Аннотация 1
Содержание 2
Введение 3
1. Патентный обзор 4
1.1 Заключение 19
2. Информационный обзор 21
2.1 Классификация методов нанесения покрытий в вакууме 21
2.2 Диодные системы ионного распыления 27
2.3 Магнетронные системы ионного распыления 30
2.4 Вакуумно-дуговое распыление 35
2.5 Электронно-лучевая обработки материалов 39
2.6 Технологические особенности нанесения пленок резистивным
методом 43
3. Специальная часть 48
3.1 Технологический процесс термического испарения 51
3.2 Технологический процесс ионного распыления 54
3.3 Расчет времени технологического процесса 58
4. Экономическая часть 64
5. Список использованной литературы 82
Приложения должны быть в работе, но в данный момент отсутствуют
Тонкие пленки служат для изменения оптических, электрических, магнитных, механических и химических свойств поверхности твердого тела и находят широкое практическое применение в современных областях техники. Вряд ли сейчас можно назвать какую-либо область науки, техники или промышленного производства, где бы не применялись тонкие пленки.
В оптике тонкие пленки используются в качестве фильтрующих и просветляющих покрытий линз, поляризаторов, интерференционных светофильтров, в качестве отражающих поверхностей рефлекторов, а также при производстве зеркал.
В радиоэлектронике они используются при производстве интегральных микросхем, полупроводниковых приборов, элементов СВЧ техники, пленочных резисторов и конденсаторов, магнитных пленочных элементов памяти ЭВМ, сверхпроводящих пленок, проводящих покрытий флюоресцирующих экранов электронно-лучевых трубок, фотоэлектронных умножителей и др.
В машиностроении тонкие пленки используются в качестве антикоррозионных и упрочняющих покрытий, а также в качестве покрытий для гигроскопических материалов.
В измерительной технике на основе пленочной технологии изготовляются комбинированные термопары, металлополупроводниковые болометры, пленочные терморезисторы и тензометры.
Тонкие пленки находят широкое применение при фундаментальных исследованиях связи структуры твердых тел с их свойствами, фотоэлектрических явлений и электропроводности, поверхностных свойств тел и механизма роста кристаллов, а также при изготовлении мишеней, используемых в ядерных экспериментах.
При изготовлении товаров народного потребления тонкие пленки применяются для декоративных покрытий пластмасс, стекла, керамики, тканей.
1. Холлэнд JI. Нанесение тонких плёнок в вакууме. - М.: Госэнергоиздат, 1963.
2. Технология тонких плёнок (справочник). Т. 1 / Под ред. Л. Майселла, Р. Глэнга. - М.: Сов. Радио, 1977,
3. Данилин Б.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. — М.: Радио и связь, 1982.
4. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. - М.: Энергоатомиздат, 1989.
5. Минайчев В.Е., Одиноков В.В., Тюфаева Г.П. Магнетронные распылительные устройства (Магратроны). — М.: ЦНИИ “Электро-ника”. Обзоры по электронной технике. Сер. 7. 1979. Вып. 8(659).
6. Лабунов В.А., Данилович Н.И., Уксусов А.С., Минайчев В.Е. Современные магнетронные распылительные устройства // Зарубежная электронная техника. 1982. Вып. 10(256). С. 3-62.
7. Корчагин Б.В., Орлов В.И. Нанесение металлов и их соединений методами магиетронного и диодного распыления. - М.: ЦНИИ “Электроника". Обзоры по электронной технике. Сер. 7. 1986. Вып. 15(1222).
8. Белянин А.Ф., Пащенко П.В. Конструкции магнетронных
распылительных систем (Обзор) // Техника средств связи. Сер. ТПО. 1992. Вып. 1-2. С. 6-27. || Белянин А.Ф., Пащенко П.В. Конструирование
магнетронных распылительных систем, используемых для производства ГИС и устройств функциональной микроэлектроники И Там же. С. 28-47. I! Бесоногов В.В.. Житковский В.Д., Пащенко П.В., Елисеев А.Ю. Конструкции магнетронов для распыления металлов // Там же. С. 48-51.
