Тип работы:
Предмет:
Язык работы:


ЛЮМИНЕСЦЕНТНЫЕ СВОЙСТВА ИМПЛАНТИРОВАННЫХ ПЛЕНОК SIO2 С КВАНТОВЫМИ ТОЧКАМИ

Работа №101804

Тип работы

Авторефераты (РГБ)

Предмет

физика

Объем работы24
Год сдачи2013
Стоимость250 руб.
ПУБЛИКУЕТСЯ ВПЕРВЫЕ
Просмотрено
124
Не подходит работа?

Узнай цену на написание


ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА РАБОТЫ
ОСНОВНОЕ СОДЕРЖАНИЕ РАБОТЫ
Заключение
Публикации

Актуальность проблемы. Исследования низкоразмерных и наноструктурированных материалов относятся к наиболее активно развивающемуся направлению современной физики конденсированного состояния. В таких исследованиях важное место отводится изучению люминесцентно-оптических свойств квантово-размерных систем, что связано с необходимостью решения новых фундаментальных и прикладных проблем оптоэлектроники и нанофотоники. В круг подобных проблем входят ионно-лучевой синтез эффективных светоизлучающих структур на базе непрямозонных полупроводников, интеграция на одном чипе световодов, оптических усилителей, элементов памяти и др.
Благодаря уникальным свойствам и возможности регулирования спектральных характеристик, наибольший научный и практический интерес представляют композитные структуры с квантовыми точками в диэлектрических матрицах. Под квантовыми точками понимаются квазинульмерные образования (0И) с дискретным спектром электронных состояний, в которых электронные возбуждения (носители заряда или экситоны) претерпевают квантовое ограничение по всем трем измерениям. Варьирование размеров, формы, структуры и состава полупроводниковых квантовых точек (сульфидных, карбидных, оксидных и др.) позволяет управлять целым комплексом их электронно-оптических свойств.
Свойства низкоразмерных структур сильно отличаются от таковых для объемных материалов, характеризуются квантовыми эффектами и могут быть адекватно описаны лишь с применением комплекса современных методов исследования. В настоящее время использование оксидных структур с полупроводниковыми квантовыми точками ограничивается недостаточным знанием их энергетического строения и природы оптических переходов. Дисперсия размеров наночастиц и кластеров, получаемых методами ионно - лучевых технологий, приводит к статистическому распределению их спектрально-кинетических параметров, обеспечивая многообразие механизмов переноса и диссипации энергии в подобных структурах. Внедрение наночастиц в структуру твердого тела дополнительно ставит проблему взаимодействия в системе «частица-матрица». Использование широкозонных диэлектрических матриц пониженной размерности, характерных для современной полупроводниковой технологии, таких как тонкие пленки ЗЮ2, значительно расширяет спектр возможных взаимодействий между элементарными возбуждениями матрицы, имплантационными дефектами и квантовыми точками, которые в настоящее время не изучены. Таким образом, исследование электронно-оптических свойств квантовых точек и их взаимодействий с диэлектрической матрицей является актуальной проблемой физики конденсированного состояния.
Целью диссертационной работы является комплексное исследование закономерностей формирования люминесцентных свойств квантовых точек 81, С, 81С, а также фоточувствительных молекулярных ионов кислорода и серы в ионно-имплантированных пленках диоксида кремния.
Для достижения поставленной цели требовалось решить следующие основные задачи:
1. Адаптация экспериментальных методик нестационарной фотолюминесцентной и фотоэмиссионной спектроскопии для исследования ионно-имплантированных пленок 8Ю2 с люминесцирующими квантовыми точками. Разработка методики моделирования эффектов интерференции в спектрах УФ и ВУФ возбуждения фотолюминесценции тонких пленок.
2. Изучение спектрально-люминесцентных и фотоэмиссионных свойств нанокластеров элементарного состава, сформированных в пленках диоксида кремния при имплантации ионов 81+, 8п+.
3. Исследование закономерностей низкотемпературной люминесценции кластеров 81, О, 810 в имплантированных пленках 8Ю2.
4. Анализ энергетической структуры молекулярных центров кислорода и серы как модификаторов люминесценции имплантированных пленок 8102.
Научная новизна работы заключается в следующем:
1. Впервые на примере тонких пленок 8102 предложена и реализована в программных кодах новая методика моделирования и коррекции эффектов интерференции в спектрах УФ- и ВУФ-возбуждения квантовых точек.
2. Впервые получены спектры фотолюминесценции (ФЛ), возбуждения ФЛ (ВФЛ), температурные и кинетические зависимости ФЛ пленок 8102 с нанокластерами 81, С, 81С при возбуждении синхротронным излучением в области ближнего и вакуумного ультрафиолета.
3. Впервые методом фотолюминесценции с селективным возбуждением исследовано влияние термической обработки на свойства углеродсодержащих кластеров в пленках 8102.
4. Впервые методами фотолюминесценции и комбинационного рассеяния обнаружены и изучены электронно-колебательные состояния молекулярных ионов серы и кислорода в имплантированных пленках 8102.
