ВВЕДЕНИЕ 3
1. Обзор литературы 5
1.1 Послойный рост кристалла. Краевая задача поверхностной диффузии .. 5
1.2. Модели роста полупроводниковых соединений III-V 11
1.3. Рост цепи сополимера и движение излома на ступени кристалла
химического соединения - статистика проб и ошибок 14
2. Модель роста бинарного кристалла AB 20
2.1. Формулирование краевых условий на ступени бинарного кристалла .. 20
2.2. Диффузионный и кинетический режимы движения ступеней бинарного
кристалла 23
3. Краевые условия для задачи поверхностной диффузии при росте
соединений III-V из молекулярного пучка 27
3.1. Необратимый поток атомов III группы в ступень 27
3.1.1. Основные допущения 27
3.1.2. Миграция адатомов вдоль края ступени (непрямой механизм
встраивания) 27
3.1.3. Учет прямого встраивания в излом. Условие нормировки
кинетических коэффициентов 34
3.2. Предельные случаи проницаемых и непроницаемых ступеней.
Однокомпонентное приближение 37
3.3. Слабые отклонения от равновесия. Линеаризация потоков 41
3.4. Влияние потока атомов V группы на переход к островковому росту... 44
ЗАКЛЮЧЕНИЕ 47
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННОЙ ЛИТЕРАТУРЫ 49
Рост плоских граней кристаллов и эпитаксиальных слоев при кристаллизации из газовой фазы и из молекулярного пучка происходит по слоевому механизму, путем тангенциального движения элементарных ступеней высотой в один кристаллический слой. Континуальные теории послойного роста основаны на формулировании и решении краевой задачи поверхностной диффузии, включающей уравнения непрерывности для атомов, адсорбированных на террасах, (адатомов) и краевые условия на краях ступеней. В случае кристаллов химических соединений, в частности бинарных полупроводниковых соединений типа III-V и II-VI, корректная постановка краевой задачи требует учета наличия нескольких сортов диффундирующих частиц и стехиометрии растущих кристаллических слоев. Стехиометрия обусловливает ограничения (корреляции) при встраивании атомов в изломы на ступенях - вероятность сохранения в процессе роста присоединившегося к излому атома существенным образом зависит от сорта данного атома и от сорта атома, присоединившегося к излому ранее. Теория, описывающая кооперативные эффекты при встраивании частиц разных сортов в изломы разработана в 60-х годах прошлого века А.А. Черновым (метод функций сохранения). Однако применение данной теории для формулирования краевых задач поверхностной диффузии при росте бинарных соединений в литературе отсутствует. Обычно используется т.н. однокомпонентное приближение, предполагающее, что скорость перемещения ступеней определяется поверхностной диффузией и встраиванием в ступень одного из компонентов. Очевидно, что в случае стехиометрических бинарных соединений данный подход требует обоснования и уточнения понятий равновесная концентрация адатомов и кинетический коэффициент ступени.
В магистерской диссертации предложена формулировка краевой задачи поверхностной диффузии при росте бинарного соединения АВ с использованием краевого условия, следующего из условия баланса диффузионного потока и потока атомов встраивающихся в ступень. При этом выражение для потока встраивающихся атомов учитывает кооперативные эффекты при встраивании атомов А и В в изломы на ступени, в силу чего это выражение представляет собой нелинейную функцию концентраций адатомов вблизи ступени. С использованием решения данной нелинейной краевой задачи рассмотрены условия перехода к диффузионному и кинетическому режимам движения ступеней и условия, при которых движение ступени контролируется одним из компонентов.
Разработана модель встраивания частиц в ступень при послойном росте полупроводниковых соединений III-V, учитывающая присутствие молекул V группы в мобильном физадсорбированном состоянии и возможность диффузии атомов III группы как по террасам, так и вдоль гладких участков края ступени между изломами. Встраивание атомов в изломы на ступенях описывается с использованием метода функций сохранения, что позволяет учесть стехиометрию соединения. Установлены связи кинетических коэффициентов ступени с константами скоростей элементарных процессов на крае ступени. С использованием модели установлены условия справедливости однокомпонентного приближения и проведен анализ влияния давления (адсорбционного потока) атомов элемента V группы на переход от роста по механизму движения вицинальных ступеней к росту за счет образования двумерных островков на террасах.
