📄Работа №186777

Тема: РАСЧЁТ P-Z-A-СТРУКТУР НА ОСНОВЕ АЛМАЗА

📝
Тип работы Дипломные работы, ВКР
📚
Предмет физика
📄
Объем: 30 листов
📅
Год: 2023
👁️
Просмотров: 55
Не подходит эта работа?
Закажите новую по вашим требованиям
Узнать цену на написание
ℹ️ Настоящий учебно-методический информационный материал размещён в ознакомительных и исследовательских целях и представляет собой пример учебного исследования. Не является готовым научным трудом и требует самостоятельной переработки.

📋 Содержание

Аннотация
ВВЕДЕНИЕ 6
1 Физико-химические свойстваp-i-n-структур на основе алмаза 7
1.1 Синтез алмаза методом температурного градиента в условиях HPHT. 7
1.2 Газохимическое осаждение алмаза (ГХО) 8
1.3 Замещающий бор в алмазе 9
1.4 Замещающий азот в алмазе 9
1.5 Замещающий фосфор в алмазе 10
1.6 Вольт-амперная характеристика p-i-n-диода 10
1.7 Выводы по главе 1. Постановка задачи 12
2. Методика моделирования 14
2.1. Основы работы в TCAD Sentaurus (Technology Computer Aided Design) 14
3. Результаты моделирования 17
ЗАКЛЮЧЕНИЕ 25
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННОЙ ЛИТЕРАТУРЫ 26
ПРИЛОЖЕНИЕ 1 29

📖 Введение

Хорошо известно, что синтетический алмаз является наиболее перспективным материалом среди других широкозонных полупроводников для мощных и высокотемпературных приборов благодаря превосходным свойствам материала [1-4].
Разработка алмазных диодов, работающих при больших напряжениях, и диодов с высокой плотностью прямого тока длилась много лет, но в настоящее время созданы либо диоды, работающие при больших напряжениях [5-7], либо диоды с высокой плотностью прямого тока [8-11] и лишь очень малая часть диодов демонстрирует как высокое напряжение, так и высокий прямой ток [12,13]. Совокупность этих функциональных характеристик является наиболее важной для широкого практического применения в высокочастотной и импульсной высоковольтной силовой выпрямительной электронике [3,6].
Невзирая на то, что в алмазной электронике наблюдается значительный прогресс, полупроводниковые устройства на основе алмаза всё ещё не используются в силовой электронике ввиду относительно низких значений прямого тока.
По этой причине актуальной задачей является экспериментальное и теоретическое изучение влияния областей диодной структуры на основе алмаза на её электрические и оптические характеристики.
Целью выпускной квалификационной работы является моделирование вольт-амперных характеристик p-i-n-диода на основе алмаза, в частности - изучение влияния легирования на процесс инжекции носителей в высокоомную i-область диода.
В настоящем отчёте проводится анализ литературных данных об электрических и оптических характеристиках структур на основе алмаза и влияния на них легирования. Описана методика проведения расчётов в системе автоматизированного проектирования TCAD Synopsys. Представлены результаты расчётов и их анализ.

Возникли сложности?

Нужна качественная помощь преподавателя?

👨‍🎓 Помощь в написании

✅ Заключение

В процессе выполнения ВКР были изучены литературные данные по свойствам синтетических алмазов и способах их получения. Освоена методика моделирования полупроводниковых приборов и их характеристик в САПР TCAD Synopsys. Проведено моделирование вольт-амперных характеристик p-z-структуры с барьером Шоттки на основе алмаза и исследование влияния различных параметров областей на характеристики структуры. Приведено сравнение с вольт-амперной характеристикой p-z-n-диода Результаты расчётов позволяют сделать следующие выводы:
1. Наибольшее влияние на вид вольт-амперной характеристики и величину прямого тока оказывают высота барьера на контакте к z-области, энергии ионизации примесей и уровень легирования p-области.
2. Изменение высоты барьера по-разному влияет на величину прямого тока при больших и малых значениях напряжения, что позволяет предположить о разных механизмах протекания тока через барьерный контакт.
3. Увеличение толщины z-области увеличивает падение напряжения на ней и уменьшает прямой ток.
4. Увеличение уровня легирования p-области увеличивает проводимость структуры и величину прямого тока.
5. Повышение температуры приводит к увеличению концентрации дырок и эмиссии электронов из металла в алмаз.

