ВВЕДЕНИЕ 4
1 ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА АРСЕНИДА ГАЛЛИЯ 6
1.1 Кристаллическое строение 6
1.2 Получение арсенида галлия 7
1.2.1 Метод Чохральского 7
1.2.2 Метод Бриджмена 9
1.3 Применение арсенида галлия 10
2 КОМПЬЮТЕРНОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ НАНОЧАСТИЦ СаА> СО
СТРУКТУРНЫМИ ВАКАНСИЯМИ 12
2.1 Метод нелокального функционала плотности 12
2.2 Компьютерное моделирование релаксационных процессов
методом молекулярной механики 15
2.3 Компьютерное моделирование релаксационных процессов
методом квантовой нанокинетики 20
2.4 Техника безопасности 21
2.4.1 Требования безопасности, которые должны соблюдаться при
работе с электроприборами 21
2.4.2 Действия при пожаре и несчастном случае 22
3 АНАЛИЗ ПОЛУЧЕННЫХ ДАННЫХ 23
3.1 Результаты расчета равновесных параметров связи методом 23
нелокального функционала плотности 23
3.2 Результаты компьютерного моделирования релаксационных
процессов методом молекулярной механики 24
3.3 Результаты компьютерного моделирования релаксационных
процессов методом квантовой нанокинетики 30
ВЫВОДЫ 39
БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК 40
ПРИЛОЖЕНИЕ А
Соединения состава АШВУ представляют большой интерес в полупроводниковой сфере [1]. Им уделяется большое внимание в научных публикациях, в которых эти полупроводники активно рассматриваются в качестве компонентов электронной техники. Исследование свойств таких соединений позволяет создавать новые приборы [2].
Уступая кремнию и германию по некоторым свойствам и применению, арсенид галлия также обладает характеристиками, необходимыми для использования в электронной технике, для создания светодиодов, транзисторов, лазеров различной мощности, фотоприемников и многого другого [3, 4].
В середине прошлого века началось создание различных приборов на основе СаЛз. В 1952 г. американский физик У.Б. Шокли сконструировал полевой транзистор и параллельно в это время стало известно о наличии полупроводниковых свойств у класса соединений АШВУ [5]. Спустя 10 лет началось активное использование биполярных транзисторов, как приборов микроэлектроники. В 1961 г. М. Джонсом и Е. Вурстом были описаны первые транзисторы на СаЛз, которые по своим свойствам превосходили кремниевые [6].
Одновременно с этими открытиями проводилась разработка различных методов, позволяющих получить кристаллы СаЛз. В 1956 году с помощью метода Чохральского были выращены кристаллы арсенида галлия, которые обладали достаточно высокой степенью чистоты [7, 8].
Для исследуемого соединения характерно достаточно большое значение ширины запрещенной зоны (при 300 К - 1,424 эВ), высокая подвижность электронов, обусловливающая возможность работы приборов на частотах до 250 ГГц. Приборы, функционирующие на основе этого полупроводника, производят меньше шума, чем, например, кремниевые приборы [9].
Большой интерес представляет изучение вакансий в кристаллах ОаЛз, нарушающих соблюдение строгой трансляционной симметрии и в целом оказывающих влияние на некоторые свойства соединения. В связи с этим актуальным является изучение влияния различных дефектов на устойчивость кристаллических систем [10, 11].
На сегодняшний день ЭаЛз - очень перспективное полупроводниковое соединение, обладающее большими возможностями в различных областях электроники [12].
Целью данной работы является исследование устойчивости наночастиц ЭаЛз со структурными вакансиями.
Для достижения поставленной цели необходимо решить следующие задачи:
1) Построение моделей наночастиц ОаЛз со структурными вакансиями;
2) Расчет парных корреляционных потенциалов
внутрикристаллической ковалентной связи;
3) Исследование устойчивости наночастиц ОаЛз со структурными вакансиями методом молекулярной механики;
4) Исследование методом квантовой нанокинетики релаксационных процессов наночастиц ОаЛз со структурными вакансиями.
1. Построены модели наночастицы арсенида галлия и наночастиц арсенида галлия со структурными дефектами (вакансиями).
2. Методом нелокального функционала плотности были получены значения парных корреляционных потенциалов атомов в кристаллической наночастице Эа-Лз.
3. Методом молекулярной механики была исследована устойчивость наночастиц ЭаЛз со структурными вакансиями. Показано снижение устойчивости с ростом концентрации вакансий. Выявлена незначительная относительная дестабилизация системы при увеличении координационного числа атома, на месте которого образуется вакансия. Дефекты, расположенные в объеме системы, вносят наибольший дестабилизирующий вклад.
