📄Работа №209807
Тема: Исследование кинетики формирования тонких пленок висмута на стекле
Характеристики работы
Тип работы
Магистерская диссертация
Предмет
Физика
Объем:
36 листов
Год:
2021
Просмотров:
52
5360
руб.
🛒 Купить работу
Не подходит эта работа?
Закажите новую по вашим требованиям
Узнать цену на написание
Закажите новую по вашим требованиям
Представленный материал является образцом учебного исследования, примером структуры и содержания учебного исследования по заявленной теме. Размещён исключительно в информационных и ознакомительных целях.
Workspay.ru оказывает информационные услуги по сбору, обработке и структурированию материалов в соответствии с требованиями заказчика.
Размещение материала не означает публикацию произведения впервые и не предполагает передачу исключительных авторских прав третьим лицам.
Материал не предназначен для дословной сдачи в образовательные организации и требует самостоятельной переработки с соблюдением законодательства Российской Федерации об авторском праве и принципов академической добросовестности.
Авторские права на исходные материалы принадлежат их законным правообладателям. В случае возникновения вопросов, связанных с размещённым материалом, просим направить обращение через форму обратной связи.
Настоящий учебно-методический информационный материал размещён в ознакомительных и исследовательских целях и представляет собой пример учебного исследования. Не является готовым научным трудом и требует самостоятельной переработки.
📋 Содержание
АННОТАЦИЯ 2
ВВЕДЕНИЕ 3
1. ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ 4
1.1 Кинетика формирования 4
1.1.1 Электронно-микроскопическое исследование начальной стадии образования тонких пленок 4
1.1.2 Анализ поверхностной плотности частиц и их распределения на
подложке 8
1.2. Количественное описание кинетики формирования конденсата 9
1.2.1 Коалесценция 12
1.3. Критическая толщина 14
1.4. Структура тонких пленок 19
1.4.1. Формирование структуры пленок 20
1.4.2. Эпитаксия 22
2. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ 24
2.1 Оборудование 24
2.1.1 Напылительная установка «Torr» 24
2.1.2. Контроллер 26
2.1.3 Металлографический микроскоп Axio Odserver 27
2.1.4. Фотометр фотоэлектрический КФК-3 28
2.2. Описание эксперимента 29
2.3 Статистические данные 32
2.4. Выводы 33
3. ЗАКЛЮЧЕНИЕ 34
БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК 35
ВВЕДЕНИЕ 3
1. ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ 4
1.1 Кинетика формирования 4
1.1.1 Электронно-микроскопическое исследование начальной стадии образования тонких пленок 4
1.1.2 Анализ поверхностной плотности частиц и их распределения на
подложке 8
1.2. Количественное описание кинетики формирования конденсата 9
1.2.1 Коалесценция 12
1.3. Критическая толщина 14
1.4. Структура тонких пленок 19
1.4.1. Формирование структуры пленок 20
1.4.2. Эпитаксия 22
2. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ 24
2.1 Оборудование 24
2.1.1 Напылительная установка «Torr» 24
2.1.2. Контроллер 26
2.1.3 Металлографический микроскоп Axio Odserver 27
2.1.4. Фотометр фотоэлектрический КФК-3 28
2.2. Описание эксперимента 29
2.3 Статистические данные 32
2.4. Выводы 33
3. ЗАКЛЮЧЕНИЕ 34
БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК 35
📖 Аннотация
В данной работе представлено экспериментальное исследование кинетики формирования тонких пленок висмута, полученных методом электронно-лучевого испарения на аморфные стеклянные подложки. Актуальность исследования обусловлена необходимостью фундаментального понимания процессов начальной стадии роста пленок, в частности явления коалесценции, для управления микроструктурой и, следовательно, функциональными свойствами таких структур, широко применяемых в оптоэлектронике и сенсорике. В ходе работы была получена серия образцов в едином технологическом цикле с варьированием времени осаждения, что позволило проследить эволюцию микроструктуры от отдельных островков до формирования сплошного слоя. Основные результаты включают систематическое наблюдение за формированием микроструктуры с помощью металлографической микроскопии, измерение толщины пленок спектрофотометрическим методом на установке КФК-3 и последующий анализ кинетических закономерностей. Установлены зависимости поверхностной плотности зародышей и их размеров от времени осаждения, что согласуется с классическими моделями роста. Научная значимость работы заключается в получении экспериментальных данных по кинетике конденсации висмута на аморфной подложке, дополняющих существующие теоретические представления, в то время как практическая ценность связана с оптимизацией режимов напыления для получения пленок с заданной морфологией. Проведенный анализ опирается на фундаментальные работы по физике тонких пленок, такие как исследования Ф.Ф. Комника по кинетике образования, классический справочник Л. Мейссела и Р. Гланга, а также современные исследования электронно-лучевого напыления, представленные в работах А. Иванова и Б. Смирнова.
📖 Введение
Для того чтобы управлять свойствами тонкопленочных структур, которые широко применяются в современной электронике и наноэлектронике, необходимо знать законы и механизмы формирования микроструктур пленочных образцов. При этом важную роль играет коалесценция в результате которой образуются капли (кристаллики) вещества, в то время как остальная часть подложки остаётся не покрытой. Таким образом, получение тонких сплошных, островковых или сетчатых структур требуют знания кинетических закономерностей конденсации вещества на подложке. В данной работе мы получили пленки при помощи метода электронно-лучевого испарения на стеклянных подложках, пленки формировались в едином технологическом цикле при различном времени открытии заслонок.
✅ Заключение
В ходе работы над проектом были решены все поставленные задачи, а именно:
- Получили серию образцов висмута
- С помощью микроскопа пронаблюдали за формированием микроструктуры тонкопленочных образцов.
- Измерить толщину пленок на установке КФК-3
- Произвести анализ полученных результатов и вывод
- Получили серию образцов висмута
- С помощью микроскопа пронаблюдали за формированием микроструктуры тонкопленочных образцов.
- Измерить толщину пленок на установке КФК-3
- Произвести анализ полученных результатов и вывод
ИЛИ
Поиск аналога
📕 Список литературы
🖼 Скриншоты
🛒 Оформить заказ
⚡ Работу высылаем в течении 5 минут после оплаты.