¬gelation method for control of the physicochemical parameters and reactivity / A. Fujishima, T. Rao, D. Tryk // J. Photochem. Photobiol. C. - 2000. - V. 1, - N.1, - P. 1-21.
19. Thin titanium oxide films deposited by e-beam evaporation with additional rapidthermal oxidation and annealing for ISFET applications / К. Barros, К. Albertin, J. Miyoshi et al. // Microelectronic Engineering. - 2010. - V. 87. - P. 443-446.
20. Patterning titania with the conventional and modified micromolding in capillaries technique from sol-gel and dispersion solutions / Н. Fukuda, S. Maeda, K. M. Salam et al. // Jpn. Appl. Phys. - 2002. - V. 41. - P. 6215-6217.
21. Neurogenesis, angiogenesis, and more indices of functional recovery from stroke / Zhang, I.Y., J. Lu. K. Onodera, et al. // Sensors and Actuators, 2007. - V. 139. - P. 337-342.
22. Cheng, H. E. The effect of substrate temperature on the physical properties of tantalum oxide thin films grown by reactive radio-frequency sputtering // Mater. Research Bulletin, 2003. - V.38. - P. 1841-1849.
23. Gan, J.Y. Dielectric property of (TiO2)x-(Ta2O5)1-x thin films / J.Y. Gan, Y. C. Chang, T. B. Wu // Appl. Phys. Lett. - 1998. - V. 72, - № 3. - P. 332-334.
24. Campbell, S. Structural and Electrical Properties of Crystalline TiO2 Thin Films Formed by Metalorganic Decomposition / S. Campbell, H. Kim, D. Gilmer // IBM Journal of Research and Development. - 1999. - V. 43. - P. 383.
25. Kaliwoh, N. Conductivity in transparent anatase TiO2 films epitaxially grown by reactive sputtering deposition / N. Kaliwoh, J. Y. Zhang, W. Boyd // Appl. Sur. Science. - 2000. - V. 168. - P. 13-16
26. Johnson, R. Electronic structure of noncrystalline transition metal silicate and aluminate alloys / R. Johnson, G. Lucovsky, J. Hong // Microelectronic Engineering. - 2001. - P. 385-391.
27. Molecular profiling approaches for identifying novel biomarkers / M. Ulrich, R. Johnson, J. Hong et al. // J. Vac. Sci. Technol. B. - 2002. - V. 20, - № 4. - P. 1732-1738.
28. Takahashi, T. M. Asada, Masugata K. Production of Highly Lubricious Ti-Based Ceramic Films for Reducing Friction between Web and Transiting Roller / T. Takahashi, M. Asada, K. Masugata // Thin Solid Films. - 1999. - V. 343. - P. 273-276.
29. Venkataraj, S. Properties of Titanium Oxynitride Prepared by RF Plasma / S. Venkataraj, D. Severin, S. Mohamed // Thin Solid Films. - 2006. - V. 502. - P. 228-234.
30. Optimization of interference filters with genetic algorithms applied to silver-based heat mirrors / T. Eisenhammer, M. Lasarov, M. Leutbecher et al. // Appl. Opt. - 1993. - V.32. - P. 6310-6314.
31. Lazarov, M. Optical constants and film density of TiN x O y solar selective absorbers / M. Lazarov, P. Raths, H. Metzger // J. Appl. Phys. - 1995. - V. 77, - № 5. - P. 2130-2137.
32. Nunes, С. Novel nanocomposite coatings with dispersed organic nanoparticles for solar absorbers / C. Nunes, V. Teixeira, M. Prates // Thin Solid Films. - 2003. - V. 442. - P. 173-178.
33. Rawal, S. K. Morphological study of magnetron sputtered Ti thin films on siliconsubstrate / S. K. Rawal, A. K. Chawla, V. Chawla // Applied Surface Science. -
2010. - V. 256. - P. 4129-4135.
34. Pradhan, S. Growth of TiO2, by metalorganic chemical vapor deposition / S. Pradhan, P. Reucroft // J. Cryst. Growth. - 2003. - V. 250. - P. 588-594.
35. Miyoshi, J. TiN/titanium-aluminum oxynitride/Si as new gate structure for 3D MOS technology / J. Miyoshi, L. Lima, J. Diniz // Microelectronic Engineering.-
2011. - P.140-144.
36. Miyoshi, J. Titanium-aluminum oxynitride (TAON) as high-k gate dielectric for sub-32 nm CMOS technology / J. Miyoshi., Diniz J, A. Barros // Microelectronic Engineering.- 2010. - V. 87, - № 3. - P. 267-270.