В магистерской диссертации проведено теоретическое исследование кинетики послойного роста кристаллов бинарных химических соединений. Предложены новые формулировки краевой задачи поверхностной диффузии атомов, учитывающие особенности встраивания атомов в ступени на поверхности кристалла стехиометрического химического соединения. Получены следующие основные результаты:
- Сформулирована краевая задача поверхностной диффузии с нелинейным краевым условием, описывающим баланс диффузионного потока адатомов и потока атомов встраивающихся в изломы на ступенях стехиометрического бинарного соединения. Показано, что в случае диффузионного режима роста решение задачи поверхностной диффузии с указанным нелинейным краевым условием соответствует решению задачи с краевым условием, предполагающим достижение динамического равновесия между ступенью и адсорбционным слоем, состоящим из адсорбированных атомов А и В и поверхностных вакансий.
- Получено выражение для потока атомов III группы в ступень на вицинальной поверхности кристалла соединения III-V при прямом встраивании атомов V группы в изломы из газовой фазы и с учетом миграции атомов III группы вдоль гладких участков края ступени.
- Показано, что использование однокомпонентного приближения для описания роста соединений III-V корректно в случае непроницаемой ступени, эффективного блокирования атомов III группы в изломах атомами V группы и малой концентрации изломов. Отличие от однокомпонентного случая состоит лишь в зависимости равновесной концентрации адатомов III группы от содержания компонента V группы в системе.
- При слабых отклонениях от равновесия получены выражения для коэффициента встраивания атомов III группы в ступень и коэффициента проницаемости ступени, которые можно использовать при формулировании линейных краевых условий в задаче поверхностной диффузии.
- Показано, что влияние давления (потока) V группы на переход от роста за счет движения вицинальных ступеней к росту за счет образования двумерных островков может быть связано не только с зависимостью от величины данного потока пересыщения адслоя, но и зависимостью кинетического коэффициента встраивания адатомов III группы в ступень.
1. Современная кристаллография. Т. 3. Образование кристаллов. Под ред. Б.К. Вайнштейна. - М.: Наука, 1980. - 401 с.
2. Бартон Ф., Кабрера Н., Франк Ф. Рост кристаллов и равновесная структура их поверхностей. В сб. Элементарные процессы роста кристаллов. Под ред. Г.Г. Леммлейна и А.А. Чернова. - М.: ИЛ, 1959. - С. 11-109.
3. Чернов А.А. Слоисто-спиральный рост кристаллов. Успехи физических наук. - 1961. - Т. 73, вып. 2. - С. 277-331.
4. Markov I.V. Crystal growth for beginners, 2nd ed. - World Scientific Publishing Co. Pte. Ltd., Singapore, 2003. - 546 p.
5. Tanaka S., Bartelt N.C., Umbach C.C., Tromp R.M., Blakely J.M. Step Permeability and the Relaxation of Biperiodic Gratings on Si(001) // Phys. Rev. Lett. - 1997. - V. 78 - P. 3342-3345.
6. Filimonov S.N., Hervieu Yu.Yu. Terrace-edge-kink model of atomic processes at the permeable steps // Surf. Sci. - 2004. - V. 553, № 1. - P. 133-144.
7. Pimpinelli A., Villain J. Physics of crystal growth. - Cambridge University Press, Cambridge UK, 1998. - 377 p.
8. E W., Yip N.K. Continuum theory of epitaxial crystal growth. I. // J. Stat. Phys. - 2001. - V. 104. - P. 221-253.
9. Schwoebel R.L., Chipsey E.J. Step motion on crystal surface // J. Appl. Phys.- 1966.-V.37.-P.3682-3686.
10. Филимонов С.Н., Эрвье Ю.Ю. Динамика ступеней при росте кристалла из газовой фазы и молекулярного пучка: учебно-методическое пособие. - Томск, 2019. - 54 с.
11. Tersoff J., Johnson M.D. and Orr B.G. Adatom Densities on GaAs: Evidence for Near-Equilibrium Growth // Phys. Rev. Lett. - 1997. - V. 78. - P. 282-285.
