
Тип работы:	Предмет:	Язык работы:

ОПРЕДЕЛЕНИЕ ХИМИЧЕСКОГО СОСТАВА И ТОЛЩИНЫ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ МЕТОДОМ АТОМНО-ЭМИССИОННОЙ СПЕКТРОСКОПИИ С ТЛЕЮЩИМ РАЗРЯДОМ ПОСТОЯННОГО ТОКА

Работа №	102158
Тип работы	Диссертации (РГБ)
Предмет	химия
Объем работы	148
Год сдачи	2016
Стоимость	4295 руб.
ПУБЛИКУЕТСЯ ВПЕРВЫЕ
Просмотрено	117

Не подходит работа?

Узнай цену на написание

Содержание

ВВЕДЕНИЕ 6
1 АНАЛИЗ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ МЕТОДОМ АТОМНО-ЭМИССИОННОЙ СПЕКТРОМЕТРИИ С ТЛЕЮЩИМ РАЗРЯДОМ
ПОСТОЯННОГО ТОКА 13
1.1 Методы послойного анализа покрытий 14
1.2 Послойный анализ методом атомно-эмиссионной спектрометрии с
тлеющим разрядом постоянного тока (АЭС ТРПТ) 17
1.2.1 Оптимальные операционные условия тлеющего разряда 18
1.3 Скорость катодного распыления материала 22
1.3.1 Зависимость скорости распыления материала от его физико¬
химических характеристик 26
1.4 Градуировка спектрометра для проведения анализа 27
1.4.1 Стандартные и градуировочные образцы для количественного
анализа 31
1.5 Анализ гальванических покрытий 34
Выводы по главе 1, постановка целей и задач исследования 38
2. ИССЛЕДОВАНИЕ КРАТЕРОВ ИОННОГО ТРАВЛЕНИЯ И ПОДБОРОПТИМАЛЬНЫХ ОПЕРАЦИОННЫХ ПАРАМЕТРОВ ТЛЕЮЩЕГОРАЗРЯДА ДЛЯ АНАЛИЗА ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ Ni-P, Sn-Bi,Sn-Pb 41
2.1. Исследование профилей кратеров ионного травления 41
2.1.1 Обработка результатов измерений профиля кратера ионного
травления 42
2.2 Подбор оптимальных операционных параметров разряда для
гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb 49
2.2.1 Изготовление образцов покрытия Ni-P 50
2.2.2 Образцы для подбора оптимальных операционных параметров
анализа покрытий Sn-Bi и Sn-Pb 51
2.2.3 Прожиг кратеров ионного травления 51
Выводы по главе 2 54
3. МЕТОДИКА ОПРЕДЕЛЕНИЯ ТОЛЩИНЫ И СОСТАВА
ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ Ni-P, Sn-Bi И Sn-Pb 56
3.1 Изготовление и аттестация градуировочных образцов толщины и
состава гальванических покрытий 56
3.1.1 Изготовление подложек и нанесение гальванических покрытий 56
3.1.2 Изготовление образцов с различным значением толщины и состава
гальванического покрытия 57
3.1.3 Аттестация комплекта градуировочных образцов толщины
покрытия Ni-P 59
3.1.4 Аттестация комплектов градуировочных образцов состава
покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb 64
3.2 Градуировка атомно-эмиссионного спектрометра 66
3.2.1 Построение мультиматричных градуировочных зависимостей дляопределения химического состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb 66
3.2.2 Градуировка спектрометра для определения толщины покрытий 70
3.2.3 Определение толщины покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb методом АЭС ТРПТ 73
3.3 Определение состава гальванических покрытий методом АЭС ТРПТ 76
Выводы по главе 3 78
4. ИССЛЕДОВАНИЕ ЗАВИСИМОСТИ СКОРОСТИ КАТОДНОГОРАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ ОТ ИХ ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК 80
4.1 Определение скорости катодного распыления металлов и углерода 80
4.2 Связь относительной скорости катодного распыления элементов с их
физико-химическими характеристиками 84
4.2.1 Связь скорости катодного распыления с атомным номером элемента 84
4.2.2 Зависимость скорости катодного распыления материалов от ряда физико-химических параметров 88
Выводы по главе 4 102
ЗАКЛЮЧЕНИЕ 103
СПИСОК СОКРАЩЕНИЙ 105
СПИСОК УСЛОВНЫХ ОБОЗНАЧЕНИЙ 106
СПИСОК РАБОТ ПО ТЕМЕ ДИССЕРТАЦИИ 111
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ 113
ПРИЛОЖЕНИЕ А Акты о внедрении результатов диссертационной работы 127
ПРИЛОЖЕНИЕ Б Письмо о внесении методик измерения толщины и состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi, Sn-Pb в Федеральный реестр аттестованных методик измерений 129
ПРИЛОЖЕНИЕ В Свидетельство об аттестации градуировочных образцов толщины гальванического покрытия Ni-P 130
ПРИЛОЖЕНИЕ Г Результаты измерений толщины покрытия гальванического покрытия Ni-P, представленные для проведения аттестации градуировочных образцов 132
ПРИЛОЖЕНИЕ Д Свидетельство об аттестации градуировочных образцов состава гальванического покрытия Ni-P 133
ПРИЛОЖЕНИЕ Е Свидетельство об аттестации градуировочных образцов
состава гальванического покрытия Sn-Bi 135
ПРИЛОЖЕНИЕ Ж Свидетельство об аттестации градуировочных образцов состава гальванического покрытия Sn-Pb 137
ПРИЛОЖЕНИЕ З Результаты измерений химического состава на градуировочных образцах гальванических покрытий Ni-P Sn-Bi, Sn-Pb, представленные для проведения аттестации 139
ПРИЛОЖЕНИЕ И Свидетельство об аттестации методики измерения толщины гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi, Sn-Pb 141
ПРИЛОЖЕНИЕ К Результаты измерений толщины гальванических покрытий
Ni-P, Sn-Bi, Sn-Pb, представленные для проведения аттестации методики определения толщины покрытий методом АЭС ТРПТ 143
ПРИЛОЖЕНИЕ Л Свидетельство об аттестации методики измерения состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi, Sn-Pb 145
ПРИЛОЖЕНИЕ М Результаты измерений состава гальванических покрытий Ni-P Sn-Bi, Sn-Pb, представленные для проведения аттестации методики определения состава покрытий методом АЭС ТРПТ 147