4. Методом квантовой нанокинетики было показано, что повышением температуры от 77 К до 298 К средняя энергия системы изменяется в зависимости от концентрации вакансий на 1 кДж/моль (в случае 990 атомов) и 3 кДж/моль (в случае 950 атомов).
1. Федоров П. И. Галлия арсенид // Химическая энциклопедия: в 5 т. / И. Л. Кнунянц (гл. ред.). — М.: Советская энциклопедия, 2001 г. Т. 1: С. 481. - 623 с.
2. Давыдов А. С. Квантовая механика. 3-е изд., стер. — СПб.: 2011 г. — 704 с.
3. Боум А. Квантовая механика: основы и приложения. М.: Мир, 1999 г. - 720 с.
4. Goetzberger A., Hebling C., Schock H.-W., Photovoltaic materials, history, status and outlook // Mater. Sci. Eng. R40 -2003. - P.1-46.
5. Stroppa A., Peressi M. Structural properties and stability of defected ZnSe/GaAs(0 0 1) interfaces /A.Stroppa, M.Peressi //Computational MaterialsScience. - 2005. - №33. - P. 256-262.
6. Fisher J., Bahl I. Gallium Arsenide IC Applications Handbook. 1st ed. Academic Press: 2002. - P. 369.
7. Мильвидский М.Г., Пелевин О.В., Сахаров Б.А., Физико-химические основы получения разлагающихся полупроводниковых соединений (на примере арсенида галлия) // М.: Мир, 2007. - С.238.
8. Родерик Э.Х., Контакты металл-проводник // М.:Радио и связь, 2006. - C.208
9. Зюзин Ю.Б., Обзор изобретений «Полупроводниковые приборы и интегральные схемы»., Ч. 1-3 / Аналитические обзоры /Scitechlibrary.com/,
2003 г.
10. Riza D., Caldiran Z. Schottky diode performance of an Au/Pd/GaAs device fabricated by deposition of monodisperse palladium nanoparticles over a p- type GaAs substrate / D.Riza, Z.Caldiran //Materials Science in SemiconductorProcessing. - 2014. - №27. - P. 163-169.
11. Escano M., Nguyen Q. Does GaAs bulk lattice really expand due to defects in the low concentration regime? / M. Escano, Q. Nguyen // Solid State Communications. - 2018. - №13. . - P. 316-317.
12. Elsayed M., Krause-Rehberg R. As vacancy complex Zn-diffused GaAs: Positron lifetime spectroscopy study / M. Elsayed, R. Krause-Rehberg // Scripta Materialia. - 2017. - №131. - Р. 72-75.
13. Kiessling F., Rudolph R. Vacancy-type defects in boron-reduced V Cz GaAs crystals / F. Kiessling, R. Rudolph // Journal of Physics and Chemistry of Solids. - 2008. - № 2 (3). P. 289 - 293.
14. Шалимова К.В. Физика полупроводников / К.В. Шалимова. 4-е издание - М.: Энергия, 1971. - С.311.
15. Ramdani M., Fontaine C., Record high-aspect-ratio GaAs nano¬grating lines grown by Hydride Vapor Phase Epitaxy (HVPE) // Journal of Crystal Growth, - 2013. - P.93-98.
16. Miles R., Photovoltaic solar cells: Choice of materials and production Methods // Vacuum, - 2006. - P.1090-1097.
17. Черняев В.Н., Кожитов Л.В. Технология получения эпитаксильных слоев арсенида галлия и приборы на их основе / В.Н. Черняев, Л.В. Кожитов. - М. Энергия, 1974. - С.232
18. Statler R., Walker D., Richard L., Electron radiation damage in gallium arsenide solar cells // Solar Cells, -2007. - P.69-77
19. Минкин В. И., Симкин Б.Я. Теория строения молекул : учеб. пособие для ун-тов / В. И. Минкин, Б. Я. Симкин, - М.: Высш. шк., 1979. - С. 407.
20. Гудымович Е.Н. Химия и термодинамика полупроводниковых соединений / Е.Н. Гудымович, - Томск : Изд-во Томск. ун-та, 1981. - С. 109.
21. Fetzer C., Liu X., Chang J., Progress in large area organometallic vapor phase epitaxy for III-V multijunctionphotovoltaics// Journal of Crystal Growth, 2012 - Р.180-184.
22. Вяткин А.П., Вилисов А.А. Развитие физико-технологических основ создания полупроводниковых приборов / А.П. Вяткин, А.А. Вилисов // Вестник Томского университета, - 2005. - №8. - С. 33-39.