Основные защищаемые положения:
1. Разработанная методика моделирования и учета эффектов интерференции обеспечивает достоверность спектральных измерений и повышает информативность спектров возбуждения фотолюминесценции ионно-имплантированных пленок SiO2толщиной 300 - 800 нм в УФ и ВУФ диапазонах.
2. Экспериментально установленные температурные зависимости фотолюминесценции кластеров кремния и углерода при возбуждении в ВУФ-области спектра в интервале 7 - 300 К характеризуются двумя стадиями, обусловленными различными механизмами тушения.
3. Схема фотовозбуждения люминесцирующих нанокластеров углерода включает каналы передачи энергии с участием подвижных и автолокализованных экситонов тонкопленочной матрицы SiO2.
4. Имплантация ионов O+ и S+ с последующим отжигом при температуре 900 °С приводит к образованию в пленках SiO2оптически активных молекулярных центров, идентифицированных как O2, O2-, S2.
Практическая значимость
1. Разработана методика и соответствующая компьютерная программа, обеспечивающие повышенную информативность при моделировании эффектов интерференции и коррекции УФ (ВУФ)-спектров возбуждения фотолюминесценции, искаженных вследствие неоднородного распределения возбуждающего света в тонкопленочных структурах с квантовыми точками.
2. Предложен новый наноструктурный материал на основе пленок SiO2с наночастицами олова с повышенным выходом люминесценции и расширенной областью спектрального возбуждения, предназначенный для использования в качестве элементов волоконной техники и интегральной оптики (микроминиатюрных источников света и конверторов УФ и ВУФ излучения).
3. Оригинальные методики для анализа спектральных зависимостей ФЛ и фотостимулированной электронной эмиссии (ФСЭЭ), реализованные в виде специализированного пакета зарегистрированных в государственном реестре РФ программ для ЭВМ, представляют интерес для фотолюминесцентной и фотоэмиссионной спектроскопии широкого класса объектов.
Личный вклад автора
Автор выполнил весь комплекс измерений стационарной фотолюминесценции, фотостимулированной электронной эмиссии, описание результатов, обработку и анализ спектров люминесценции с возбуждением синхротронным излучением. Время-разрешенные ВУФ-спектры ФЛ и ВФЛ измерены В.А. Пустоваровым. Изготовление и первичная аттестация образцов проведена в научных группах Г.Й. Фиттинга (Германия) и Д.И. Тетельбаума (г. Нижний Новгород).
Автором разработаны и реализованы в виде компьютерных программ методики учета интерференционных эффектов и коррекции спектров возбуждения фотолюминесценции. Автору лично принадлежат формулировки защищаемых положений, выводов по главам и заключения диссертации.
Апробация работы Основные результаты диссертации были представлены на следующих конференциях: на 18 семинаре «Inelastic Ion¬Surface Collisions (IISC-18)» (Гатлинбург, США, 2010); на 7, 8 и 9 международных симпозиумах «SiO2, Advanced Dielectrics and Related Devices» (Сен-Этьен, Франция, 2008, Варенна, Италия, 2010, Йер, Франция, 2012); на 15 международной конференции «Luminescence and Optical spectroscopy of Condensed Matter» (Лион, Франция, 2008); на 19 и 20 Международных конференциях «Взаимодействие ионов с поверхностью» (Звенигород, 2009, 2011); на Всероссийской конференции «Физические и физико-химические основы ионной имплантации - ФФХОИ-2010» (Нижний Новгород, 2010); на третьей всероссийской конференции по наноматериалам «НАНО-2009» (Екатеринбург, 2009); на 12, 13, 14 и 17 Всероссийских научных конференциях студентов-физиков и молодых ученых (Новосибирск, 2006; Ростов-на-Дону, Таганрог, 2007; Уфа, 2008; Екатеринбург, 2011); на международной научно-технической школе-конференции «Молодые ученые - науке, технологиям и профессиональному образованию в электронике» (Москва, 2006, 2008); на международной школе-семинаре для молодых ученых «Сцинтилляционные материалы и детекторы ионизирующих излучений» (Харьков, Украина, 2008) .
Исследования по тематике диссертационной работы проводились в рамках проектов РФФИ:
- № 08-02-01072 «Электронно-колебательные состояния и радиационные дефекты в неупорядоченных, низкоразмерных и наноструктурированных оксидных матрицах на основе кремния и его аналогов»;
- № 08-02-99080 «Синтез и радиационно-оптические свойства наноразмерных кристаллов широкозонных оксидов».
Публикации
Результаты исследований представлены в 10 статьях в зарубежных и отечественных реферируемых журналах, 3 статьях в сборниках трудов и 11 тезисах докладов международных и российских конференций, в 5 свидетельствах о государственной регистрации программ для ЭВМ.
Структура и объем работы
Диссертация состоит из введения, пяти глав, заключения и списка литературы. Объем диссертации составляет 145 страниц, включая 8 таблиц, 50 рисунков и библиографический список из 200 наименований.