Введение

Актуальность темы
Одной из часто и успешно применяемых в промышленности технологий является нанесение гальванических покрытий на поверхность различных изделий и материалов. Такие покрытия используются для защиты деталей от внешнего воздействия (механические повреждения, агрессивные среды), придания изделиям специальных технических (повышение электропроводности, подготовка детали под пайку, обеспечение нужной твердости поверхности и т.д.) или декоративных свойств. Технология нанесения покрытий требует обязательного контроля данного процесса путем получения информации об их химическом составе, распределении элементов по толщине (послойный анализ) и определения толщины покрытий, что позволяет оценить качество нанесенного покрытия и правильность проведения технологического процесса.
В нашей стране определение толщины и химического состава гальванических покрытий на производстве проводят методами, регламентированными ГОСТ, и зачастую анализ осуществляют очень трудоемкими и длительными методами (металлографический, различные химические), причем необходимость проведения послойного анализа еще более увеличивает время исследования.
Метод атомно-эмиссионной спектроскопии с тлеющим разрядом постоянного тока (АЭС ТРПТ) позволяет не только достаточно быстро одновременно определять толщину и химический состав проводящих металлических покрытий, но и дает возможность осуществлять их послойный элементный анализ. Но в нашей стране метод АЭС ТРПТ практически не используется для контроля технологии нанесения покрытий из-за отсутствия действующих аттестованных методик анализа, соответствующих нормативных документов, градуировочных и стандартных образцов толщины и состава покрытий. Поэтому разработка и внедрение в аналитическую практику методик и градуировочных образцов для определения толщины и химического состава гальванических покрытий с использованием атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом является актуальной задачей.
Степень разработанности темы исследования
Метод АЭС ТРПТ успешно применяется в мировой практике для анализа гальванических покрытий на основе цинка, никеля, хрома и других элементов. В литературе удалось найти ограниченное число исследований, посвященных анализу покрытий Ni-P, и лишь одно упоминание о проведении послойного анализа покрытия Sn-Bi методом АЭС ТРПТ. Отсутствуют публикации, содержащие данные о послойном изучении гальванических покрытий Sn-Pb. Сведения об изготовлении и аттестации стандартных и градуировочных образцов указанных гальванических покрытий в мировой литературе единичны и такие образцы отсутствуют на российском рынке. Разработка, изготовление и применение подобных образцов крайне необходимы для создания методик контроля состава и толщины гальванических покрытий методом АЭС ТРПТ.
В ряде опубликованных работ изложены некоторые отдельные сведения о зависимости между значением скорости катодного распыления различных материалов и их физико-химическими характеристиками. Нахождение такой единой детальной зависимости позволило бы обнаруживать ошибочные экспериментальные данные и прогнозировать значения скорости распыления исследуемых материалов.
Цель работы
Разработать и аттестовать комплект градуировочных образцов и методик определения толщины и состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb методом АЭС ТРПТ, установить зависимость скорости катодного распыления материалов от их физико-химических характеристик.
Для достижения поставленной цели были решены следующие задачи:
1. Экспериментально измерить скорости катодного распыления для большой группы чистых материалов, исследовать зависимость значений скорости катодного распыления материалов от их физико-химических характеристик. Использовать найденную модельную зависимость для прогнозирования значений скорости катодного распыления ряда мало доступных для измерения чистых металлов, определения границы применения метода АЭС ТРПТ для послойного анализа материалов.
2. Используя современные вычислительные и программные средства разработать способ обработки данных механического профилометра для оценки формы дна кратера катодного (ионного) травления и измерения его глубины. Подобрать оптимальные операционные условия анализа для определения методом АЭС ТРПТ толщины и состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb, измерить скорости их катодного распыления.
3. Для получения мультиматричных градуировочных зависимостей разработать, изготовить и аттестовать комплект градуировочных образцов гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb с требуемым нормативной документацией диапазоном значений толщины и содержания P, Bi, Sn. Провести градуировку спектрометра с тлеющим разрядом по толщине покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb в зависимости от времени ионного травления материалов.
4. Разработать и аттестовать методики определения толщины и состава покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb.
Научная новизна и теоретическая значимость
1. Для 26 чистых материалов в одинаковых условиях эксперимента получены значения скорости их катодного распыления в тлеющем разряде постоянного тока, необходимой для практического использования при послойном атомно-эмиссионном спектральном анализе и теоретических исследований.
2. На основании опубликованных и собственных экспериментальных данных предложена модель зависимости скорости катодного распыления материалов от их определяющих физико-химических характеристик.
3. С помощью данной модели впервые выполнен прогноз значений скорости катодного распыления для ряда металлов, которые не были измерены, и установлены границы применимости метода атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом постоянного тока при реализации послойного анализа.
Практическая значимость работы
Разработан, изготовлен и аттестован комплект градуировочных образцов толщины и химического состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb для проведения градуировки атомно-эмиссионного спектрометра с тлеющим разрядом.
Разработано программное обеспечение, позволяющее обрабатывать данные измерения рельефа поверхности кратера тлеющего разряда механическим профилометром и подбирать оптимальные операционные параметры разряда.
Разработана и аттестована методика определения толщины гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb методом АЭС ТРПТ. Разработаны и аттестованы методики определения содержания P, Bi, Pb в соответствующих покрытиях Ni-P, Sn-Bi, Sn-Pb. Обе методики внедрены в аналитическую практику предприятия и внесены в Федеральный реестр методик измерения.
Методология и методы исследования
Для изготовления градуировочных образцов использованы технологические регламенты нанесения соответствующих гальванических покрытий на изделия. Состав гальванических ванн контролировали спектрофотометрическим и атомно-абсорбционными методами анализа. Однородность состава нанесенных покрытий контролировали методом электронно-зондового микроанализа. Толщину и состав покрытий определяли методом АЭС ТРПТ, рентгенофлуоресцентным и металлографическими методами. Изучение кратеров катодного травления проводили механическим профилометром. Программное обеспечение для обработки данных измерений кратеров профилометром разработано с использованием платформы .NET Framework в среде разработки Microsoft Visual Studio. Для разработки модели катодного распыления использовали метод множественного регрессионного анализа.
Все эксперименты были выполнены на современном поверенном аналитическом оборудовании.
Положения, выносимые на защиту
1. Способ изготовления и подготовка к аттестации градуировочных образцов толщины и химического состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb, пригодных для градуировки атомно-эмиссионного спектрометра с тлеющим разрядом постоянного тока.
2 Разработка и подготовка к аттестации методик определения толщины и химического состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb.
3. Способ оценки формы дна кратера ионного травления, образующегося после воздействия тлеющего разряда на поверхности материала, для подбора оптимальных операционных параметров измерений
4. Модель зависимости скорости катодного распыления материалов от их физико-химических характеристик, пригодная для оценки правильности экспериментальных определений таких скоростей в конкретных условиях анализа, прогнозирования значений скорости катодного распыления ряда мало доступных для измерения чистых металлов, определения границы применения метода АЭС ТРПТ для послойного анализа материалов.
Степень достоверности результатов исследования
Экспериментально полученные скорости катодного распыления хорошо согласуются с опубликованными данными других авторов. Адекватность предложенной в работе модели зависимости скорости катодного распыления элементов от их физико-химических характеристик подтверждается сопоставлением спрогнозированных на основе модели значений с опубликованными экспериментальными данными других авторов.
Разработанные комплекты градуировочных образцов с известными значениями толщины и химического состава гальванических покрытий Ni-P, Sn- Bi, Sn-Pb аттестованы метрологическим отделом ФГУП УЭМЗ, применены для разработки методик определения толщины и состава указанных гальванических покрытий. Две методики аттестованы, внесены в Федеральный реестр аттестованных методик измерений и внедрены в аналитическую практику предприятия ФГУП УЭМЗ (приложения А, Б).
Апробация работы
Материалы диссертационной работы были представлены на XXIII, XXIV и XXV Российских молодежных научных конференциях «Проблемы теоретической и экспериментальной химии» (Екатеринбург 2013, 2014 и 2015 гг.), II
Всероссийской конференции с международным участием по аналитической спектроскопии (Краснодар, 2015 г.).
Публикации
По теме диссертации опубликовано 7 работ, из них 3 статьи в научных журналах, входящих в перечень ВАК.
Структура и объем диссертации
Диссертация содержит введение, 4 главы, общие выводы, заключение, список цитируемой литературы, состоящий из 138 наименований, и 12 приложений. Работа изложена на 148 страницах машинописного текста, включая 29 рисунков, 21 таблицу и состоит из следующих разделов:
- введения, где показана актуальность, степень разработанности темы исследования, цель, научная новизна, практическое значение работы и представлены основные положения, выносимые на защиту;
- первой главы, где рассмотрены литературные данные по анализу гальванических покрытий методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом постоянного тока, обсуждаются особенности подбора оптимальных параметров разряда, градуировки атомно-эмиссионного спектрометра, а также приводятся результаты исследований, посвященных изучению влияния физико-химических характеристик материала на скорость его катодного распыления;
- второй главы, где описана разработка способа количественного оценивания формы дна и определения глубины кратера ионного травления по данным измерений с помощью механического профилометра. Выполнен подбор оптимальных операционных параметров тлеющего разряда для измерения толщины и проведения послойного химического анализа гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb;
- третьей главы, где описан способ изготовления и аттестации градуировочных образцов толщины и химического состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb, пригодных для градуировки атомно-эмиссионного спектрометра с тлеющим разрядом постоянного тока, и применение полученных образцов для разработки и аттестации методик определения толщины и состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом постоянного тока.
- четвертой главы, где описана разработка модели зависимости скорости катодного распыления материалов от их физико-химических характеристик, проведено сравнение данных, рассчитанных с применением модели, с литературными данными, выполнен прогноз значений скорости катодного распыления для ряда металлов и обозначены границы применения метода атомно - эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом постоянного тока для послойного анализа материалов.
Работа выполнена на кафедре физико-химических методов анализа физико-технологического института ФГАОУ ВО «Уральского федерального университета имени первого Президента России Б.Н. Ельцина».