37. Cuong, N. Structural and electrical properties of TiNxOy thin-film resistors for 30 dB applications of п-type attenuator / N. Cuong, D. Kim, B. Kang // J. Electrochem. Soc. - 2006. - V. 153, - № 9. - P. 856-859.
38. Cuong, N. Detection of Mitochondrial ATP-Sensitive Potassium Channels in Rat Cardiomyocytes / N. Cuong, D. J. Kim, B. D. Kang // Microelectronics Reliability. - 2007. - V. 47. - P. 752-754.
39. Исследование структуры, элементного и фазового состава покрытий на основе оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления / Н. Н. Никитенков, Е. С. Киселева, М. Е. Конищев и др. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования.- 2014, - № 12, - C. 1-5.
40. Zhang, J. Y. Effects of physical and morphometric factors on nutrient removal properties in agricultural ponds / J.Y. Zhang, K. Onodera // Sensors and Actuators A. - 2007. - V. 139. - P. 337-342.
41. Prabakar, K. Visible light-active nitrogen-doped TiO2 thin films prepared by DCmagnetron sputtering used as a photocatalyst / K. Prabakar, T. Takahashi, T. Nezuka // Renewable Energy. - 2008. - V. 33. - P. 277-281.
42. Cuong, N. Preparation of TiC)vN/TiN composites for photocatalytic hydrogen evolution under visible light / N. Cuong, D. J. Kim, B. D. Kang // Microelectronics Reliability. - 2007. - V. 47. - P. 752-754.
43. Lin, M. C. Fabrication and evaluation of electrochemical characteristics of the composite cathode layers for the anode supported solid oxide full cell / M. C. Lin L. S. Chang, H. Lin // Applied Surface Science.- 2008. - V. 254. - P. 3509-3516.
44. Severin, D. Increase of the deposition rate in reactive sputtering of metal oxidesusing a ceramic nitride target / D. Severin, O. Kappertz, T. Kubart // Applied Physics Letters. - 2006. -V. 8. - P. 161-164.
45. Glaser, A. Oxidation of vanadium nitride and titanium nitride coatings / A. Glaser, S. Surnev, F. Netzer // Surface Science.- 2007.- V. 601. - P. 1153-1159.
46. Balaceanu, M. Effect of low-level monochromatic radiations on some morphological and physiological parameters of plants / M. Balaceanu, V. Braic, M. Braic // Surface and Coatings Technology.- 2008. - P. 123-133.
47. Nakano, Y. Electrical characterization of p-type N-doped ZnO films prepared by thermal oxidation of sputtered Zn3N2 films / Y. Nakano, T. Morikawa, T. Ohwaki // Applied Physics Letters. - 2005. - V. 86 . -P. 132-144.
48. Martin, N. Water as reactive gas to prepare titanium oxynitride thin films by reactive sputtering / N. Martin, J. Lintymer, J. Gavoille // Surface and Coatings Technology.- 2007. - V. 201. - P. 7720-7726.
49. Chappe, J. M. Metallic oxynitride thin films by reactive sputtering and related deposition methods: process, properties and applications / J. M., Chappe, N. Martin, J. Lintymer // Applied Surface Science. - 2007. - V. 253. - P. 5312-5316.
50. Chan, M. H. High strength Ti-Fe-Sn ultrafine composites with large plasticity / M. H. Chan, F. H. Lu // Surface and Coatings Technology.- 2008. - V. 203, - № 5. - P. 614-618.
51. Park, S.W. Growth of mycobacteria on carbon monoxide and methanol / S. W Park, J. Heo // Separation and Purification Technology. - 2007. - V. 58. - P. 200-205.
52. Nakano, Y. Electrical characterization of band gap states in C-doped TiO2 films / Y. Nakano, T. Morikawa, T. Ohwaki // Chemical Physics. - 2007. - V. 339. - P. 20¬26.
53. Radecka, M. Study of N-doped TiO2 thin films for photoelectrochemical hydrogen generation from water / M. Radecka, E. Pamula, A. Trenczek-Zajac // Solid State Ionics. - 2011. - V. 192. - P. 693-698
54. Rawal, S. K. Effect of ambient gas on structural and optical properties of titaniumoxynitride films / S. K. Rawal, A. K. Chawla, V. Chawla // Applied Surface Science. - 2010. - V. 256. - P. 4129-4135.
55. Lin, M. Surface - enhanced Raman scattering (SERS) / M. Lin M., M. J. Chen Chang L. S. // Applied Surface Science, 2010. - V. 256. - P. 7242-7245.
56. Lin, M. Effects of cardiotoxin III on NF-kappa B function, proliferation, and apoptosis in human breast MCF-7 cancer cells / M. Lin, L. S. Chang, H. Lin // Surface and Coatings Technology.- 2008. - V. 202. - P. 5440-5443.
