1. Актуальность
Неизменным стремлением развития промышленности является улучшение качества производственных материалов. Средством достижения нужных характеристик в настоящее время служат различные методы их модификации.
Одним из методов электрофизической обработки является воздействие плазмой газового разряда, которое используется для улучшения свойств промышленных материалов, улучшения износостойкости и продления срока их службы. Такой вид модификации удобен тем, что подходит для обработки самых разных материалов, и потому представляет собой большой интерес. В этой работе рассматривается конкретный вид электрического разряда - тлеющий.
Однако метод обработки материалов плазмой тлеющего разряда характеризуется зависимостью конечного результата от большого числа параметров, связанных между собой сложным образом, вследствие чего проведение исследований на реальных экспериментальных установках становится сложным и дорогостоящим процессом. Поэтому в настоящее время предпочтение отдается первоначальному математическому моделированию физических процессов, происходящих в плазмотронах. Для этой цели используются программные алгоритмы на языках высокого уровня.
2. Тлеющий разряд
Тлеющий разряд - это один из видов стационарного электрического разряда в газах, самоподдерживающийся разряд с холодным катодом, испускающим электроны в результате вторичной эмиссии. Формируется, как правило, при низком давлении и малом токе.
В отличие от нестационарных (импульсных) электрических разрядов в газах, основные характеристики тлеющего разряда остаются относительно стабильными во времени.
Так применение тлеющего разряда при газофазном диффузионном насыщении, одном из методов упрочнения металлов, увеличения их жаростойкости, износостокости, коррозионной стойкости и твердости, позволяет во много раз увеличить скорость получения покрытия и снизить температуру его образования, так как основа материала при этом испытывает воздействие более низких температур и в течение более короткого времени, чем при обычной технологии газофазного насыщения. При диффузионном насыщении металлов в тлеющем разряде достигается довольно высокий коэффициент использования электрической энергии, которая почти полностью расходуется на ионизацию газовой среды и нагрев до нужной температуры обрабатываемой детали катода. Небольшая часть энергии тратится на конвекцию газовой среды и теплопередачу на стенки газовой камеры. Преимуществом технологии является и то, что обработка изделий происходит в чистой контролируемой среде, не требует использования высокотемпературных печей и жаростойких контейнеров[1].
3. Вычислительный эксперимент
Для исследования сложных физических объектов, явлений или процессов в настоящее время используется технология, основанная на построении и анализе с помощью ЭВМ математических моделей изучаемого объекта. Такой метод исследования называется вычислительным экспериментом [2]. Схема вычислительного эксперимента представлена на рис. 1.
Рис. 1. Схема вычислительного эксперимента
1. Формулирование основных законов, управляющих данным объектом исследования;
2. Построение соответствующей математической модели, представляющей обычно запись этих законов в форме системы уравнений (алгебраических, дифференциальных, интегральных и т.д.)
Таким образом, основой схемы вычислительного эксперимента становится триада: модель ! метод(алгоритм) ! программа. Именно этой цепочкой определялись этапы разработки решения для поставленной в дипломной работе задачи.
В ходе выполнения выпускной квалификационной работы была изучена модель тлеющего разряда и электродинамических процессов, протекающих в газоразрядной трубке, построен алгоритм решения задачи расчета концентрации метастабильных атомов, разработана программа, проведены тестовые расчеты, построены графики зависимости концентрации метастабильных атомов от координаты внутри трубки, проанализированы полученные результаты. Сделаны следующие выводы:
• концентрация метастабильных атомов внутри трубки плазмы тлеющего разряда возрастает от обоих краев трубки, достигая максимума в районе 4 * 1016 — 4 * 1019 (в зависимости от значений других параметров и граничных условий) в ее середине;
• вид графика зависимости концентрации метастабильных атомов от координаты внутри разрядной трубки зависит от значения коэффициента диффузии Dm (при большем его значении график сглаживается) и концентраций ne и па;
• наибольший вклад в процесс гибели метастабильных атомов вносит реакция ступенчатой ионизации R3, учет влияния данного типа реакции уменьшает расчетное значение концентрации метастабильных атомов на порядок;
• основной вклад в процесс рождения метастабильных атомов, уравновешивая реакции ступенчатой ионизации, вносит реакция возбуждения метастабилей. Без учета влияния этого типа реакции расчетная концентрация метастабильных атомов в трубке газового разряда уменьшается более, чем на три порядка, достигая минимума в середине трубки.
• при больших значениях коэффициента диффузии метастабильных атомов Dm наблюдается уменьшение концентрации метастабильных атомов nm разрядной трубке. Это связано с большей вероятностью столкновения двух метастабильных атомов с последующей ионизацией одного
из них.