Введение
Часть I
1.1 Элементы теории
1.1.1 Эффект Холла
1.1.2 Топологический порядок и поверхностные состояния..............7
1.2 Методы расчета электронной структуры
1.2.1 Теория функционала плотности
1.2.2 Обмен и корреляции
1.2.3 Решение уравнений
1.2.4 Метод проекционных присоединенных волн
Часть II
2.1 Введение
2.2 Электронная структура объема KNa2Bi
Часть III
3.1 Введение
3.2 Поверхность с окончанием, содержащим атомы K и Bi
3.3 Поверхность с окончанием, содержащим атомы Na
Заключение
Литература.
Свойства поверхностей кристаллических твёрдых тел привлекают
значительный интерес исследователей, что связано с развитием электроники
и появлением новой полупроводниковой техники.
На сегодняшний день, наравне с хорошо зарекомендовавшими себя
полупроводниковыми соединениями, интенсивно исследуются материалы с
топологическими нетривиальными свойствами, на основе которых ожидается
создание новых электронных устройств. К примеру, предполагается, что
такие материалы со временем заменят медные контакты в компьютерных
чипах. Кроме того, они могут быть использованы для фотодетектирования,
создания умножителей частоты, магнитной памяти, а также других приборов.
В целом, основанные на таких материалах устройства будут обладать более
высокой скоростью выполнения операций, потреблять значительно меньше
энергии, и выгодно отличаться своими размерами от приборов традиционной электроники.
К таким материалам относится открытый не так давно класс
полупроводниковых соединений, именуемых топологическими изоляторами
(ТИ). Данный класс характеризуется наличием особых поверхностных
состояний (топологические состояния), в которых электроны защищены
различными симметриями (симметрия обращения времени или
кристаллическая симметрия) от обратного рассеяния на дефектах.[1] Следует
отметить, что возникновение топологических состояний возможно также в
металлических и полуметаллических системах, таких как квантовые ямы
HgTe−CdTe .[2,3] Вследствие этого, для таких систем также применяют
название «топологический изолятор» несмотря на наличие металлических свойств в объеме.
Актуальность работы. В настоящее время эффективная разработка
приборов электроники и спинтроники напрямую сопряжена с
предварительными теоретическими исследованиями электронной структуры
входящих в них материалов. Именно особенности электронной структуры ТИ
определяют все их топологические свойства. Поэтому имеется огромный
научный интерес, к изучению причин возникновения и дисперсии электронных состояний в ТИ.
Целью данной работы является исследование электронной структуры
объема и поверхности соединения KNa2 Bi .
Для достижения заявленной цели были поставлены следующие задачи:
1. Расчет, описание и объяснение объемной электронной структуры KNa2 Bi .
2. Выявление влияния учёта спин-орбитального взаимодействия, учёта
многочастичных эффектов в рамках теории функционала плотности, а также
получаемых в ходе оптимизации параметров кристаллической структуры на
электронную структуру объема KNa2 Bi .
3. Расчет, описание и объяснение электронной структуры поверхности KNa2 Bi .
Научная новизна работы заключается в том, что для KNa2 Bi
впервые было проанализировано влияние приближения для обменнокоррелляционного функционала в рамках теории функционала плотности, а
также параметров кристаллической структуры на спектр объемных состояний
вблизи уровня Ферми. Впервые, рамках теории функционала электронной
плотности исследована электронная структура поверхности KNa2 Bi и
проанализирована ее эволюция в зависимости от разных типов окончаний поверхности.
Практическая значимость. Результаты данного исследования могут
служить надежным фундаментом для последующего экспериментального
исследования соединения KNa2 Bi .
В данной дипломной работе проведено детальное исследование
электронной структуры соединения KNa2 Bi, а также приведены
теоретические основы теории топологических изоляторов.
На основании проведенных исследований были сделаны следующие выводы:
1. Соединение KNa2 Bi является топологическим изолятором,
содержащим точку касания валентной зоны и зоны проводимости.
2. На поверхности данного материала возникают топологически
нетривиальные спин-расщепленные металлические состояния. Также
отмечено появление топологически тривиальных состояний «оборванной связи».