57. Obata, K. Effect of Tantalum Doping on TiO2 Nanotube Arrays for Water-Splitting/ K. Obata, H. Irie, K. Hashimoto // Chemical Physics.- 2007. - V. 339. - P. 124¬132.
58. Lazarov, M. Performance of surface and volumetric solar thermal absorbers / M. Lazarov, P. Raths, H. Metzger // J. Appl. Phys. - 1995. - V. 77, - № 5. - P. 2133¬2137.
59. Miyoshi, J. Thin titanium oxide films deposited by e-beam evaporation withadditional rapid thermal oxidation and annealing for ISFET applications / J. Miyoshi, J. Diniz, A. Barros // Microelectronic Engineering.- 2010. - V. 87, - № 3. - P. 267-270.
60. Li, Q. Visible-Light-Induced Bactericidal Activity of Titanium Dioxide Co-doped
with Nitrogen and Silver / Q. Li, W. Liang, J. Shang J. K. // Applied Physics
Letters. - 2007. - V. 90. - P. 63-109.
61. Somekawa, S. Carbon nanotubes synergistically enhance photocatalytic activity ofTiO2 / S. Somekawa, Y. Kusumoto, M. Ikeda // Catalysis Communications, 2008. - V. 9. - P. 437-440.
62. Mi, L. First-principles study of the hydrogen doping influence on the geometric and electronic structures of N-doped TiO2/ L. Mi, P. Xu, H. Shen // Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry. - 2008. - V. 193. - P. 222-227.
63. Chambers, S. Properties of structurally excellent N-doped TiO2 rutile // S. Chambers, S. Cheung, V. Shutthanandan // Chemical Physics. - 2007. - V. 339. - P. 27-35.
64. Duminica, F. D. Growth of TiO2 thin films by AP-MOCVD on stainless steel substrates for photocatalytic applications / F. D. Duminica, F. Maury // Surface and Coatings Technology. - 2008. - V. 202. - P. 2423-2427.
65. Song, X. Structural and electrical properties of magnetron sputtered Ti(ON) thin films: The case of TiN doped in situ with oxygen / X. Song, D. Gopireddy, C. G. Takoudis // Thin Solid Films. - 2008. - V. 516, - № 18. - P. 6330-6335.
66. Morikawa, T. Influence of the surface morphology and microstructure on the biological properties of Ti-Si-C-N-O coatings / T. Morikawa, T. Ohwaki, K. Suzuki // Applied Catalysis B: Environmental. - 2008. - V. 83. - P. 56-62.
67. Gu, D. E. Facile preparation of micro-mesoporous carbon-doped TiO2
photocatalysts with anatase crystalline walls under template-free condition / D. E.
Gu, B. C. Yang, Y. D. Hu // Catalysis Communications, 2008. - V. 9. - P. 1472¬1476.
68. Xu, J. Synthesis of Bi2O3-TiO2 composite film with high-photocatalytic activity under sunlight irradiation / J. Xu, Y. Ao, D. Fu // Journal of Crystal Growth. - 2008. - V. 310, - № 19. - P. 4319-4324.
69. Yamada, K. Structural and electrical properties of magnetron sputtered Ti(ON) thin films: The case of TiN doped in situ with oxygen / K. Yamada, H. Yamane., S. Matsushima // Thin Solid Films. - 2008. - V. 516. - P. 7482-7487.
70. Zhang, J. Direct growth of single-walled carbon nanotubes without metallic residues by using lead as a catalyst / J. Zhang, Y. Wang, Z. Jin // Applied Surface Science.- 2008. - V. 254. - P. 4462-4466.
71. Kang, I. C. UV, visible and near-infrared lights induced NOx destruction activity of (Yb, Er)-NaYF4/C-TiO2 composite / I. C. Kang, Q. Zhang, S. Yinet // Applied Catalysis B: Environmental. - 2008. -V. 84, - № 3. - P. 570-576.
72. Duminica, F. D. Coexistence of several structural phases in MOCVD TiO2 layers: evolution from nanometre to micrometre thick films / F. D. Duminica, F. Maury, F. Hausbrand // Surface and Coatings Technology. - 2007. - V. 201. - P. 9349¬9353.
73. Maury, F. Diagnostic in CVD processes by IR pyrometry / F. Maury, F. D. Duminica // Surface and Coatings Technology. - 2010. - V. 205. - P. 1287-1293.
74. Chen, X. Chemical mapping of a single molecule by plasmon-enhanced Ramanscattering / X. Chen, X. Wang, Y. Hou // Journal of Catalysis. - 2008. - V 255. - P. 59-67.
