Актуальность проблемы. Исследования низкоразмерных и наноструктурированных материалов относятся к наиболее активно развивающемуся направлению современной физики конденсированного состояния. В таких исследованиях важное место отводится изучению люминесцентно-оптических свойств квантово-размерных систем, что связано с необходимостью решения новых фундаментальных и прикладных проблем оптоэлектроники и нанофотоники. В круг подобных проблем входят ионно-лучевой синтез эффективных светоизлучающих структур на базе непрямозонных полупроводников, интеграция на одном чипе световодов, оптических усилителей, элементов памяти и др.
Благодаря уникальным свойствам и возможности регулирования спектральных характеристик, наибольший научный и практический интерес представляют композитные структуры с квантовыми точками в диэлектрических матрицах. Под квантовыми точками понимаются квазинульмерные образования (0И) с дискретным спектром электронных состояний, в которых электронные возбуждения (носители заряда или экситоны) претерпевают квантовое ограничение по всем трем измерениям. Варьирование размеров, формы, структуры и состава полупроводниковых квантовых точек (сульфидных, карбидных, оксидных и др.) позволяет управлять целым комплексом их электронно-оптических свойств.
Свойства низкоразмерных структур сильно отличаются от таковых для объемных материалов, характеризуются квантовыми эффектами и могут быть адекватно описаны лишь с применением комплекса современных методов исследования. В настоящее время использование оксидных структур с полупроводниковыми квантовыми точками ограничивается недостаточным знанием их энергетического строения и природы оптических переходов. Дисперсия размеров наночастиц и кластеров, получаемых методами ионно - лучевых технологий, приводит к статистическому распределению их спектрально-кинетических параметров, обеспечивая многообразие механизмов переноса и диссипации энергии в подобных структурах. Внедрение наночастиц в структуру твердого тела дополнительно ставит проблему взаимодействия в системе «частица-матрица». Использование широкозонных диэлектрических матриц пониженной размерности, характерных для современной полупроводниковой технологии, таких как тонкие пленки ЗЮ2, значительно расширяет спектр возможных взаимодействий между элементарными возбуждениями матрицы, имплантационными дефектами и квантовыми точками, которые в настоящее время не изучены. Таким образом, исследование электронно-оптических свойств квантовых точек и их взаимодействий с диэлектрической матрицей является актуальной проблемой физики конденсированного состояния.
Целью диссертационной работы является комплексное исследование закономерностей формирования люминесцентных свойств квантовых точек 81, С, 81С, а также фоточувствительных молекулярных ионов кислорода и серы в ионно-имплантированных пленках диоксида кремния.
Для достижения поставленной цели требовалось решить следующие основные задачи:
1. Адаптация экспериментальных методик нестационарной фотолюминесцентной и фотоэмиссионной спектроскопии для исследования ионно-имплантированных пленок 8Ю2 с люминесцирующими квантовыми точками. Разработка методики моделирования эффектов интерференции в спектрах УФ и ВУФ возбуждения фотолюминесценции тонких пленок.
2. Изучение спектрально-люминесцентных и фотоэмиссионных свойств нанокластеров элементарного состава, сформированных в пленках диоксида кремния при имплантации ионов 81+, 8п+.
3. Исследование закономерностей низкотемпературной люминесценции кластеров 81, О, 810 в имплантированных пленках 8Ю2.
4. Анализ энергетической структуры молекулярных центров кислорода и серы как модификаторов люминесценции имплантированных пленок 8102.
Научная новизна работы заключается в следующем:
1. Впервые на примере тонких пленок 8102 предложена и реализована в программных кодах новая методика моделирования и коррекции эффектов интерференции в спектрах УФ- и ВУФ-возбуждения квантовых точек.
2. Впервые получены спектры фотолюминесценции (ФЛ), возбуждения ФЛ (ВФЛ), температурные и кинетические зависимости ФЛ пленок 8102 с нанокластерами 81, С, 81С при возбуждении синхротронным излучением в области ближнего и вакуумного ультрафиолета.
3. Впервые методом фотолюминесценции с селективным возбуждением исследовано влияние термической обработки на свойства углеродсодержащих кластеров в пленках 8102.
4. Впервые методами фотолюминесценции и комбинационного рассеяния обнаружены и изучены электронно-колебательные состояния молекулярных ионов серы и кислорода в имплантированных пленках 8102.
