Тема: ВЛИЯНИЕ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ НА СТАТИЧЕСКИЕ ВОЛЬТ-АМПЕРНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ СТРУКТУР НА ОСНОВЕ GaAs С ГЛУБОКИМИ ПРИМЕСНЫМИ УРОВНЯМИ
Закажите новую по вашим требованиям
Представленный материал является образцом учебного исследования, примером структуры и содержания учебного исследования по заявленной теме. Размещён исключительно в информационных и ознакомительных целях.
Workspay.ru оказывает информационные услуги по сбору, обработке и структурированию материалов в соответствии с требованиями заказчика.
Размещение материала не означает публикацию произведения впервые и не предполагает передачу исключительных авторских прав третьим лицам.
Материал не предназначен для дословной сдачи в образовательные организации и требует самостоятельной переработки с соблюдением законодательства Российской Федерации об авторском праве и принципов академической добросовестности.
Авторские права на исходные материалы принадлежат их законным правообладателям. В случае возникновения вопросов, связанных с размещённым материалом, просим направить обращение через форму обратной связи.
📋 Содержание
Введение 3
1. Методы получения структур на основе GaAs с глубокими примесными
центрами 5
1.1 Структура лавинного S-диода 5
1.2 Методы введения примеси 6
1.3 Электронные процессы в n-v-n структуре и влияние поверхностных состояний на вольт-амперную характеристику 8
1.3.1 Механизм переключения в n-v-n структуре 8
1.3.3 Влияние поверхностных состояний на вольт-амперную характеристику
диода 11
2. Методика эксперимента 14
2.1. Описание образцов 14
2.2 Обработка поверхности 15
2.3 Методика эксперимента 15
3. Результаты эксперимента 17
3.1 Влияние обработки поверхности на обратную ветвь вольт-амперной
характеристики структур на основе GaAs: Fe 17
3.2 Анализ соотношения потоков носителей заряда через объем и
поверхность в структурах на основе GaAs:Fe 19
3.3 Влияние дефектов на вольт-амперные характеристики структур
на основе GaAs: Fe 22
Заключение 26
Список использованной литературы 27
📖 Введение
Арсенид галлия имеет значительные плюсы, такие как высокая подвижность электронов (8500 см2/В с), широкая запрещенная зона GaAs без примесей обладает высоким сопротивлением в паре с диэлектрической проницаемостью, что позволяет его использовать, как качественную подложку для интегральных схем. Данные характеристики делают его одним из востребованных элементов для изобретения и развития новых технологий. В арсениде галлия используются примеси с мелкими и глубокими уровнями. Благодаря примесям можно регулировать тип проводимость и концентрацию носителей заряда. Они обладают одним из преимуществ в GaAs- высокой диффузионной подвижностью, что помогает в широких пределах менять толщину диффузионных слоев.
Однако существует проблема, которая заключается в различии экспериментальных и теоретических вольт-амперных характеристик, рассчитываемых с использованием модели, учитывающий процесс лавинного умножения и перераспределения электрического поля от координаты в структуре, поэтому необходимо провести исследования, чтобы исключить или отметить влияние поверхности. Это поможет в дальнейшем для построения и более детального понимания работы полупроводникового ключа на основе GaAs с глубокими примесными центрами.
На основе GaAs создаются приемники ИК - излучения, а также генераторы импульсов, которые применяются при накачке лазеров [1] и других быстродействующих приборов. Также на основе GaAs изготавливают такие приборы как импульсные лавинные S-диоды. Такие S-диоды могут быть использованы в качестве быстродействующих переключателей для генерации импульсов с фронтами (от 0,1 до 2 нс).
✅ Заключение
1. Обработка поверхности исходных образцов на основе GaAs:Fe приводит к понижению тока при величине обратного напряжения U = 10 В с 2,39 до 14,2 раз.
2. Травление образцов с площадями поверхностей 1,62 • 104 мкм2 и
4 • 103 мкм2 в сернокислотном растворе приводит к понижению тока
до 2 • 10-11 А при U = 1 В.
3. Результаты оценки соотношения вклада потоков носителей заряда через объем и поверхность, для образцов с площадями поверхностей 1,62 • 104 мкм2, 4 • 103 мкм2 и 1,08 • 104, показали, что отношение объемного тока Iv к поверхностному Is при напряжениях U = 1-10 В составило 3,84Л02-5,9Е105.
4. Результаты расчета показали, что наличие дефектного металлического
включения в области пространственного заряда, приводит к росту напряженности электрического поля до 7,25 • 105 В/мкм и появлению
локального лавинного пробоя.
5. Участок на обратной вольт-амперной для структур GaAs:Fe,
соответствующий /~exp(U), смещается для расчетной кривой
без металлического дефекта относительно расчётной зависимости с металлическим включением с 55 В до 20 В.
6. При учете наличия дефектов в виде скопления Fe в ОПЗ было получено качественное совпадение экспериментальной вольт-амперной характеристики с расчетной кривой.





