МОДЕЛИРОВАНИЕ И АНАЛИЗ МЕТОДОМ КОНЕЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ СТРУКТУР ВСТРЕЧНО-ШТЫРЕВЫХ КОНДЕНСАТОРОВ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЙ ЭЛЕКТРОНОВ НА ПОВЕРХНОСТИ ГЕЛИЯ И НЕОНА
|
ВВЕДЕНИЕ 3
1 Электроны на поверхности жидкого гелия 6
1.1 Поверхностные электроны над плоской границей жидкого гелия 7
2 Электроны на поверхности твёрдого неона 9
2.1 Эксперименты с твёрдым неоном 10
3 Встречно-штыревой конденсатор (Interdigitated capacitor/ IDC) 13
3.1 Физическая модель IDC 13
3.2 Ёмкость одного полубесконечного диэлектрического слоя 15
3.3 Ёмкость IDC с N диэлектрическими слоями 16
3.4 Вычисление внутренней полуёмкости CI 17
3.5 Вычисление внешней полуёмкости CE 20
3.6 Предельный случай с бесконечной высотой диэлектрического слоя . 22
3.7 Общая ёмкость 22
4 Метод конечных элементов 24
4.1 Основы метода конечных элементов 24
4.2 Программы для решения задач методом конечных элементов 26
5 Экспериментальная часть. Расчет и моделирование 29
5.1 Моделирование и расчет параметров IDC для случая с твердым
неоном 29
5.2 Моделирование и расчет параметров IDC для случая с жидким
гелием 35
5.3 Моделирование и расчет параметров IDC, состоящего из 6
электродов 37
ЗАКЛЮЧЕНИЕ 41
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ 43
ПРИЛОЖЕНИЕ А 46
ПРИЛОЖЕНИЕ В 48
ПРИЛОЖЕНИЕ С
1 Электроны на поверхности жидкого гелия 6
1.1 Поверхностные электроны над плоской границей жидкого гелия 7
2 Электроны на поверхности твёрдого неона 9
2.1 Эксперименты с твёрдым неоном 10
3 Встречно-штыревой конденсатор (Interdigitated capacitor/ IDC) 13
3.1 Физическая модель IDC 13
3.2 Ёмкость одного полубесконечного диэлектрического слоя 15
3.3 Ёмкость IDC с N диэлектрическими слоями 16
3.4 Вычисление внутренней полуёмкости CI 17
3.5 Вычисление внешней полуёмкости CE 20
3.6 Предельный случай с бесконечной высотой диэлектрического слоя . 22
3.7 Общая ёмкость 22
4 Метод конечных элементов 24
4.1 Основы метода конечных элементов 24
4.2 Программы для решения задач методом конечных элементов 26
5 Экспериментальная часть. Расчет и моделирование 29
5.1 Моделирование и расчет параметров IDC для случая с твердым
неоном 29
5.2 Моделирование и расчет параметров IDC для случая с жидким
гелием 35
5.3 Моделирование и расчет параметров IDC, состоящего из 6
электродов 37
ЗАКЛЮЧЕНИЕ 41
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ 43
ПРИЛОЖЕНИЕ А 46
ПРИЛОЖЕНИЕ В 48
ПРИЛОЖЕНИЕ С
Одной из наиболее актуальных задач современной науки является создание квантового компьютера - вычислительного устройства, использующего в своей работе квантово-механические эффекты. Исследования ведут многие научные коллективы по всему миру. Многообещающими физическими системами, которые можно использовать для квантовых вычислений, являются системы электронов на поверхности диэлектриков с малой диэлектрической проницаемостью (s < 2, где s - диэлектрическая проницаемость). Находясь на поверхности диэлектрика, электрон поляризует диэлектрик, вследствие чего происходит возникновение заряда изображения, индуцированного в диэлектрике. Возникает сила электростатического притяжения со стороны диэлектрика. Эта сила равна силе притяжения электрона и заряда изображения. Потенциал этой силы описывается выражением:
e2(s — 1)
4 (£ + 1)z z
где e - заряд электрона, s - диэлектрическая проницаемость диэлектрика, z - расстояние, на котором находится электрон относительно поверхности диэлектрика. В том случае, когда будет выполняться условие, что (s-1) < 1, электроны будут находиться далеко от поверхности, как следствие, будет происходить свободное движение этих частиц вдоль поверхности.
Диэлектрики, использующиеся для таких систем представлены в таблице 1.