Возникли сложности?

Нужна помощь преподавателя?

Помощь студентам в написании работ!

ДИПЛОМНЫЕ МАГИСТЕРСКИЕ ДИССЕРТАЦИИ

Курсовые Статьи Диплом Рязань

Заключение

В результате проведенных исследований получены следующие результаты:
1. Экспериментально определены для 26 чистых материалов относительные скорости катодного распыления в тлеющем разряде постоянного тока, используемом в атомно-эмиссионном спектральном анализе. Статистическими расчетами методом множественного регрессионного анализа установлено, что скорость распыления материалов в первую очередь определяется их атомным радиусом, плотностью и температурой плавления. Полученное эмпирическое модельное уравнение зависимости скорости катодного распыления материала от его физико-химических характеристик позволяет прогнозировать скорости распыления материалов для конкретных условий анализа, выявлять ошибочные измерения и оценивать границы применимости метода атомно-эмиссионного спектрального анализа с тлеющим разрядом для послойного изучения материалов.
2. Для установления формы кратеров катодного травления разработано с использованием платформы .NET Framework в среде Microsoft Visual Studio программное обеспечение, позволяющее визуализировать по данным механического профилометра профиль кратера катодного травления материалов в тлеющем разряде, количественно описать форму его дна и глубину, определить скорость катодного распыления. Это дало возможность подобрать оптимальные операционные параметры тлеющего разряда постоянного тока (силу тока и напряжение), обеспечивающие максимально плоское дно кратера для проведения послойного химического анализа и определения толщины покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb с помощью атомно-эмиссионного спектрометра GDS 850 A.
3. Впервые в аналитической практике разработаны и аттестованы на предприятии три комплекта градуировочных образцов химического состава гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb. Данные образцы применены для построения мультиматричных градуировочных зависимостей при определении химического состава покрытий. Впервые разработан и аттестован на предприятии комплект из 5 градуировочных образцов с известной толщиной гальванического покрытия
Ni-P. Использование значений относительной скорости распыления
анализируемых материалов позволило применить данный комплект при определении толщины покрытий различного состава. Аттестованные значения толщины покрытий и содержания аналитов (P, Bi, Pb) полностью соответствуют диапазону их требуемых значений в соответствии с нормативной документацией.
4. С использованием изготовленных и аттестованных комплектов градуировочных образцов впервые разработаны и аттестованы методики экспрессного определения толщины и состава гальванических покрытий Ni-P, Sn- Bi, Sn-Pb методом атомно-эмиссионного спектрального анализа с тлеющим разрядом постоянного тока. Метрологические характеристики методики удовлетворяют требованиям ГОСТ, предъявляемым к точности определения толщины и состава покрытий. Методики внесены в Федеральный реестр методик измерения.