Возникли сложности?

Нужна помощь преподавателя?

Помощь в написании работ!


Основные результаты исследований люминесцентно-оптических свойств имплантированных пленок SiO2сводятся к следующему:
1. Обоснована и подтверждена необходимость применения синхротронного излучения для исследования закономерностей люминесценции полупроводниковых наночастиц в широкозонных диэлектрических матрицах. Разработаны новые методики автоматического анализа сложных спектров ФЛ и ФСЭЭ. Методики реализованы в виде комплекса программных модулей («SemiFit», «OSEE fitter»), внесенных в государственный реестр программ для ЭВМ. Методики и программный комплекс успешно использованы для анализа электронно-оптических свойств систем SiO2:Si, SiO2:Sn, SiO2:Si:C.
2. Характерная особенность фотолюминесцентной спектроскопии имплантированных тонкопленочных наноструктур с синхротронным ВУФ- возбуждением состоит в том, что получаемая в эксперименте информация искажена эффектами интерференции. Для анализа указанных эффектов разработан и реализован расчетный метод моделирования интерференционных явлений, учитывающий пространственное распределение люминесцирующих кластеров (квантовых точек) по толщине тонкопленочной матрицы. С использованием разработанного метода и оригинального программного обеспечения выполнена коррекция экспериментальных спектров, на основе которых определены достоверные значения спектроскопических параметров люминесцирующих пленок SiO2:Si+, SiO2:Sn+.
3. Изучены закономерности низкотемпературной люминесценции
имплантированных пленок, установлено проявление квантово-размерных эффектов в люминесценции кластеризованных ионов-имплантантов, идентифицированы квантовые точки простого (Si, C) и бинарного (SiC) составов. В рамках модели люминесценции пространственно-ограниченных экситонов рассчитаны размерные характеристики люминесцирующих наночастиц Si (3 - 5 нм), согласующиеся с результатами электронно-микроскопических исследований.
4. Показано, что при температурах жидкого гелия в процессе возбуждения люминесценции квантовых точек значительную роль играют подвижные экситоны матрицы SiO2. Вывод о высокой подвижности экситонов базируется на анализе лоренцевой формы полосы возбуждения 10.2 эВ и микросекундной кинетике затухания свечения. На основе установленных закономерностей для системы «матрица SiO2 - кластер углерода» предложена соответствующая схема оптических переходов.
5. Исследована энергетическая структура имплантированных пленок SiO2:O+, SiO2:S+. Идентифицированы молекулярные центры свечения O2, O2-, S2, SO2и детально изучены их спектроскопические свойства. Общая закономерность люминесценции центров кислорода и серы состоит в проявлении внутримолекулярных электронно-колебательных взаимодействий. Отличительная особенность люминесценции центров О2 заключается в аномально большом интервале между энергетическим положением полос возбуждения и излучения. Совпадение энергетического положения возбужденных состояний молекулярных центров, кремниевых и углеродных кластеров указывает на потенциальную возможность безызлучательной передачи энергии между возбужденными состояниями nc-Si^O2(O2-), nc- C*^S2* и nc-C*^SO2* при повышенных (комнатных) температурах.
6. Совокупность полученных экспериментальных данных позволяет прогнозировать принципиальную возможность использования квантовых точек Si и C для эффективной сенсибилизации люминесценции молекулярных центров O2, O2-и S2в имплантированных пленках SiO2при комнатной температуре.