Основные защищаемые положения:
1. Разработанная методика моделирования и учета эффектов интерференции обеспечивает достоверность спектральных измерений и повышает информативность спектров возбуждения фотолюминесценции ионно-имплантированных пленок SiO2толщиной 300 - 800 нм в УФ и ВУФ диапазонах.
2. Экспериментально установленные температурные зависимости фотолюминесценции кластеров кремния и углерода при возбуждении в ВУФ-области спектра в интервале 7 - 300 К характеризуются двумя стадиями, обусловленными различными механизмами тушения.
3. Схема фотовозбуждения люминесцирующих нанокластеров углерода включает каналы передачи энергии с участием подвижных и автолокализованных экситонов тонкопленочной матрицы SiO2.
4. Имплантация ионов O+ и S+ с последующим отжигом при температуре 900 °С приводит к образованию в пленках SiO2оптически активных молекулярных центров, идентифицированных как O2, O2-, S2.
Практическая значимость
1. Разработана методика и соответствующая компьютерная программа, обеспечивающие повышенную информативность при моделировании эффектов интерференции и коррекции УФ (ВУФ)-спектров возбуждения фотолюминесценции, искаженных вследствие неоднородного распределения возбуждающего света в тонкопленочных структурах с квантовыми точками.
2. Предложен новый наноструктурный материал на основе пленок SiO2с наночастицами олова с повышенным выходом люминесценции и расширенной областью спектрального возбуждения, предназначенный для использования в качестве элементов волоконной техники и интегральной оптики (микроминиатюрных источников света и конверторов УФ и ВУФ излучения).
3. Оригинальные методики для анализа спектральных зависимостей ФЛ и фотостимулированной электронной эмиссии (ФСЭЭ), реализованные в виде специализированного пакета зарегистрированных в государственном реестре РФ программ для ЭВМ, представляют интерес для фотолюминесцентной и фотоэмиссионной спектроскопии широкого класса объектов.
Личный вклад автора
Автор выполнил весь комплекс измерений стационарной фотолюминесценции, фотостимулированной электронной эмиссии, описание результатов, обработку и анализ спектров люминесценции с возбуждением синхротронным излучением. Время-разрешенные ВУФ-спектры ФЛ и ВФЛ измерены В.А. Пустоваровым. Изготовление и первичная аттестация образцов проведена в научных группах Г.Й. Фиттинга (Германия) и Д.И. Тетельбаума (г. Нижний Новгород).
Автором разработаны и реализованы в виде компьютерных программ методики учета интерференционных эффектов и коррекции спектров возбуждения фотолюминесценции. Автору лично принадлежат формулировки защищаемых положений, выводов по главам и заключения диссертации.
Апробация работы Основные результаты диссертации были представлены на следующих конференциях: на 18 семинаре «Inelastic Ion¬Surface Collisions (IISC-18)» (Гатлинбург, США, 2010); на 7, 8 и 9 международных симпозиумах «SiO2, Advanced Dielectrics and Related Devices» (Сен-Этьен, Франция, 2008, Варенна, Италия, 2010, Йер, Франция, 2012); на 15 международной конференции «Luminescence and Optical spectroscopy of Condensed Matter» (Лион, Франция, 2008); на 19 и 20 Международных конференциях «Взаимодействие ионов с поверхностью» (Звенигород, 2009, 2011); на Всероссийской конференции «Физические и физико-химические основы ионной имплантации - ФФХОИ-2010» (Нижний Новгород, 2010); на третьей всероссийской конференции по наноматериалам «НАНО-2009» (Екатеринбург, 2009); на 12, 13, 14 и 17 Всероссийских научных конференциях студентов-физиков и молодых ученых (Новосибирск, 2006; Ростов-на-Дону, Таганрог, 2007; Уфа, 2008; Екатеринбург, 2011); на международной научно-технической школе-конференции «Молодые ученые - науке, технологиям и профессиональному образованию в электронике» (Москва, 2006, 2008); на международной школе-семинаре для молодых ученых «Сцинтилляционные материалы и детекторы ионизирующих излучений» (Харьков, Украина, 2008) .
Исследования по тематике диссертационной работы проводились в рамках проектов РФФИ:
- № 08-02-01072 «Электронно-колебательные состояния и радиационные дефекты в неупорядоченных, низкоразмерных и наноструктурированных оксидных матрицах на основе кремния и его аналогов»;
- № 08-02-99080 «Синтез и радиационно-оптические свойства наноразмерных кристаллов широкозонных оксидов».