Литература

1. ГОСТ 9.301-86. Покрытия металлические и неметаллические
неорганические. Общие требования [текст]. - Введ. 1987-07-01. - Москва: Изд-во стандартов, 1987. - 24 с.
2. Гальванические покрытия в машиностроении: справочник [текст]. В 2 ч.
Ч. 1 / М. А. Шлугер [и др.]; под ред. М. А. Шлугера Тока. - Москва:
Машиностроение, 1985. - 405 с.
3. Ямпольский А. М. Краткий справочник гальванотехника [текст] / А. М. Ямпольский, В. А. Ильин. - Ленинград: Машиностроение, 1981. - 269 с.
4. Молодык Н. В. Восстановление деталей машин. Справочник [текст] / Н. В. Молодык, А. С. Зенкин. - Москва: Машиностроение, 1989. - 489 с.
5. Composition depth profile analysis of electrodeposited alloys and metal multilayers: the reverse approach [текст] / K. Neurohr [et al.] // Journal of Solid State Electrochemistry. - 2011. - V 15. - P. 2523-2544.
6. ГОСТ 9.303-84. Покрытия металлические и неметаллические неорганические. Общие требования к выбору [текст]. - Введ. 1985-01-01. - Москва : Изд-во стандартов, 1986. - 27 с.
7. Кудрявцев Н. Т. Электролитические покрытия металлами [текст] / Н. Т. Кудрявцев. - Москва: Химия, 1979. - 352 с.
8. Ковенский И. М. Современные физические методы анализа и контроля электролитических покрытий [текст] / И. М. Ковенский, В. В. Поветкин. - Тюмень: Тюменская правда, 1989. - 42 с.
9. ГОСТ 9.302-88. Единая система защиты от коррозии и старения. Покрытия металлические и неметаллические неорганические [текст]. - Введ. 1990-01-01. - Москва: Изд-во стандартов, 1990. - 56 с.
10. Измерение толщины металлических покрытий [текст]. Режим доступа: http : //metallicheckiy-
portal.ru/articles/nayka/izmerenie tolshini metallicheskix pokritii.
11. Агасян П.К. Кулонометрический метод анализа [текст] / Агасян П.К., Хамракулов Т. К. Москва: Химия, 1984. - 168 с.
12. Анчевский И. Металлографический анализ многослойных печатных плат [текст] / И. Анчевский, А. Медведев // Технологии в электронной промышленности. - 2005. - № 2. - С. 35-37.
13. Спрыгин Г.С. Развитие метода атомно-эмиссионной спектрометрии с
тлеющим разрядом для послойного анализа покрытий на металлах и сплавах: дис. ... канд. техн. наук [текст]. / Г.С. Спрыгин; РАН Институт металлургии и
материаловедения им. A.A. Байкова - Москва, 2010. - 114 с.
14. Фелдман Л. Основы анализа поверхности тонких пленок [текст] / Л. Фелдман, Д. Майер. - Москва: Мир, 1989. - 332 с.
15. Pisonero J. Glow-discharge spectrometry for direct analysis of thin and ultra-thin solid films [текст] / J. Pisonero [et al.] // Trends in analytical chemistry. - 2006. - V. 25, № 1. - P. 11-18.
16. Pisonero J. Critical revision of GD-MS, LA-ICP-MS and SIMS as inorganic mass spectrometric techniques for direct solid analysis [текст] / J. Pisonero, B. Fernandez, D. Gunther // Journal of Analytical Atomic Spectrometry - 2009. - V. 24. - P. 1145 - 1160 .
17. Oswald S., Baunack S. Comparison of depth profiling techniques using ion sputtering from the practical point of view [текст] / S. Oswald, S. Baunack // Thin Solid Films. - 2003. - V. 425. - P. 9-19.
18. Weiss Z. Quantitative evaluation of depth profiles analyzed by glow discharge optical emission spectroscopy: analysis of diffusion processes [текст] / Z. Weiss // Spectrochimica Acta. Part B. - 1992. - V. 478, № 7. - P. 859-876.
19. Marcus R.C.Glow Discharge Plasmas in Analytical Spectroscopy [текст] / R.C. Marcus, J.A.C Broekaert. New York: Wiley, 2003. - 503 p.
20. Nelis T. Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy A Practical Guide [текст] / T. Nelis, R. Payling. Cambrige: RSC, 2003. - 227 p.
21. Пупышев А.А. Атомно-эмиссионный спектральный анализ с индуктивно связанной плазмой и тлеющим разрядом по Гримму [текст] / А.А. Пупышев, Д.А. Данилова. Екатеринбург: Изд-во УГТУ-УПИ, 2002. - 201 с.
22. Nelis T. Glow discharge as a tool for surface and interface analysis [текст] / T. Nelis // Applied spectroscopy reviews. - 2006. - V. 41. - P. 227-258.
23. Пупышев А. А. Практический курс атомно-абсорбционного анализа. Курс лекций [текст] / А. А. Пупышев. Екатеринбург: Изд-во УГТУ-УПИ, 2003. - 442 с.
24. Bengtson A. Quantitative depth profile analysis by glow discharge [текст] / A. Bengtson // Spectrochimica Acta. Part B. - 1994. - V. 49 B, N 4. - P. 411-429.
25. Coburn J. W. Techniques for elemental composition profiling in thin films [текст] / J. W. Coburn, E. Kay // Reviews in solid State Sciences. - 1973. - V. 4. - P. 561-590.
26. Марукович Е. И. Эмиссионный спектральный анализ [текст] / Е. И. Марукович, А. Г. Непокойчицкий. Минск: Беларусотая наука, 2013. - 307 с.
27. Arthur J. R. Surface science in the electronics industry [текст] / J. R. Arthur // CRC Critical Reviews in Solid State Sciences. - 1976. - V. 6, № 4. - P. 413-431.
28. Urbanski P. Determination of thickness and composition of thin Sn-Pb layersusing XRF technique and multivariate calibration procedure [текст] / P. Urbanski [et al.] // Nukleonika. - 1995. - V. 40., N 1. - P. 61-66.
29. Martin-Rojo A. B., Gonzalez M., Tabares F. L. Glow Discharge Emission
Spectrometry (GDOES): Introduccion Teorica, Aspectos Generales y Aplicabilidad en el Marco Informes Tecnicos [текст]. Режим доступа:http://www-