75. Pomoni, K. The photoconductivity of the sol-gel derived TiO2 films / K. Pomoni, A. Vomvas, С. Trapalis // Thin Solid Films, 2008. -V. 516. - P. 1271-1278.
76. Valentin, C. D. Partially hydroxylated polycrystalline ionic oxides: a new routetoward electron-rich surfaces / C. D. Valentin, E. Finazzi, G. Pacchioni // Chemical Physics. - 2007. - V. 339. - P. 44-56.
77. Sulfur Cathodes with Hydrogen Reduced Titanium Dioxide Inverse Opal Structure / X. Chen, P. A. Glans, X. Qiu et al. // Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. - 2008. - V. 162. - P. 67-73.
78. Sathish, M. Synthesis, characterization, electronic structure, and photocatalytic
activity of nitrogen-doped TiO2 nanocatalyst / M. Sathish, B. Viswanathan, R.
Viswanath // Applied Catalysis B: Environmental, 2007. - V. 74. - P. 307-312.
79. Особенности формирования толстопленочных покрытий на основе диоксида титана / Т. В. Молодечкина, А. В. Васюков, М. О. Молодечкин и др. // Новые материалы и технологии в машиностроении: материалы 7-й междунар. науч.- техн. Интернет - конф. Брянск, 2007. - С. 215-218.
80. Song, X. Deposition and characterization of TiAlN/TiAlON/Si 3N tandem absorbers prepared using reactive direct current magnetron sputtering // Thin Solid Films, 2008. -V. 516, - № 1. - P. 6330-6335.
81. Канарёв, Ф.М. Начала физ. химии микромира. -Краснодар, 2002. - 320 c.
82. Venkataraj, S. Preparation, characterization and application of Nd-TiO2
photocatalyst for the reduction of Cr (VI) under UV light illumination / S. Venkataraj, D. Severin, S. Mohamed // Thin Solid Films. - 2006. - V. 502. - P. 228-234.
83. Ивановский, Г.Ф. Ионно-плазменная обработка материалов. - Москва: Радио и связь, 1986.- 232 c.
84. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Физическое распыление одноэлементных твердых тел: Пер. с англ. // Под ред. Бериша Р.М.: Мир, 1984. - 336 c.
85. Физико-химические особенности плазмо-химической обработки материалов микроэлектроники в СВЧ разряде / А. П. Достанко, С. В. Бордусов, М. Н. Босяков и др.// Плазменные методы обработки в технологии изделий микроэлектроники: Материалы семинара в ЦНИИ информации.- М., 1988.- C. 11-13.
86. Химическая энциклопедия. В 5-и т. Гл. ред. Кнунянц И. Л. // Москва: Сов. Энциклопедия, 1988.- 3363 c.
87. Киселев, А.В. Межмолекулярные взаимодействия в адсорбции и хроматографии. Москва: Высш. шк., 1986. - 360 с.
88. ZrOxNy decorative thin films prepared by the reactive gas pulsing process / S. Schiller, U. Heisig U, K. Steinfelder et al. // Vakuum technik.- 1981. - V. 30. - P. 1-21.
89. Reactive sputtering with the magnetron-plasmatron for tantalum pentoxide and titanium dioxide films / S. Schiller, U. Heisig, K. Goedicke, K. Schade et al. // Thin Solid Films. - 1979. - V. 64. - P. 455-467.
90. Maniv, S. Voltage-controlled DC reactive magnetron sputtering of indium-doped zinc oxide films // J. Appl. Phys, 1980. - V. 51, - № 1. - P. 718-725.
91. Tsiogas, С. D. Pressure and angle of incidence effects in reactive planar magnetron sputtered ZnO layers / С. D. Tsiogas, J. N. Avaritsiotis // J. Appl. Phys. - 1992. -V. 71, - № 10. - P. 5173-5182.
92. Maniv, S. Surface characteristics of titanium targets and their relevance to sputtering performance // J. Vac. Sci. Technol.- 1980. -V. 3, - № 3. - P. 743-751.
93. Aronson, A. J. Preparation of titanium nitride by a pulsed d.c. magnetron reactive deposition techniques using the moving mode of deposition / A. J. Aronson, D. Chen, W. H. Class // Thin Solid Films.- 1980. - V. 72. - P. 535-540.
94. McMahon, R. Advances in high rate sputtering with magnetron-plasmatron processing and instrumentation / R. McMahon, J. Affinito R. R. Parsons // J. Vac. Sci. Technol. - 1982. -V. 20, - № 3. - P. 376-378.

Работу высылаем на протяжении 30 минут после оплаты.




©2025 Cервис помощи студентам в выполнении работ
.