1. L. Ding, T. P. Chen, Y. Liu et al. / Optical properties of silicon nanocrystals embedded in a SiO2 matrix. // Physical Review B 72, 125419 (2005).
2. R. Smirani, F. Martin, G. Abel et al. / The effect of size and depth profile of Si-nc imbedded in a SiO2 layer on the photoluminescence spectra // J. Luminescence 115, 62-68 (2005).
3. Y. Toyozawa / Dynamics and instabilities of an exciton in the phonon field and the correlated absorption-emission spectra // Pure & Appl. Chern., 69 (6) (1997) 1171-1178.
4. E. Gross, D. Kovalev, N. Kunzner et al. / Spectrally resolved electronic energy transfer from silicon nanocrystals to molecular oxygen mediated by direct electron exchange // Physical Review B 68, 115405 (2003).
5. Герасимова В. И., Рыбалтовский А. О., Чернов П. В. и др. / Влияние матрицы кварцевого стекла на спектры междоузельных молекул S2 // Физика и химия стекла., 28 (2) (2002) 89-98.
6. K.-P. Huber, G. Herzberg, Molecular Spectra and Molecular Structure: IV. Constants of Diatomic Molecules, Van Nostrand, New York, 1979.
Основные результаты диссертационной работы опубликованы в следующих работах:
Статьи из перечня ВАК
1. Mechanism of quantum dot luminescence excitation within implanted SiO2:Si:C films / A.F. Zatsepin, E.A. Buntov, V.S. Kortov, D.I. Tetelbaum, A.N. Mikhaylov, A.I. Belov // Journal of Physics: Condensed Matter, V.24, No. 045301, 2012, P.1-10.
2. Низкотемпературная фотолюминесценция имплантированных пленок и стекол SiO2:Sn+/ А. Ф. Зацепин, Е. А. Бунтов, В. С. Кортов, В. А. Пустоваров, H.-J. Fitting, B. Schmidt, Н. В. Гаврилов // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, 2012, № 8, с. 44-49.
3. Electronic and vibrational states of oxygen and sulfur molecular ions inside implanted SiO2 films / E.A. Buntov, A.F. Zatsepin, V.S. Kortov, V.A. Pustovarov, H.-J. Fitting // Journal of Non-Crystalline Solids 357 (2011) 1977-1980.
4. Фотоэлектронная эмиссия имплантированных пленок SiO2:Se+/ А. Ф. Зацепин, Е. А. Бунтов, В. С. Кортов, H.-J. Fitting, Ю. С. Поносов // Известия ран. Серия физическая, 2010, том 74, № 2, с. 271-275.
5. The relation between static disorder and photoluminescence quenching law in glasses: A numerical technique / A.F. Zatsepin, E.A. Buntov, A.L. Ageev // Journal of Luminescence 130 (2010) 1721-1724.
6. Низкотемпературная люминесценция свинцовосиликатного стекла / Зацепин А. Ф., Кухаренко А. И., Бунтов Е. А., Пустоваров В. А., Чолах С. О. // Физика и химия стекла, 2010, Том 36 , № 2, с.205-211.
7. Time-resolved photoluminescence of implanted SiO2:Si+ films / A.F. Zatsepin, V.A. Pustovarov, V.S. Kortov, E.A. Buntov, H.-J. Fitting // Journal of Non¬Crystalline Solids 355 (2009) 1119-1122.
8. Urbach rule in photoelectron emission from surface states of low-sized silica / A.F. Zatsepin, E.A. Buntov // Journal of Non-Crystalline Solids 355 (2009) 1123-1127.
9. Photosensitive defects in silica layers implanted with germanium ions / A.F. Zatsepin, H.-J. Fitting, V.S. Kortov, V.A. Pustovarov, B. Schmidt, E.A. Buntov // Journal of Non-Crystalline Solids 355 (2009) 61-67.
10. Образование и электронно-лучевой отжиг имплантационных дефектов в тонкопленочной гетероструктуре Si-SiO2/ А.Ф. Зацепин, С. Касчиева, Д.Ю. Бирюков, С.Н. Дмитриев, Е.А. Бунтов // Журнал технической физики, 2009, том 79, вып. 2, с.155-158.
11. Characteristics of the electron-emission defects introduced in Si-SiO2 structures by MeV electron irradiation / A.F. Zatsepin, S. Kaschieva, S.N. Dmitriev, E.A. Buntov // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 266 (2008) p.5027-5031.
Прочие публикации
12. Люминесценция имплантированных пленок SiO2:Si:C при
возбуждении импульсным синхротронным излучением / Зацепин А.Ф., Бунтов Е.А., Кортов В.С., Михайлов А.Н., Тетельбаум Д.И. // Труды конференции «Физические и физико-химические основы ионной имплантации - ФФХОИ- 2010», 26-29 октября 2010. Нижний Новгород: ННГУ, 2010. C.48-49.