fusion. ciemat.es/InternalReport/IR1273. pdf
30. Спектральный прибор LECO GDS 850 A [текст]. Режим дотупа: http://www.alpha-pribor.com.ua/pdf/GDS-850 1.pdf.
31. Berneron R. Surface Analysis by Glow Discharge [текст] / R. Berneron, J. C. Charbonnier // Surface and interface analysis. - 1981. - V. 3, № 3. - P. 134-141.
32. Mason R. S. Sputtering in a glow discharge ion source - pressure dependence: theory and experiment [текст] / R. S. Mason, M. Pichilingi // Journal of Physics D: Applied Physics. - 1994. - V. 27. - P. 2363-2371.
33. Marshall K.A. A comparison of lamp control parameters in both bulk and depth profile analysis by glow discharge optical emission spectroscopy [текст] / K.A. Marshall // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. - 1999. - V. 14. - P. 923-928.
34. Ingo G.M. Quantitative analysis of copper-tin bronzes by means of glow discharge optical emission spectrometry [текст] / G.M. Ingo [et al.] // Archaeometry. - 1997. - V. 39, № 1. - P. 59-70.
35. Chen L. Crystal orientation effects on sputtering and depth resolution in GDOES [текст] / L. Chen [et al.] // Surface and Interface Analysis. - 2001. - V. 31. - P. 206-211.
36. Angeli J. Surface analysis of steel sheets with GDOS and EPMA [текст] / J. Angeli [et al.] // Fresenius Journal of Analytical Chemistry. - 1993. - V. 346. - P. 138-143.
37. Parker M. Influence of Discharge Parameters on the Resultant Sputtered Crater Shapes for a Radio Frequency Glow Discharge Atomic Emission Source [текст] / M. Parker [et al.] // Analytical Chemistry. - 1996. -V. 68. - P. 4213-4220.
38. Martin A. An approach to calculate sputtering rates in glow discharges by using a new crater volume evaluation method [текст] / A. Martin [et al.] // Spectrochimica Acta. Part B. -2007. - V. 62. - P. 1263-1268.
39. S. Kuypers. Glow discharge optical emission spectrometry for the analysis of
metallic coatings on steel GAMeS [текст] / Kuypers S. [at al.] [электронный ресурс]. Режим доступа:
http://www.belspo.be/belspo/organisation/publ/pub ostc/NM/NMA06 en.pdf.
40. Wilken L. Erosion rate measurement for GD-OES [текст] / L. Wilken, V. Hoffmann, K. Wetzig // Journal of analytical atomic spectrometry. - 2003. - V. 18. - P. 1141-1145.
41. Nickel H. Contribution to the quantification of glow discharge emission depth profiles for oxide scales on Ni-base alloys [текст] / H. Nickel [et al.] // Spectrochimica Acta. Part B. - 1991. - V. 49, № 2. - P 125-135.
42. Efimova V. Study in analytical glow discharge spectrometry and its application in materials science: doktorarbeit [текст]. Institut für Werkstoffwissenschaft. Dresden, 2011. - 151 p.
43. ISO 16962:2005. Surface chemical analysis - Analysis of zinc- and/or aluminium-based metallic coatings by glow-discharge optical-emission spectrometry [текст], 2008. - 17 p.
44. Weiss Z. Depth analysis of nickel thin films on silicon by glow discharge spectroscopy: the interface region [текст] / Z. Weiss. // Surface and interface analysis. - 1990. - V.15. - P. 775-780.
45. Bogaerts A. Computer simulation of crater profiles in glow discharge optical
emission spectrometry: comparison with experiments and investigation of the underlying mechanisms [текст] / A. Bogaerts, W. Vercharen, E. Steers //
Spectrochimica Acta. Part B. - 2004. - V. 59. - P. 1403-1411.
46. Understanding calibration for glow discharge optical emission spectrometry (GD-AES) [текст]. Spectroscopy Performance Note. LECO Corporation, 2011. - 3 p.
47. Maul Ch.L. Glow Discharge Atomic Emission Spectrometry: The Methodology, Calibration and Analytical Performance for Bulk and Quantitative Depth Profile Analysis [текст] // ILAP Conference. USA, 2008. - 71 p.
48. Sputtering Rates [текст]. Режим доступа:
http: //www.tazgmbh.com/pdf/sputterraten.pdf.
49. Xhoffer C. Application of glow discharge optical emission spectrometry in the steel industry [текст] / C. Xhoffer, H. Dillen // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. - 2003. - V. 18. - P. 576-583.
50. Matijevic B. Characterisation and determination of Ni-P coating sputtering rate [текст] / B. Matijevic [at al.] // International Journal of Microstructure and Materials Properties. - 2011. - V. 6, № 6. - P. 479-485.
51. Tsuji K. Conversion of sputtering time into depth in depth profiles of oxidized Cu-Ni alloys obtained by Glow Discharge Spectroscopy [текст] / K. Tsuji, K. Hirokawa // Surface and interface analysis. - 1991. - V. 17. - P. 819-822.
52. Payling R. Theory of relative sputtering rates in GDOES [текст] / R. Payling [et al.] // Surface and interface analysis. - 2003. - V. 35. - P. 334-339.
53. Bengtson A. Depth profiling of thin films using a Grimm-type glow discharge lamp [текст] / A. Bengtson, L. Danielsson // Thin Solid Films. - 1985. -V.124. - P. 231- 236.
54. Benninghoven A. Investigation of surface reactions by the static method of secondary ion mass spectrometry. IV. The oxidation of magnesium, strontium and barium in the monolayer range [текст] / A. Benninghoven, L. Wiedmann // Surface science. - 1974. - V 41. - P. 483-492.