12. Дубровский В.Г. Лимитирующие факторы скорости роста при эпитаксии полупроводниковых соединений Ш-V. - Письма в ЖТФ. - 2023. - Т. 49, вып. 8.
13. Dubrovskii V.G., Leshchenko E.D. Kinetically controlled composition of III-V ternary nanostructures // Phys. Rev. Materials. - 2023. - V.7. - P. 056001.
14. Чернов А.А. Рост цепей сополимеров и смешанных кристаллов — статистика проб и ошибок/ А.А. Чернов// УФН. - 1970. - Т. 100, N 2. - С. 277-328.
15. Chernov A.A., Lewis J. Computer model of crystallization of binary systems; kinetic phase transitions. J. Phys. Chem. Solids. - 1967. - V.28. - C.2185-2189.
16. Hervieu Yu.Yu., Ruzaikin M.P. Growth and doping of semiconductor compounds: kinetics of incorporation processes at kink sites // Growth of Crystals / Eds. E.I.Givargizov, A.M.Melnikova. - Kluver Academic (Consultant Bureau), NY, Boston, London, Moscow, 2002. - V.21. - P.1-9.
17. Zhang J., Nancollas G.H. Kink Density and Rate of Step Movement during Growth and Dissolution of an AB Crystal in a Nonstoichiometric Solution // J. Colloid Interface Sci. - 1998. - V. 200. - P. 131-145.
18. S. V. Moshkin and A. V. Nardov, Growth kinetics of constant-composition binary crystals from solutions // J. Cryst. Growth. - 1981. - V. 52. - P. 816-819.
19. Joyce B.A., Vvedensky D.D. Self-organized growth on GaAs surfaces // Mater. Sci. Eng. - 2004. - V. R 46. - P. 127-176.
20. Morgan C.G., Kratzer P., Scheffler M. Arsenic Dimer Dynamics during MBE Growth: Theoretical Evidence for a Novel Chemisorption State of As2 Molecules on GaAs Surfaces // Phys. Rev. Lett. - 1999. - V.82. - P. 4886-4889.
21. Filimonov S.N., Hervieu Yu.Yu. Statistics of second layer nucleation in heteroepitaxial growth // Surf. Sci. - 2002. - V.507-510 C. - P.270-275.
22. Filimonov S.N., Hervieu Yu.Yu. Terrace-edge-kink model of atomic processes at the permeable steps // Surf. Sci. - 2004.-V.553, N1/3.-P.133-144.
23. Hervieu Yu.Yu., Markov I. Kinetics of second layer nucleation with permeable steps // Surf. Sci. - 2014. - V.628. - P. 76-81.
24. Ranguelov B., Altman M.S., Markov I.V. Critical terrace width for step flow growth: Effect of attachment-detachment asymmetry and step permeability // Phys. Rev. B. - 2007. - V. 75. - P. 245419.
25. Chung W.F., Altman M.S. Kinetic length, step permeability, and kinetic coefficient asymmetry on the Si(111)7x7 surface // Phys. Rev. B. - 2002. - V. 66.
- P. 075338.
26. Chung W.F., Bromann K., Altman M.S. The transition to step flow growth on clean and surfactant covered Si(111) surface studied by in-situ LEEM // Int. J. Mod. Phys. B. - 2002. - V. 16. - P. 4353-4362.
27. Shitara T. et al. Step-density variations and reflection high-energy electron-difFraction intensity oscillations during epitaxial growth on vicinal GaAs(001) // Phys. Rev. B. - 1992. - V.46. - P. 6815-6824.
28. Toyoshima H. et al. In adatom migration studies by reflection high-energyelectron diffraction oscillations on vicinal InAs(001) surfaces // J. Appl. Phys. - 1993. - V. 73. - P. 2333-2337.
29. Grosse F. et al. Arsenic Flux Dependence of Island Nucleation on InAs(001) // Phys. Rev. Lett. - 2002. - V. 89. - P. 116102.
30. J. H. G. Owen, W. Barvosa-Carter, J. J. Zinck Growth oscillation decay rates for control of III-V molecular beam epitaxy near stoichiometry // Appl. Phys. Lett.
- 2000. - V.76. - P. 3070-3072.