23. Криворотов Н.П. Электрические свойства и надежность приборов на основе GaAs / Н.П. Криворотов // Вестник Томского университета, - 2009. - №11. - С. 43-48.
24. Оксанич А.П., Притчин С.Э. Тербан В.А. Разработка устройств и систем выращивания слитков арсенида галлия для изделий микро-, нано электроники и фотовольтаики / А.П Оксанич, С.Э. Притчин, В.А. Тербан // Вестник Нац. тех. ун-та Украины. - 2013. - №8. - С. 40-48.
25. Лаврентьева Л.Г., Вилисова М.Д. Газофазовая эпитаксия арсенида галлия / Л.Г. Лаврентьева, М.Д. Вилисова // Вестник Томского гос. ун-та. - 2005. - №8. - С. 76-82.
26. Коковин Г.А., Федорова Т.В. Термодинамический анализ процессов выращивания арсенида галлия из газовой фазы / Г.А. Коковин, Т.В. Федорова. Т.1 Новосибирск: Наука, 1998. С. 105-120.
27. Дмитриев В.А., Штейнгарт А.П. Исследование эпитаксильных структур арсенида галлия / В.А. Дмитриев, А.П. Штейнгарт // Вестник Новгородского гос. ун-та им. Ярослава Мудрого. - 2003. - №23. - С. 12-16.
28. Мирющенко Н.И., Проскуряков А.В. Расчет выращивания подложки методом бестигельной зонной плавки / Н.И. Мирющенко, А.В. Проскуряков // Символ науки. - 2016. - №3. - С. 22-27.
29. Султанов А.О., Каргин Н.И. Получение эпитаксиальных пленок полупроводниковых соединений на пористых подложках / А.О. Султанов, Н.И. Каргин // Известия высших учебных заведений. Северо-Кавказский регион. Технические науки. - 2013. - №11. - С. 121-125.
30. Jonson V., Winter M. Application of gallium arsenide / V. Jonson, M. Winter // Journal of Science. - 2014. - №12. - P. 101-107.
31. Pollo F., Swerty-Till R. Application of semiconductor materials / F. Pollo, R. Swerty-Tell // Journal of Physics and Chemistry of Solids. - 2010. - № 12. P. 187 - 193.
32. Messei N., Aida M., Numerical simulation of front graded and fully graded AlGaAs/GaAs solar cell // Optik - International Journal for Light and Electron Optics, - 2015. - P.432-435
33. Hidouri T., Samia N., Faouzi S. Experimental and theoretical study of novel BGaAs/GaAs single quantum well for photonic applications // Vacuum. - 2018. №4. - P. 134-139.
34. Наумов А.В. Обзор мирового рынка арсенида галлия / А.В. Наумов // Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. - 2005. - №2. - С. 20-25.
35. Хлудков С.С. О практическом применении арсенида галлия, легированного переходными металлами / С.С. Хлудков // Известия высших учебных заведений. Физика. - 2012. - №8-2. - С. 199-122.
36. Ларичкин Ф.Д., Череповицын А.Е., Новосельцева В.Д. Состояние и перспективы российского и мирового рынка галлия / Ф.Д. Ларичкин, А.Е. Череповицын, В.Д. Новосельцева // Известия уральского государственного горного университета. - 2017. - №4 (48). - С. 108-114.
37. Киселев В.К., Скупов В.Д. Новые области применения радиационных технологий в производстве полупроводниковых приборов / В.К Киселев, В.Д. Скупов // Вестник нижегородского университета им. Н.И. Лобачевского. Серия: физика твердого тела. - 1998. - №2. - С. 125-130.
38. Yahia I.S., Farag A.A.M., Jafer R. Electrical, photovoltaic and photosensitivity characteristics of p-ZnTe:N/CdTe:Mg/«-CdTe:I/GaAs for photodiode applications / I.S. Yahia, A.A.M. Farag, R. Jafer // Materials science in Semiconductor Processing. - 2017. №8. - P. 33-40.
39. Vigneron P.B., Joint F., Isac. N Advanced and reliable GaAs/AlGaAs
ICP-DRIE etching for optoelectronic, microelectronic and microsystem applications / P.B. Vigneron, N. Isac // Microelectronic Engineering. - 2018. №2. - P. 42-50.
40. Сборник инструкций по охране труда химического факультета - Барнаул.: Изд-во АлтГУ. - 1997. - 23 с.
41. Многоуровневое строение, физико - химические и инфомационные свойства вещества / С. А. Безносюк, А. И. Потекаев, М. С. Жуковский, Т. М. Жуковская, Л. В. Фомина. - Томск : Изд-во НТЛ, - 2005 - C. 72.