Одной из гипотез была гипотеза о реализации кубита (единицы квантовой информации, квантовый бит) в виде электрона на поверхности квантовой жидкости - жидкого гелия [1]. В настоящее время перед учеными стоит задача научиться контролировать состояния электронов на поверхности сверхтекучего гелия. Это возможно при условии создания специфических конфигураций электрического поля через систему электродов микро- и субмикрометрового масштаба и приложения к ней определенных электрических потенциалов [2]. При достижении предельно возможной плотности электронов на поверхности жидкого гелия, происходит процесс ухода электронов с поверхности вглубь диэлектрика, т.е. образование пузырьков - многозарядных (около 107 электронов) отрицательных ионов в сверхтекучем гелии [3].
Второй, не менее перспективной системой электрон - диэлектрик является система электронов на поверхности твёрдого неона. Преимущество её состоит в том, что возможны электронные состояния с плотностью электронов ns = 3*1010 см-2, в то время как в системе с гелием доступны лишь ns <= 2*109 см-2.
Важнейшими параметрами в изучении ваше описанных систем являются диэлектрическая проницаемость и уровень заполнения диэлектриком экспериментальной ячейки. При известном значении диэлектрической проницаемости диэлектрика в данном фазовом состоянии, уровень заполнения остается неизвестной величиной. Эту задачу можно решить, используя один из точнейших чувствительных датчиков - встречно-штыревого конденсатора (Interdigitated capacitor/IDC).
Целями данной работы являлись объяснение результата, полученного в ходе опытов по измерениям ёмкости IDC со сконденсированным неоном, и определение рабочих характеристик измерителя уровня жидкого гелия, построенного на основе IDC.
Для достижения целей данной работы нужно было решить следующие задачи:
1. Построить модель встречно-штыревого конденсатора (Interdigitated capacitor/IDC), использовавшегося в ходе опытов коллегами из RIKEN. Подобрать параметры моделируемой ячейки и измерить зависимость ёмкости IDC от толщины слоя твёрдого неона.
2. Построить модель встречно-штыревого конденсатора для измерения уровня жидкого гелия и рассчитать зависимость ёмкости IDC от уровня заполнения ячейки жидким гелием.
3. Построить тестовую модель встречно-штыревого конденсатора, состоящего из 6 электродов для проверки результатов численного моделирования с теоретической моделью.
Результаты работы докладывались на:
1. Итоговой научно-образовательной конференции студентов Института Физики КФУ, Казань, 21 апреля 2017 года.
2. Конкурсе на лучшую научную работу студентов КФУ по естественно-научному направлению, Казань, 2017 год.
3. III Всероссийском конкурсе НИР (молодежный научный форум «Наука будущего - наука молодых»). (На данном этапе работа проходит заочный
тур).
e2(s — 1)
4 (£ + 1)z z
где e - заряд электрона, s - диэлектрическая проницаемость диэлектрика, z - расстояние, на котором находится электрон относительно поверхности диэлектрика. В том случае, когда будет выполняться условие, что (s-1) < 1, электроны будут находиться далеко от поверхности, как следствие, будет происходить свободное движение этих частиц вдоль поверхности.
Диэлектрики, использующиеся для таких систем представлены в таблице 1.
Одной из гипотез была гипотеза о реализации кубита (единицы квантовой информации, квантовый бит) в виде электрона на поверхности квантовой жидкости - жидкого гелия [1]. В настоящее время перед учеными стоит задача научиться контролировать состояния электронов на поверхности сверхтекучего гелия. Это возможно при условии создания специфических конфигураций электрического поля через систему электродов микро- и субмикрометрового масштаба и приложения к ней определенных электрических потенциалов [2]. При достижении предельно возможной плотности электронов на поверхности жидкого гелия, происходит процесс ухода электронов с поверхности вглубь диэлектрика, т.е. образование пузырьков - многозарядных (около 107 электронов) отрицательных ионов в сверхтекучем гелии [3].
Второй, не менее перспективной системой электрон - диэлектрик является система электронов на поверхности твёрдого неона. Преимущество её состоит в том, что возможны электронные состояния с плотностью электронов ns = 3*1010 см-2, в то время как в системе с гелием доступны лишь ns <= 2*109 см-2.
Важнейшими параметрами в изучении ваше описанных систем являются диэлектрическая проницаемость и уровень заполнения диэлектриком экспериментальной ячейки. При известном значении диэлектрической проницаемости диэлектрика в данном фазовом состоянии, уровень заполнения остается неизвестной величиной. Эту задачу можно решить, используя один из точнейших чувствительных датчиков - встречно-штыревого конденсатора (Interdigitated capacitor/IDC).