Нужна своя уникальная работа?
Срочная разработка под ваши требования
Рассчитать стоимость
ИЛИ

📕 Список литературы

1. Field J.E., The Properties of Diamond, Academic Press, New York, 1979.
2. Chow T.P., Tyagi R., Wide bandgap compound semiconductors for superior highvoltage unipolar power devices, IEEE Trans. Electron Devices 41 (1994) 1481-1483. - http://dx.doi.org/10.1109/16.297751.
3. Isberg J., Hammersfeld J., Johansson E., et al., High carrier mobility in singlecrystal plasma-deposited diamond, Science 297 (2002) 1670-1672. http://dx.doi.org/
10.1126/science.1074374.
4. Kalishr ., Diamond as a unique high-tech electronic material: difficulties and prospects, J. Phys. D. Appl. Phys. 40 (2007) 6467-6478. http://dx.doi.org/10.1088/ 0022- 3727/40/20/S22.
5. Butler J.E., Geis M.W., Krohn K.E., et al., Exceptionally high voltage Schottky diamond diodes and low boron doping, Semicond. Sci. Technol. 18 (2003) S67-S71. http:// dx.doi.org/10.1088/0268-1242/18/3/309.
6. Tatsumi N., Ikeda K., Umezawa H., Shikata S., Development of diamond Schottky barrier diode, SEI Technol. Rev. 68 (2009) 54-61.
7. Muret P., Volpe P.-N., Tran-Thi T.-N., et al., Schottky diode architectures on p- type diamond for fast switching, high forward current density and high breakdown field rectifiers, Diam. Relat. Mater. 20 (2011) 285-289. http://dx.doi.org/10.1016/ j.diamond.2011.01.008.
8. Vescan A., Daumiller I., Gluche P., Ebert W., Kohn E., High temperature, high voltage operation of diamond Schottky diode, Diam. Relat. Mater. 7 (1998) 581-584. http:// dx.doi.org/10.1016/S0925-9635(97)00200-8.
9. Rashid S.J., Tajani A., Coulbeck L., et al., Modelling of single-crystal diamond Schottky diodes for high-voltage applications, Diam. Relat. Mater. 15 (2006) 317-323. http:// dx.doi.org/10.1016/j.diamond.2005.06.019.
10. Umezawa H., Tokuda N., Ogura M., Ri S.-G., Shikata S., Characterization of leakage current on diamond Schottky barrier diodes using thermionic-field emission modeling, Diam. Relat. Mater. 15 (2006) 1949-1953. http://dx.doi.org/10.1016/ j.diamond.2006.08.030.
11. Umezawa H., Mokuno Y., Yamada H., Chayahara A., Shikata S., Characterization of Schottky barrier diodes on a 0.5-inch single-crystalline CVD diamond wafer, Diam. Relat. Mater. 19 (2010) 208-212. http://dx.doi.org/10.1016Zj.diamond.2009.11.001.
12. Umezawa H., Kato Y., Shikata S., 1 Q on-resistance diamond vertical-Schottky barrier diode operated at 250 °C, Appl. Phys. Express 6 (2013) 011302. http://dx.doi.org/ 10.7567/APEX.6.011302.
13. Umezawa H., Shikata S., Leakage current analysis of diamond Schottky barrier diodes operated at high temperature, Jpn. J. Appl. Phys. 53 (2014). http://dx.doi.org/ 10.7567/JJAP.53.04EP04 (04EP04-1-4).
14. https://www.techinsider.ru/technologies/237923-kak-vyrashchivayut-krupneyshie- v-mire-almazy-sdelano-v-rossii/
15. Шелованова, Г. Н. Современные проблемы микро- и наноэлектроники: учебное пособие / Г. Н. Шелованова; Сиб. федер. ун-т, Ин-т инж. физики и радиоэлектроники...36

🖼 Скриншоты

🛒 Оформить заказ

Работу высылаем в течении 5 минут после оплаты.

©2026 Cервис помощи студентам в выполнении работ