9. Thornton J.A., Greene J.E. Sputter deposition processes. - In Handbook of deposition technologies for films and coatings / Ed. R.F, Bunshah. 2nd ed. - USA: Noyes Publications. 1992, p.249-319.
10. WasaK., Hayakawa S. Handbook of sputter deposition technology. - USA: Noyes Publications, 1992.
11. Schiller S., Heisig U., Goedicke K... On the use of ring gap discharges for high-rate vacuum coating II J. Vac. Sci. Technol. 1977. Vol. 14. No. 3. P. 815-818.
12. Waits R.K. Planar magnetron sputtering H J. Vac. Sci. Technol. 1978. Vol. 15. No. 2. P. 179-187.
13. Вершина А.К., Агеев В.А. Ионно-плазменные защитно-декоративные покрытия. - Гомель: ИММС НАНБ, 2001.
14. Musil J. Nanostructured hard coatings. - N.Y.: Klumer Academic, 2005.
15. Schiller S., HeisigU., BeisterG. Et al. Deposition of hard wear-resistant coating by reactive d.c. plasmatron sputtering II Thin Solid Films. 1984. Vol. 118. No. 3. P. 255-270.
16. Biederman H., Kohoutek, ChmelZ., Stary V. Hard carbon and composite metal/hard carbon films prepared by a DC unbalanced planar magnetron II Vacuum. 1990. Vol. 40. P. 251-255.
17. Miinz W.-D., Hauser F.J.M., Schulze D., Buil B. A new concept for physical vapor deposition coating combining the methods of arc evaporation and unbalanced-magnetron sputtering // Surf. Coat. Technol. 1991. Vol. 49. P. 161-167.
18. Efeoglu I., Amell R.D., Tinston S.F., TeerD.G. The mechanical and tribological properties of titanium nitride coatings formed in a four magnetron closed-field sputtering system II Surf. Coat. Technol. 1993. Vol. 57. P. 61-69.
19. Amell R.D., Kelly P.J. Recent advances in magnetron sputtering И Surf. Coat. Technol. 1999. Vol. 112. P. 170-176. II Kelly P.J., Amell R.D. Magnetron sputtering: a review of recent developments and applications // Vacuum. 2000. Vol. 56. P. 159-172.
20. Wei R., VajoJJ., MatossianN. et al. Aspects of plasma-enhanced magnetron-sputtered deposition of hard coatings on cutting tools // Surf. Coat. Technol. 2002. Vol. 158-159. P. 465-472.
21. Thin films'. Ionized physical vapor deposition / Ed. J.A. Hopwood. - San Diego. USA: Academic Press, 2000.
22. Helmersson U., Lattemann М., Bohlmark J. et al. Ionized physical vapor deposition (IPVD): A review of technology and applications II Thin Solid Films. 2006. Vol. 513. P. 1-24.
23. Mattox D.M. Ion plating. - In Handbook of deposition technologies for films and coatings / Ed. R.F. Bunshah. 2nd ed. - USA: Noyes Publications, 1992. P. 320-373.
24. Белевский В.П., Кузьмичёв А.И. Методы термоионного осаждения для нанесения металлических покрытий. - Киев: Об-во “Знание” Украины, 1991.
25. Вольпян О.Д., Кузьмичёв А.И. Основные тенденции развития ионно- плазменных технологий нанесения оптических покрытий. - В мат. XIV научн.-техн. конф. “Вакуумная наука и техника”. Сочи, 2007. С. 186-190.
26. Вольпян О.Д., Мешков Б.Б., Яковлев П.П. Получение плёнок для оптических применений методом реактивного магнетронного распыления. В сб. докл. научн.-практ. симп. “Функциональные покрытия на стёклах”. Харьков, 2003. С. 125-130.