Целями данной работы являлись объяснение результата, полученного в ходе опытов по измерениям ёмкости IDC со сконденсированным неоном, и определение рабочих характеристик измерителя уровня жидкого гелия, построенного на основе IDC.
Для достижения целей данной работы нужно было решить следующие задачи:
1. Построить модель встречно-штыревого конденсатора (Interdigitated capacitor/IDC), использовавшегося в ходе опытов коллегами из RIKEN. Подобрать параметры моделируемой ячейки и измерить зависимость ёмкости IDC от толщины слоя твёрдого неона.
2. Построить модель встречно-штыревого конденсатора для измерения уровня жидкого гелия и рассчитать зависимость ёмкости IDC от уровня заполнения ячейки жидким гелием.
3. Построить тестовую модель встречно-штыревого конденсатора, состоящего из 6 электродов для проверки результатов численного моделирования с теоретической моделью.
Результаты работы докладывались на:
1. Итоговой научно-образовательной конференции студентов Института Физики КФУ, Казань, 21 апреля 2017 года.
2. Конкурсе на лучшую научную работу студентов КФУ по естественно-научному направлению, Казань, 2017 год.
3. III Всероссийском конкурсе НИР (молодежный научный форум «Наука будущего - наука молодых»). (На данном этапе работа проходит заочный
тур).
1. Была построена модель встречно-штыревого конденсатора (Interdigitated capacitor/IDC), использовавшегося в ходе опытов коллегами из RIKEN CEMS (Япония) и NCTU (Тайвань). По результатам моделирования и расчетов в программе Freefem++, была найдена зависимость ёмкости IDC от вертикального размера моделируемой ячейки. Зависимость носит убывающих характер (рисунок 5.1.5),а, начиная с 20 мм, величина ёмкости начинает слабо зависеть от размера ячейки и положение образца по высоте. Поэтому высота в 20 мм выбрана за оптимальный параметр полувысоты ячейки для дальнейших расчетов и экспериментов.
Была исследована зависимость ёмкости IDC от толщины слоя неона (рисунок 5.1.7). Установлено, что ёмкость перестает изменяться при толщине слоя неона, равной периоду структуры IDC. Сравнивая результаты моделирования и расчета с экспериментом по охлаждению IDC в неоне, можно заключить, что наблюдаемое насыщение связано с достижением пленкой неона толщины, равной периоду структуры IDC.
2. Была построена модель встречно-штыревого конденсатора для измерения уровня жидкого гелия в ячейки и получена зависимость ёмкости IDC от уровня заполнения жидким гелием ячейки. Зависимость носит линейный характер. При увеличении уровня жидкого гелия в ячейке, значение ёмкости встречноштыревого конденсатора увеличивается (рисунок 5.2.3).
3. Для проверки результатов численного моделирования с теоретической моделью была построена тестовая модель встречно-штыревого конденсатора, состоящего из 6 электродов. Была исследована зависимость ёмкости IDC от параметра r (отношение толщины слоя твёрдого неона к периоду встречно - штыревого конденсатора), полученная в результате численного моделирования и теоретических расчетов. Сравнивая результаты, можно сделать вывод о том, что они практически совпадают.
Была исследована зависимость ёмкости IDC от толщины слоя неона (рисунок 5.1.7). Установлено, что ёмкость перестает изменяться при толщине слоя неона, равной периоду структуры IDC. Сравнивая результаты моделирования и расчета с экспериментом по охлаждению IDC в неоне, можно заключить, что наблюдаемое насыщение связано с достижением пленкой неона толщины, равной периоду структуры IDC.
2. Была построена модель встречно-штыревого конденсатора для измерения уровня жидкого гелия в ячейки и получена зависимость ёмкости IDC от уровня заполнения жидким гелием ячейки. Зависимость носит линейный характер. При увеличении уровня жидкого гелия в ячейке, значение ёмкости встречноштыревого конденсатора увеличивается (рисунок 5.2.3).
3. Для проверки результатов численного моделирования с теоретической моделью была построена тестовая модель встречно-штыревого конденсатора, состоящего из 6 электродов. Была исследована зависимость ёмкости IDC от параметра r (отношение толщины слоя твёрдого неона к периоду встречно - штыревого конденсатора), полученная в результате численного моделирования и теоретических расчетов. Сравнивая результаты, можно сделать вывод о том, что они практически совпадают.