55. Chanbasha A. R. A study of the effects of ultralow-energy secondary ion mass spectrometry (SIMS) on surface transient and depth resolution: thesis Ph. D. [Текст] / A. R. Chanbasha; Singapore, National University of Singapore, 2007. - 90 p.
56. Sputter Yields Values [текст]. Режим доступа:http: //www.npl .co .uk/science-technology/surface-and-nanoanalysis/services/sputter-yield-values.
57. Kaminsky M. Atomic and ionic impact phenomena on metal surfaces [текст] / M. Kaminsky. Springer-Verlag, 1965. - 413 p.
58. Heide P. Secondary ion mass-spectrometry. An introduction to principles and practices [текст] / P. Heide. New York: J. Wiley and Sons, 2014. - 386 p.
59. Useful Information and Facts about the Practice of Sputtering [текст]. Режим доступа:http ://www. specs. de/cms/upload/PDFs/IQE 11-3 5/sputter-info. pdf.
60. Van Wyk G. N. A formula for the calculation of the sputtering yield of polycrystalline materials [текст] / G.N.Van Wyk, A.H. Lategan // Radiation Effects Letters. - 1982. - V. 68. - P. 107-112.
61. Бериш Р. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой [текст]. В 2 ч. Ч. 1 / Р. Бериш; под ред. Р. Бериша. - Москва: Мир, 1984. - 345 с.
62. Sigmund P. Theory of sputtering. I. Sputtering Yield of Amorphous and Polycrystalline Targets [текст] / P. Sigmund // Physical review. - 1969. - V. 184, № 2.
- P. 383-416.
63. Seah M.P. Sputtering yields of compounds using argon ions [текст] / M.P. Seah, T.S. Nunney // Journal of Physics D: Applied Physics. - 2010. - V. 43. - P. 1-12.
64. Seah M.P. An accurate semi-empirical equation for sputtering yields I: for argon ions [текст] / M.P. Seah [et al.] // Surface and interface analysis. - 2005. - V. 37.
- P. 444-458.
65. Seah M. P. An accurate semi-empirical equation for sputtering yields II: for neon and xenon ions [текст] / M. P. Seah // Nuclear Instrument and methods in physics research B. - 2005. - V. 229. - P. 348-358.
66. Берт Н.А. Основные закономерности распыления GaAs (001) ионами Ar с энергией Ar 1-9 кэВ [текст] / Н.А. Берт [и др.] // Журнал технической физики. - 1992. - Т. 62, № 4. - С. 162-170.
67. Weiss Z. Quantitative Depth Profile Analysis by Glow Discharge Optical Emission Spectrometry: an Alternative Approach [текст] / Z. Weiss // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. - 1995. -V.10. - P. 891-895.
68. Weiss Z. Propagation of uncertainty in multi-matrix analysis by GD-OES [текст] / Z. Weiss // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. - 2001. - V. 16. - P. 1275-1282.
69. Weiss Z. Emission yields and the standard model in glow discharge optical emission spectroscopy: Links to the underlying physics and analytical interpretation of the experimental data [текст] / Z. Weiss // Spectrochimica Acta. Part B. - 2006. - V. 61.
- P. 121-133.
70. Weiss Z. New method of Calibration for Glow Discharge Optical Emission Spectrometry [текст] / Z. Weiss // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. - 1994. - V. 9. - P. 351-354.
71. Weiss Z. Emission yields in glow discharge optical emission spectroscopy
[текст] / Z. Weiss // Spectrochimica Acta. Part B. - 1993. - V. 48, N. 10. - P. 1247¬
1257.
72. Вейс З. Оптическая спектрометрия с тлеющим разрядом (GD-OES) в анализе покрытий [текст] / З. Вейс // Аналитика и контроль. - 2000. - Т. 4, № 3. - С. 232-243.
73. Bengtson A. Further Improvements in Calibration Techniques for Depth Profiling With Glow Discharge Optical Emission Spectrometry [текст] / A. Bengtson [et al.] // Journal of analytical atomic spectrometry. - 1990. - V. 5. - P. 563-567.
74. Winchester M. Availability of layered certified reference materials for industrial application of glow discharge spectrometric depth profiling [текст] / M. Winchester, U. Beck // Surface and Interface Analysis. - 1999. - V.27. - P. 930-935.
75. Weiss Z. Elemental depth profiling of coated and surface-modified materials by GD-OES: hard coatings on cutting tools [текст] / Z. Weiss, K. Marshall // Thin Solid Films. - 1997. - V. 308-309. - P. 382-388.
76. Weiss Z. Zinc-based reference materials for glow discharge optical emission spectrometry: sputter factors and emission yields [текст] / Z. Weiss // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. - 2000. - V. 15. - P. 1485-1492.
77. ГОСТ Р ИСО 16962-2012 Покрытия на основе цинка и/или алюминия на стали. Определение толщины, химического состава и массы покрытия на единицу площади поверхности методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом [текст]. - Введ. 2013-09-01. - Москва: Стандартинформ, 2015. - 24 с.
78. ГОСТ Р ИСО 17925-2012 Покрытия на основе цинка и/или алюминия на стали. Определение химического состава и массы покрытия на единицу площади поверхности. Методы гравиметрический, атомно-эмиссионной спектрометрии с индуктивно связанной плазмой и пламенной атомно-абсорбционной спектрометрии [текст]. - Введ. 2013-09-01. - Москва: Стандартинформ, 2014. - 32 с.
79. Sprygin G.S. Regularities of Application of Glow Discharge Spectrometry for Quantitative Layer_by_Layer Analysis of Thin Coatings [текст] / G.S. Sprygin [et al.] // Inorganic materials. - 2011. - V. 47, № 14. - P. 1584-1591.