13. The formation of luminescent SiC nanoclusters within ion-implanted SiO2 films / Zatsepin A.F., Buntov E.A., Kortov V.S., Mihailov A.N., Tetelbaum D.I. // 18th International Work-shop on Inelastic Ion-Surface Collisions (IISC-18): book of abstracts. Gatlinburg, USA, 2010. P.61.
14. Electronic and Vibrational States of Oxygen and Sulfur Molecular Ions inside Implanted SiO2 Films / Buntov E.A., Zatsepin A.F., Kortov V.S., Pustovarov V.A., Fitting H.-J. // Abstracts of 8th Sympo-sium “SiO2, Advanced Dielectrics and Related Devices”, June 21-23. Varenna, Italy, 2010. P.9.
15. Фотоэлектронная эмиссия имплантированных пленок SiO2:Se+/ Зацепин
А.Ф., Бунтов Е.А., Кортов В.С., Fitting H.-J. // Сборник трудов 19й
Международной конференции "Взаимодействие ионов с поверхностью - ВИП2009". В 2-х т. М.: МАИ, 2009. Т. 1. С.352-355.
16. Низкотемпературная фотолюминесценция ионно-
имплантированных пленок SiO2:Sn+/ Алексашина И.А., Бунтов Е.А., Зацепин А.Ф. // Труды «17й Всероссийской научной конференции студентов-физиков», 25 марта - 1 апреля 2011. г. Екатеринбург: АСФ, 2011. C.48-49.
17. Time-resolved photoluminescence of implanted SiO2:Si+ films / Zatsepin A.F., Pustovarov V.A., Kortov V.S., Buntov E.A., Fitting H.-J. // 7th Symposium «SiO2 Advanced Dielectrics and Related Devices», Centre de Congrès de Saint- Etienne (France) June 30th - July 2nd, 2008: book of abstracts. Saint- Etienne:Universite Jean Monnet, 2008. P.59-60.
18. Urbach Rule in Photoelectron Emission from Surface States of Low¬Sized Silica / Zatsepin A.F., Buntov E.A. // 7th Symposium «SiO2 Advanced Dielec¬trics and Related Devices», Centre de Congrès de Saint-Etienne (France) June 30th - July 2nd, 2008: book of abstracts. Saint-Etienne: Universite Jean Monnet, 2008. P.59-60.
19. Фотоэлектронная эмиссия пленок SiO2, имплантированных ионами Si+, O+и S+/ Бунтов Е.А., Зацепин А.Ф. // Материалы международной научно-технической школы-конференции «Молодые ученые - науке, технологиям и профессиональному образованию», 10-13 ноября 2008 г. Москва. В 2-х т. М.:МИРЭА, 2008. Т.2. С. 178-181.
20. Фотостимулированная электронная эмиссия гетероструктуры SiO2-
Si с радиационными дефектами / Бунтов Е.А., Зацепин А.Ф. // 13-я
Всероссийская научная конференция студентов-физиков и молодых ученых: материалы конференции. Таганрог: Южный федеральный ун-т., 2007. С. 76-77.
Компьютерные программы для спектроскопических исследований:
1. А.Ф. Зацепин, Д.Ю. Бирюков, В.С. Кортов, С.Ю. Гроховский, Е.А. Бунтов / Программа для отображения данных ФСЭЭ-спектроскопии («Фотоэлектрон») // Свидетельство об официальной регистрации программы для ЭВМ №2006610036 от 10.01.2006.
2. А.Ф. Зацепин, Д.Ю. Бирюков, В.С. Кортов, С.Ю. Гроховский, Е.А. Бунтов / Программа для обработки и анализа спектральных кривых ФСЭЭ («Спектрограф») // Свидетельство об официальной регистрации программы для ЭВМ №2006610037 от 10.01.2006.
3. А.Ф. Зацепин, Е.А. Бунтов / Программа для анализа неселективной компоненты спектров ФСЭЭ («OSEE fitter») // Свидетельство об официальной регистрации программы для ЭВМ №2008615379 от 11.10.2008 .
4. Е.А. Бунтов, А.Ф. Зацепин, А.Н. Кислов / Программный модуль для
расчета дисперсионных фононных мод твердых тел («Phonon3D») //
Свидетельство об официальной регистрации программы для ЭВМ
№2009616529 от 19.11.2009.
5. Е.А. Бунтов, А.Ф. Зацепин, И.А. Алексашина / Программа для
полуавтоматической аппроксимации спектроскопических данных «SemiFit» // Свидетельство об официальной регистрации программы для ЭВМ
№2011617995 от 12.10.2011 .


Работу высылаем на протяжении 30 минут после оплаты.



Подобные работы


©2024 Cервис помощи студентам в выполнении работ