Публикации
Результаты исследований представлены в 10 статьях в зарубежных и отечественных реферируемых журналах, 3 статьях в сборниках трудов и 11 тезисах докладов международных и российских конференций, в 5 свидетельствах о государственной регистрации программ для ЭВМ.
Структура и объем работы
Диссертация состоит из введения, пяти глав, заключения и списка литературы. Объем диссертации составляет 145 страниц, включая 8 таблиц, 50 рисунков и библиографический список из 200 наименований.
Основные результаты исследований люминесцентно-оптических свойств имплантированных пленок SiO2сводятся к следующему:
1. Обоснована и подтверждена необходимость применения синхротронного излучения для исследования закономерностей люминесценции полупроводниковых наночастиц в широкозонных диэлектрических матрицах. Разработаны новые методики автоматического анализа сложных спектров ФЛ и ФСЭЭ. Методики реализованы в виде комплекса программных модулей («SemiFit», «OSEE fitter»), внесенных в государственный реестр программ для ЭВМ. Методики и программный комплекс успешно использованы для анализа электронно-оптических свойств систем SiO2:Si, SiO2:Sn, SiO2:Si:C.
2. Характерная особенность фотолюминесцентной спектроскопии имплантированных тонкопленочных наноструктур с синхротронным ВУФ- возбуждением состоит в том, что получаемая в эксперименте информация искажена эффектами интерференции. Для анализа указанных эффектов разработан и реализован расчетный метод моделирования интерференционных явлений, учитывающий пространственное распределение люминесцирующих кластеров (квантовых точек) по толщине тонкопленочной матрицы. С использованием разработанного метода и оригинального программного обеспечения выполнена коррекция экспериментальных спектров, на основе которых определены достоверные значения спектроскопических параметров люминесцирующих пленок SiO2:Si+, SiO2:Sn+.
3. Изучены закономерности низкотемпературной люминесценции
имплантированных пленок, установлено проявление квантово-размерных эффектов в люминесценции кластеризованных ионов-имплантантов, идентифицированы квантовые точки простого (Si, C) и бинарного (SiC) составов. В рамках модели люминесценции пространственно-ограниченных экситонов рассчитаны размерные характеристики люминесцирующих наночастиц Si (3 - 5 нм), согласующиеся с результатами электронно-микроскопических исследований.
4. Показано, что при температурах жидкого гелия в процессе возбуждения люминесценции квантовых точек значительную роль играют подвижные экситоны матрицы SiO2. Вывод о высокой подвижности экситонов базируется на анализе лоренцевой формы полосы возбуждения 10.2 эВ и микросекундной кинетике затухания свечения. На основе установленных закономерностей для системы «матрица SiO2 - кластер углерода» предложена соответствующая схема оптических переходов.
5. Исследована энергетическая структура имплантированных пленок SiO2:O+, SiO2:S+. Идентифицированы молекулярные центры свечения O2, O2-, S2, SO2и детально изучены их спектроскопические свойства. Общая закономерность люминесценции центров кислорода и серы состоит в проявлении внутримолекулярных электронно-колебательных взаимодействий. Отличительная особенность люминесценции центров О2 заключается в аномально большом интервале между энергетическим положением полос возбуждения и излучения. Совпадение энергетического положения возбужденных состояний молекулярных центров, кремниевых и углеродных кластеров указывает на потенциальную возможность безызлучательной передачи энергии между возбужденными состояниями nc-Si^O2(O2-), nc- C*^S2* и nc-C*^SO2* при повышенных (комнатных) температурах.
6. Совокупность полученных экспериментальных данных позволяет прогнозировать принципиальную возможность использования квантовых точек Si и C для эффективной сенсибилизации люминесценции молекулярных центров O2, O2-и S2в имплантированных пленках SiO2при комнатной температуре.
1. L. Ding, T. P. Chen, Y. Liu et al. / Optical properties of silicon nanocrystals embedded in a SiO2 matrix. // Physical Review B 72, 125419 (2005).
2. R. Smirani, F. Martin, G. Abel et al. / The effect of size and depth profile of Si-nc imbedded in a SiO2 layer on the photoluminescence spectra // J. Luminescence 115, 62-68 (2005).
3. Y. Toyozawa / Dynamics and instabilities of an exciton in the phonon field and the correlated absorption-emission spectra // Pure & Appl. Chern., 69 (6) (1997) 1171-1178.