80. Jinglin You. Coating thickness determination by cathodic sputtering glow discharge atomic absorption spectrometry (GDAAS) [текст] / You Jinglin [et al.] // Analytical letters. - 1993. - V. 26, N 13. - P. 541-556.
81. Shimizu K. Influence of surface roughness on the depth resolution of GDOES depth profiling analysis [текст] / K. Shimizu [et al.] // Surface and interface analysis. - 1999. - V. 27. - P. 153-156.
82. Shimizu K. Non-uniform sputtering and degradation of depth resolution during GDOES depth profiling analysis of thin anodic alumina films grown over rough substrates [текст] / K. Shimizu [et al.] // Surface and interface analysis. - 1999. - V. 27.
- P. 950-954.
83. Shimizu K. Glow discharge optical emission spectrometry (GDOES) depth profiling analysis of anodic alumina films - a depth resolution study [текст] / K. Shimizu [et al.] // Surface and interface analysis. - 1999. - V. 27. - P. 24-28.
84. Garcia J.A. Depth profiling of industrial surface treatments by rf and dc glow discharge spectrometry [текст] / J.A. Garcia [et al.] // Applied Surface Science. - 2004.
- V. 235. - P. 97-102.
85. Шапон П. Определение общего содержания элементов и анализ слоев с помощью оптической спектроскопии высокочастотного тлеющего разряда [текст] / П. Шапон // Аналитика и контроль. - 2007. - Т.11, № 1. - С. 46-51.
86. Lassu G. Characterization and GD-OES investigation of thin tin electroplated copper substrates used in the electronics industry [текст] / G. Lassu [et al.] // Material science and engineering. - 2014. - V. 39, № 1. - P. 41-50.
87. Lehmberg C.E. Composition and structure of thin electrodeposited zinc¬nickel coatings [текст] / C.E. Lehmberg, D.B. Lewis, G.W. Marshall // Surface & Coatings Technology. - 2005. - V. 192. - P. 269-277.
88. Bengtson A. Development of a Standard Method for Quantitative Depth Profile Analysis of Zinc-based Metallic Coatings by Direct Current Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy [текст] / A. Bengtson [et al.] // Surface and interface analysis. - 1999. - V. 27. - P 743-752.
89. Spiess L. Die Materialcharakterisierungsverfahren
Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA) und Glimmentladungsspektroskopie (GDOES) im Alltag eines Werkstoffprüflabors [текст] / L. Spiess, G. Teichert, M. Wilke // DGZfP- Jahrestagung. - 2010. - V. 1, № 1. - P. 1-8.
90. Klemm D. Analysis of interface impurities in electroplated Cu layers by using GD-OES and TOF-SIMS [текст] / D. Klemm [et al.] // Surface and Interface Analysis. - 2008. - V. 40. - P. 418-422.
91. Wagatsuma K. Analysis of Binary Alloy Surfaces by Low Wattage Glow Discharge Emission Spectrometry [текст] / K. Wagatsuma, K. Hirokawa // Analytical Chemistry. - 1984. - V. 56. - P. 412-536.
92. Ives M. Depth Profile Analysis of Multilayer Ni-Fe Alloy Coatings by Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy (GDOES) and Energy Dispersive X-ray (EDX) Linescan - a Comparative Study [текст] / M. Ives, D.B. Lewis, C. Lehmberg // Surface and interface analysis. - 1997. - V. 25. - P. 191-201.
93. Weiss Z. Depth Profile Analysis of an Electrodeposited Multilayer Structure with Non-uniform Thickness Distribution by Glow Discharge Optical Spectroscopy [текст] / Z. Weiss // Surface and interface analysis. - 1991. - V. 17. - P. 641-645.
94. Manna M. Effect of high temperature oxide scale on steel surface for electroless plating process and characterization of coatings [текст] / M. Manna // Surface and coatings technology. - 2010. - V.204. - P. 1842-1846.
95. Weiss Z. High-temperature Oxidation of Iron Covered by Electroless Ni-P Coating: a GDOS Depth Profiling Study [текст] / Z. Weiss // Surface and interface analysis. - 1992. - V.18. - P. 691-694.
96. Bohmer R.G. Determination of the Sputtering Rate of Electroless Nickel Layers with a Glow Discharge Lamp [текст] / R.G. Bohmer, J.T. Nel // Surface and interface analysis. - 1990. - V. 15. - P. 598-602.
97. Schwaller P. Single-target DC-pulsed deposition of lead zirconate titanate thin films: Investigation of the chemical and mechanical properties by glow-discharge optical emission spectroscopy and nanoindentation [текст] / P. Schwaller [et al.] // Surface & Coatings Technology. - 2005. - V. 200. - P. 1566-1571.
98. Ingo G.M. Study of long-term corrosion layers grown on high-tin leaded bronzes by means of the combined use of GDOES and SEM + EDS [текст] / G.M. Ingo [et al.] // Surface and Interface Analysis. - 2002. - V. 34. - P. 337-342.
99. Ingo G.M. Microchemical study of the corrosion products on ancient bronzes by means of glow discharge optical emission spectrometry [текст] / G.M. Ingo [et al.] // Surface and Interface Analysis. - 2000. - V. 30. - P. 264-268.
100. Quantitative depth profile (QDP) analysis of plated samples [текст] / Spectroscopy performance note. - 2006. - 5 p.
101. Adjustment, Improvement, and Control of a Physical Vapor Deposition (PVD) Process Using Quantitative Depth Profile (QDP) Analysis [текст]. LECO. - 2003. - 10 p.
102. ГОСТ 25142-82. Шероховатость поверхности. Термины и определения [текст]. - Введ. 1983-01-01. - Москва: Изд-во стандартов, 1987. - 20 с.