4. E. Gross, D. Kovalev, N. Kunzner et al. / Spectrally resolved electronic energy transfer from silicon nanocrystals to molecular oxygen mediated by direct electron exchange // Physical Review B 68, 115405 (2003).
5. Герасимова В. И., Рыбалтовский А. О., Чернов П. В. и др. / Влияние матрицы кварцевого стекла на спектры междоузельных молекул S2 // Физика и химия стекла., 28 (2) (2002) 89-98.
6. K.-P. Huber, G. Herzberg, Molecular Spectra and Molecular Structure: IV. Constants of Diatomic Molecules, Van Nostrand, New York, 1979.
Основные результаты диссертационной работы опубликованы в следующих работах:
Статьи из перечня ВАК
1. Mechanism of quantum dot luminescence excitation within implanted SiO2:Si:C films / A.F. Zatsepin, E.A. Buntov, V.S. Kortov, D.I. Tetelbaum, A.N. Mikhaylov, A.I. Belov // Journal of Physics: Condensed Matter, V.24, No. 045301, 2012, P.1-10.
2. Низкотемпературная фотолюминесценция имплантированных пленок и стекол SiO2:Sn+/ А. Ф. Зацепин, Е. А. Бунтов, В. С. Кортов, В. А. Пустоваров, H.-J. Fitting, B. Schmidt, Н. В. Гаврилов // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, 2012, № 8, с. 44-49.
3. Electronic and vibrational states of oxygen and sulfur molecular ions inside implanted SiO2 films / E.A. Buntov, A.F. Zatsepin, V.S. Kortov, V.A. Pustovarov, H.-J. Fitting // Journal of Non-Crystalline Solids 357 (2011) 1977-1980.
4. Фотоэлектронная эмиссия имплантированных пленок SiO2:Se+/ А. Ф. Зацепин, Е. А. Бунтов, В. С. Кортов, H.-J. Fitting, Ю. С. Поносов // Известия ран. Серия физическая, 2010, том 74, № 2, с. 271-275.
5. The relation between static disorder and photoluminescence quenching law in glasses: A numerical technique / A.F. Zatsepin, E.A. Buntov, A.L. Ageev // Journal of Luminescence 130 (2010) 1721-1724.
6. Низкотемпературная люминесценция свинцовосиликатного стекла / Зацепин А. Ф., Кухаренко А. И., Бунтов Е. А., Пустоваров В. А., Чолах С. О. // Физика и химия стекла, 2010, Том 36 , № 2, с.205-211.
7. Time-resolved photoluminescence of implanted SiO2:Si+ films / A.F. Zatsepin, V.A. Pustovarov, V.S. Kortov, E.A. Buntov, H.-J. Fitting // Journal of Non¬Crystalline Solids 355 (2009) 1119-1122.
8. Urbach rule in photoelectron emission from surface states of low-sized silica / A.F. Zatsepin, E.A. Buntov // Journal of Non-Crystalline Solids 355 (2009) 1123-1127.
9. Photosensitive defects in silica layers implanted with germanium ions / A.F. Zatsepin, H.-J. Fitting, V.S. Kortov, V.A. Pustovarov, B. Schmidt, E.A. Buntov // Journal of Non-Crystalline Solids 355 (2009) 61-67.
10. Образование и электронно-лучевой отжиг имплантационных дефектов в тонкопленочной гетероструктуре Si-SiO2/ А.Ф. Зацепин, С. Касчиева, Д.Ю. Бирюков, С.Н. Дмитриев, Е.А. Бунтов // Журнал технической физики, 2009, том 79, вып. 2, с.155-158.
11. Characteristics of the electron-emission defects introduced in Si-SiO2 structures by MeV electron irradiation / A.F. Zatsepin, S. Kaschieva, S.N. Dmitriev, E.A. Buntov // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 266 (2008) p.5027-5031.
Прочие публикации
12. Люминесценция имплантированных пленок SiO2:Si:C при
возбуждении импульсным синхротронным излучением / Зацепин А.Ф., Бунтов Е.А., Кортов В.С., Михайлов А.Н., Тетельбаум Д.И. // Труды конференции «Физические и физико-химические основы ионной имплантации - ФФХОИ- 2010», 26-29 октября 2010. Нижний Новгород: ННГУ, 2010. C.48-49.
13. The formation of luminescent SiC nanoclusters within ion-implanted SiO2 films / Zatsepin A.F., Buntov E.A., Kortov V.S., Mihailov A.N., Tetelbaum D.I. // 18th International Work-shop on Inelastic Ion-Surface Collisions (IISC-18): book of abstracts. Gatlinburg, USA, 2010. P.61.
14. Electronic and Vibrational States of Oxygen and Sulfur Molecular Ions inside Implanted SiO2 Films / Buntov E.A., Zatsepin A.F., Kortov V.S., Pustovarov V.A., Fitting H.-J. // Abstracts of 8th Sympo-sium “SiO2, Advanced Dielectrics and Related Devices”, June 21-23. Varenna, Italy, 2010. P.9.
15. Фотоэлектронная эмиссия имплантированных пленок SiO2:Se+/ Зацепин
А.Ф., Бунтов Е.А., Кортов В.С., Fitting H.-J. // Сборник трудов 19й
Международной конференции "Взаимодействие ионов с поверхностью - ВИП2009". В 2-х т. М.: МАИ, 2009. Т. 1. С.352-355.
16. Низкотемпературная фотолюминесценция ионно-
имплантированных пленок SiO2:Sn+/ Алексашина И.А., Бунтов Е.А., Зацепин А.Ф. // Труды «17й Всероссийской научной конференции студентов-физиков», 25 марта - 1 апреля 2011. г. Екатеринбург: АСФ, 2011. C.48-49.
17. Time-resolved photoluminescence of implanted SiO2:Si+ films / Zatsepin A.F., Pustovarov V.A., Kortov V.S., Buntov E.A., Fitting H.-J. // 7th Symposium «SiO2 Advanced Dielectrics and Related Devices», Centre de Congrès de Saint- Etienne (France) June 30th - July 2nd, 2008: book of abstracts. Saint- Etienne:Universite Jean Monnet, 2008. P.59-60.
18. Urbach Rule in Photoelectron Emission from Surface States of Low¬Sized Silica / Zatsepin A.F., Buntov E.A. // 7th Symposium «SiO2 Advanced Dielec¬trics and Related Devices», Centre de Congrès de Saint-Etienne (France) June 30th - July 2nd, 2008: book of abstracts. Saint-Etienne: Universite Jean Monnet, 2008. P.59-60.
19. Фотоэлектронная эмиссия пленок SiO2, имплантированных ионами Si+, O+и S+/ Бунтов Е.А., Зацепин А.Ф. // Материалы международной научно-технической школы-конференции «Молодые ученые - науке, технологиям и профессиональному образованию», 10-13 ноября 2008 г. Москва. В 2-х т. М.:МИРЭА, 2008. Т.2. С. 178-181.
20. Фотостимулированная электронная эмиссия гетероструктуры SiO2-
Si с радиационными дефектами / Бунтов Е.А., Зацепин А.Ф. // 13-я
Всероссийская научная конференция студентов-физиков и молодых ученых: материалы конференции. Таганрог: Южный федеральный ун-т., 2007. С. 76-77.
Компьютерные программы для спектроскопических исследований:
1. А.Ф. Зацепин, Д.Ю. Бирюков, В.С. Кортов, С.Ю. Гроховский, Е.А. Бунтов / Программа для отображения данных ФСЭЭ-спектроскопии («Фотоэлектрон») // Свидетельство об официальной регистрации программы для ЭВМ №2006610036 от 10.01.2006.
2. А.Ф. Зацепин, Д.Ю. Бирюков, В.С. Кортов, С.Ю. Гроховский, Е.А. Бунтов / Программа для обработки и анализа спектральных кривых ФСЭЭ («Спектрограф») // Свидетельство об официальной регистрации программы для ЭВМ №2006610037 от 10.01.2006.
3. А.Ф. Зацепин, Е.А. Бунтов / Программа для анализа неселективной компоненты спектров ФСЭЭ («OSEE fitter») // Свидетельство об официальной регистрации программы для ЭВМ №2008615379 от 11.10.2008 .
4. Е.А. Бунтов, А.Ф. Зацепин, А.Н. Кислов / Программный модуль для
расчета дисперсионных фононных мод твердых тел («Phonon3D») //
Свидетельство об официальной регистрации программы для ЭВМ
№2009616529 от 19.11.2009.
5. Е.А. Бунтов, А.Ф. Зацепин, И.А. Алексашина / Программа для
полуавтоматической аппроксимации спектроскопических данных «SemiFit» // Свидетельство об официальной регистрации программы для ЭВМ
№2011617995 от 12.10.2011 .