103. ГОСТ 2789-73. Шероховатость поверхности. Параметры и характеристики [текст]. - Введ. 1975-01-01. - Москва: Издательство стандартов, 2010. - 6 с.
104. Линник Ю.В. Метод наименьших квадратов и основы математико-статистической теории обработки наблюдений [текст] / Линник Ю.В. - Москва: Физматлит, 1958. - 336 с.
105. ОСТ 95 1754-78 Покрытия металлические и неметаллические
неорганические. Химическое никелирование деталей. Типовой технологический процесс [текст]. - Введ. 1976-11-01. - Саров: НКБС, 2010. - 43 с.
106. ОСТ 95 2161-88. Электролиты и растворы никелирования. Методы анализа [текст]. - Введ. 1988-01-01. - Саров: НКБС, 2014. - 70 с.
107. ОСТ 95 2567-88. Покрытия металлические и неметаллические
неорганические. Покрытия сплавами никеля. Методики (методы) определения состава покрытия сплавами никель-железо и никель-фосфор [текст]. - Введ. 1988-01-01. - Саров: НКБС, 2014. - 17 с.
108. ГОСТ 21390-76. Припои оловянно-свинцовые в чушках. Технические условия [текст]. - Введ. 1978-01-01. - Москва: Издательство стандартов, 1992. - 11 с.
109. ГОСТ 860-75. Олово. Технические условия [текст]. - Введ. 1977-01-01. - Москва: Издательство стандартов, 1989. - 11 с.
110. ГОСТ 1429.5-77. Припои оловянно-свинцовые. Методы определения свинца [текст]. - Введ. 1988-01-01. - Москва: Издательство стандартов, 1989. - 27 с.
111. ГОСТ 15483.2-78 Олово. Методы определения висмута [текст]. - Введ.
1980- 01-01. - Москва: Издательство стандартов, 1989. - 5 с.
112. ОСТ 95 1943-78. Покрытия металлические и неметаллические
неорганические. Покрытия сплавом олово-висмут. Типовой технологический процесс [текст]. - Введ. 1979-03-01. - Саров: НКБС, 2014. - 56 с.
113. ОСТ 95 1942-78. Покрытия металлические и неметаллические
неорганические. Покрытия деталей сплавом олово-свинец. Типовой технологический процесс [текст]. - Введ. 1979-03-01. - Саров: НКБС, 2008. - 38 с.
114. ГОСТ 10730-82. Вещества текстильно-вспомогательные. Препарат ОС- 20. Технические условия [текст]. - Введ. 1983-01-01. - Москва: Издательство стандартов, 2010. - 15 с.
115. ГОСТ 3252-80. Клей мездровый. Технические условия [текст]. - Введ.
1981- 01-01. - Москва: Издательство стандартов, 2005. - 17 с.
116. ОСТ 95 2165-88. Электролиты для покрытия оловом и сплавами олово- висмут, олово-свинец. Методы анализа [текст]. - Введ. 1987-01-01. - Саров: НКБС, 2010. - 46 с.
117. ГОСТ 6674.1-96 Сплавы медно-фосфористые. Методы определения фосфора [текст]. - Введ. 2001-07-01. - Москва: Издательство стандартов, 2005. - 7 с.
118. ОСТ 95 1135-79. Покрытия металлические и неметаллические
неорганические. Требования к выбору [текст]. - Введ. 1980-01-01. - Саров: НКБС, 2008. - 47 с.
119. РМГ 61-2010. Рекомендации по межгосударственной стандартизации. Г осударственная система обеспечения единства измерений. Показатели точности, правильности, прецизионности методик количественного химического анализа. Методы оценки [текст]. - Введ. 2012-09-01. - Москва: Издательство стандартов, 2015. - 78 с.
120. ГОСТ 8.315-97. Государственная система обеспечения единства
измерений. Стандартные образцы состава и свойств веществ и материалов. Основные положения [текст]. - Введ. 1998-07-01. - Москва: Издательство
стандартов, 2010. - 25 с.
121. ОСТ 95 2568-88. Покрытия металлические и неметаллические
неорганические. Покрытия сплавами олова. Методики (методы) определения состава покрытий сплавами олово-висмут, олово-свинец, олово-никель, олово- висмут-свинец (сплав Розе) [текст]. - Введ. 1988-01-01. - Саров: НКБС, 2014. - 36 с.
122. ГОСТ 5017-2006. Бронзы оловянные, обрабатываемые давлением. Марки [текст]. - Введ . 2008-01-01. - Москва: Издательство стандартов, 2010. - 5 с.
123. ГОСТ 8.563-2009. Государственная система обеспечения единства измерений. Методики (методы) измерений [текст]. - Введ. 2010-04-15. - Москва: Издательство стандартов, 2010. - 16 с.
124. Самсонов Г. В. Физико-химические свойства элементов. Справочник [текст] / Самсонов Г. В.; под ред. Г. В. Самсонова. - Киев: Наукова думка, 1965. - 807 с.
125. Киттель Ч. Введение в физику твердого тела [текст] / Ч. Киттель. - Москва: Наука, 1978. - 798 с.
126. Зефиров Н. С. Химическая энциклопедия [текст]. В 5 ч. Ч. 4 / Н. С. Зефиров; под ред. Зефирова Н. С. - Москва: Большая российская энциклопедия, 1995. - 641 с.
127. Драпкин Б. М. Об определении энергии сублимации металлов [текст] / Б. М. Драпкин В. А. Руденко // Журнал технической физики. - 1992. - Т. 62, № 9. - С. 125-130.
128. Путилов К. А. Курс физики. В 3 ч. Ч.1. Механика. Акустика. Молекулярная физика. Термодинамика [текст] / К. А. Путилов. - Москва: Государственное издательство физико-математической литературы, 1963. - 560 с.
129. Лучинский Г. П. Курс химии. Учебник для инженерно-технических специальностей (нехимических ВУЗов) [текст] / Г. П. Лучинский. - Москва: Высшая школа. 1985. - 416 с.
130. А.с. 1827603 А1 СССР, О 01 N 25/14. Способ определения сублимации металлов [текст] / Драпкин Б. М., Руденко В. А., Зюзина О. В. - №4907530/25; заявл. 04.02.91; опубл. 15.07.93, Бюл. № 26. - 2 с.
131. Ферстер Э. Методы корреляционного и регрессионного анализа: пер. с нем. [текст] / Э. Ферстер, Б. Ренц. - Москва: Финансы и статистика, 1983. - 302 с.